JP2000347425A - マスクを移動させて位置合わせを行う露光装置 - Google Patents
マスクを移動させて位置合わせを行う露光装置Info
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 マスクを移動させてマスクとワークの位置合
せする露光装置において、ワークアライメントマークが
アライメント顕微鏡の視野からはずれても、マスクとワ
ークの位置合わせを行なうことができるようにするこ
と。 【解決手段】 巻き出しリールＲ１から帯状ワークＷｂ
を引き出してワークステージＷＳに搬送し、アライメン
ト顕微鏡２により、マスクマークＭＡＭ像とワークマー
クＷＡＭ像を検出してマスクＭと帯状ワークＷｂの位置
合わせを行い露光処理を行う。上記位置合わせに際し、
ワークマークＷＡＭがアライメント顕微鏡２の視野内に
なく検出できない場合、マスクステージＭＳとアライメ
ント顕微鏡２を、例えば渦巻き状に移動させてワークマ
ークＷＡＭを探索する。そして、ワークマークＷＡＭが
検出されれば、上記したように、マスクＭと帯状ワーク
Ｗｂの位置合わせを行い露光処理を行う。
せする露光装置において、ワークアライメントマークが
アライメント顕微鏡の視野からはずれても、マスクとワ
ークの位置合わせを行なうことができるようにするこ
と。 【解決手段】 巻き出しリールＲ１から帯状ワークＷｂ
を引き出してワークステージＷＳに搬送し、アライメン
ト顕微鏡２により、マスクマークＭＡＭ像とワークマー
クＷＡＭ像を検出してマスクＭと帯状ワークＷｂの位置
合わせを行い露光処理を行う。上記位置合わせに際し、
ワークマークＷＡＭがアライメント顕微鏡２の視野内に
なく検出できない場合、マスクステージＭＳとアライメ
ント顕微鏡２を、例えば渦巻き状に移動させてワークマ
ークＷＡＭを探索する。そして、ワークマークＷＡＭが
検出されれば、上記したように、マスクＭと帯状ワーク
Ｗｂの位置合わせを行い露光処理を行う。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、ワーク上のアライ
メントマークを顕微鏡によって検出し、マスクとワーク
の位置合わせを行ってマスクパターンをワーク上に露光
する露光装置に関し、さらに詳細には、ワークアライメ
ントマークが検出できていない場合に、ワークを移動さ
せずにマスクを移動させてワークアライメントマークを
探索する機能を備えた露光装置に関するものである。
メントマークを顕微鏡によって検出し、マスクとワーク
の位置合わせを行ってマスクパターンをワーク上に露光
する露光装置に関し、さらに詳細には、ワークアライメ
ントマークが検出できていない場合に、ワークを移動さ
せずにマスクを移動させてワークアライメントマークを
探索する機能を備えた露光装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】ワーク上に各種電子的素子等を形成する
ため、マスクとワークの位置合わせを行ったのち、被処
理物であるワークに、マスクに形成されたパターン（マ
スクパターン）を露光する露光装置が使用される。上記
ワークとマスクの位置合せは、ワークに設けられたワー
クアライメントマーク（以下ワークマークという) とマ
スクに設けられたマスクアライメントマーク（以下、マ
スクマークという）とを、アライメント顕微鏡によって
検出し、両者の位置関係が一致する（例えば重なり合
う) ようにして行なわれる。ワークマークとマスクマー
クは、通常それぞれ２個所に設けられ、通常マスクに対
して平行な平面方向にワークを移動させて位置合せを行
う。上記露光装置としては、1 枚ずつに分割されたワー
ク上にマスクパターンを露光する露光装置（枚葉式の露
光装置という) 、あるいは、帯状のフィルムワーク（帯
状ワーク) を移動させながら、ワーク上にマスクバター
ンを順次露光する露光装置（帯状ワークの露光装置とい
う) が知られている。
ため、マスクとワークの位置合わせを行ったのち、被処
理物であるワークに、マスクに形成されたパターン（マ
スクパターン）を露光する露光装置が使用される。上記
ワークとマスクの位置合せは、ワークに設けられたワー
クアライメントマーク（以下ワークマークという) とマ
スクに設けられたマスクアライメントマーク（以下、マ
スクマークという）とを、アライメント顕微鏡によって
検出し、両者の位置関係が一致する（例えば重なり合
う) ようにして行なわれる。ワークマークとマスクマー
クは、通常それぞれ２個所に設けられ、通常マスクに対
して平行な平面方向にワークを移動させて位置合せを行
う。上記露光装置としては、1 枚ずつに分割されたワー
ク上にマスクパターンを露光する露光装置（枚葉式の露
光装置という) 、あるいは、帯状のフィルムワーク（帯
状ワーク) を移動させながら、ワーク上にマスクバター
ンを順次露光する露光装置（帯状ワークの露光装置とい
う) が知られている。
【０００３】以下、従来の枚葉式の露光装置、帯状ワー
クの露光装置について説明する。 （１）枚葉式の露光装置 図６に枚葉式の露光装置の概略構成を示す。同図に示す
ように、基台１上に、ワークステージＷＳがワークステ
ージ移動機構１０を介してＸＹθ方向（Ｘは例えば同図
の左右方向、Ｙは同図紙面に垂直な方向、θはＸＹ平面
に垂直な軸を中心とした回転）に移動可能に載置され
る。マスクＭを保持するマスクステージＭＳは基台１に
固定される。また、アライメント顕微鏡２はアライメン
トマーク検出時に挿入・退避する機構（不図示) を介し
て、基台１に固定される。
クの露光装置について説明する。 （１）枚葉式の露光装置 図６に枚葉式の露光装置の概略構成を示す。同図に示す
ように、基台１上に、ワークステージＷＳがワークステ
ージ移動機構１０を介してＸＹθ方向（Ｘは例えば同図
の左右方向、Ｙは同図紙面に垂直な方向、θはＸＹ平面
に垂直な軸を中心とした回転）に移動可能に載置され
る。マスクＭを保持するマスクステージＭＳは基台１に
固定される。また、アライメント顕微鏡２はアライメン
トマーク検出時に挿入・退避する機構（不図示) を介し
て、基台１に固定される。
【０００４】マスクＭにはマスクマークＭＡＭが、ワー
クＷにはワークマークＷＡＭが、それぞれ２個所に設け
られており、アライメント顕微鏡２により上記マスクマ
ークＭＡＭ像、ワークマークＷＡＭ像を受像して、マス
クＭとワークＷの位置合わせを行う。マスクステージＭ
Ｓとアライメント顕微鏡２上には光照射部３が設けられ
ており、露光時、光照射部３から露光光を含む光を照射
してマスクに形成されているマスクパターンをワークＷ
上に露光する。
クＷにはワークマークＷＡＭが、それぞれ２個所に設け
られており、アライメント顕微鏡２により上記マスクマ
ークＭＡＭ像、ワークマークＷＡＭ像を受像して、マス
クＭとワークＷの位置合わせを行う。マスクステージＭ
Ｓとアライメント顕微鏡２上には光照射部３が設けられ
ており、露光時、光照射部３から露光光を含む光を照射
してマスクに形成されているマスクパターンをワークＷ
上に露光する。
【０００５】上記構成の露光装置において、露光処理は
次のように行われる。ワークステージＷＳにワークＷが
載置されると、アライメント顕微鏡２によりマスクマー
クＭＡＭとワークマークＷＡＭとを検出する。そして、
両者の位置関係が一致するように、ワークステージＷＳ
をワークステージ移動機構１０によってＸＹθ方向に移
動させる。マスクＭとワークＷの位置合せが終了する
と、光照射部３より露光光を含む光を照射し、マスクパ
ターンをワークＷ上に投影・結像させて露光を行なう。
ここで、上記ワークマークＷＡＭの検出に際して、例え
ばワークＷを搬送する精度が悪いと、ワークＷがワーク
ステージＷＳに載置されたとき、アライメント顕微鏡２
の視野の中にワークマークが入らない場合がある。その
ような場合は、ワークＷ（ワークステージＷＳ）を移動
させて、ワークマークを探索することが行われる。
次のように行われる。ワークステージＷＳにワークＷが
載置されると、アライメント顕微鏡２によりマスクマー
クＭＡＭとワークマークＷＡＭとを検出する。そして、
両者の位置関係が一致するように、ワークステージＷＳ
をワークステージ移動機構１０によってＸＹθ方向に移
動させる。マスクＭとワークＷの位置合せが終了する
と、光照射部３より露光光を含む光を照射し、マスクパ
ターンをワークＷ上に投影・結像させて露光を行なう。
ここで、上記ワークマークＷＡＭの検出に際して、例え
ばワークＷを搬送する精度が悪いと、ワークＷがワーク
ステージＷＳに載置されたとき、アライメント顕微鏡２
の視野の中にワークマークが入らない場合がある。その
ような場合は、ワークＷ（ワークステージＷＳ）を移動
させて、ワークマークを探索することが行われる。
【０００６】ワークを移動させてワークマークを探索す
る方法としては、例えば、特開平１０−２２２０１号公
報に記載されているように、ワークステージの移動によ
って、アライメント顕微鏡の視野に応じた９つの領域
を、順番に渦巻き状に探索する方法が良く知られてい
る。図７は上記渦巻き状の探索手順の例である。アライ
メント顕微鏡の視野は、例えば１．５ｍｍ角であり、ア
ライメント顕微鏡を中心として、ワークステージを図７
の〜の順番で渦巻き状に移動させ、ワークマークが
検出されるまで探索する。
る方法としては、例えば、特開平１０−２２２０１号公
報に記載されているように、ワークステージの移動によ
って、アライメント顕微鏡の視野に応じた９つの領域
を、順番に渦巻き状に探索する方法が良く知られてい
る。図７は上記渦巻き状の探索手順の例である。アライ
メント顕微鏡の視野は、例えば１．５ｍｍ角であり、ア
ライメント顕微鏡を中心として、ワークステージを図７
の〜の順番で渦巻き状に移動させ、ワークマークが
検出されるまで探索する。
【０００７】この場合、ワークマークがアライメント顕
微鏡の視野の境界にある場合でも検出できるように、通
常、探索する領域が重複するようにワークステージを移
動させる。重複する領域の幅は、アライメント顕微鏡の
視野に合せて、適宜設定する。上記の場合例えば８００
〜５００μｍ程度の幅で設定される。図７の〜の探
索でワークマークが検出されない場合は、ワークマーク
を設ける作業自体にエラーがあったと考え、ワークマー
ク検出不可能の異常として装置の処理が停止する。
微鏡の視野の境界にある場合でも検出できるように、通
常、探索する領域が重複するようにワークステージを移
動させる。重複する領域の幅は、アライメント顕微鏡の
視野に合せて、適宜設定する。上記の場合例えば８００
〜５００μｍ程度の幅で設定される。図７の〜の探
索でワークマークが検出されない場合は、ワークマーク
を設ける作業自体にエラーがあったと考え、ワークマー
ク検出不可能の異常として装置の処理が停止する。
【０００８】（２）帯状ワークの露光装置 帯状ワークには、例えば、有機化合物の長いフィルム、
薄物金属等の長尺連続ワークなどがあり、帯状ワークの
露光は、ワークをロール状に巻いた状態から引き出して
露光し、再びロールに巻き取る方法で行われる。最近、
帯状ワークとして、厚いもの（ワーク厚みｔ＝１５０μ
ｍ以上、例えば２５０μｍのものが良く使用される) 、
樹脂製のフィルム上に銅箔が張られているものなど、い
わゆる「 こしの強い」 ものが使われるようになってき
た。このようなワークの場合、マスクとワークの位置合
せにおいて、ワークを移動させないで、マスクを移動さ
せる方法が取られる場合がある。
薄物金属等の長尺連続ワークなどがあり、帯状ワークの
露光は、ワークをロール状に巻いた状態から引き出して
露光し、再びロールに巻き取る方法で行われる。最近、
帯状ワークとして、厚いもの（ワーク厚みｔ＝１５０μ
ｍ以上、例えば２５０μｍのものが良く使用される) 、
樹脂製のフィルム上に銅箔が張られているものなど、い
わゆる「 こしの強い」 ものが使われるようになってき
た。このようなワークの場合、マスクとワークの位置合
せにおいて、ワークを移動させないで、マスクを移動さ
せる方法が取られる場合がある。
【０００９】すなわち、ワークを移動させようとする
と、ワークが厚いために移動させようとする反対の方向
にワークの復元力が働く。この復元力に対抗するため
に、ワークステージは大きな力をかけて移動させなけれ
ばならないので、ワークステージ移動機構が大型化し、
装置全体も大型化する。また、ワークをワークステージ
に保持する力（例えば、真空吸着によってワークを保持
する力）が該復元力に負けて、ワークがワークステージ
からはずれてしまい、位置合せができないということが
ある。このような帯状ワークの場合には、マスクを移動
させてマスクとワークの位置合せを行なう。
と、ワークが厚いために移動させようとする反対の方向
にワークの復元力が働く。この復元力に対抗するため
に、ワークステージは大きな力をかけて移動させなけれ
ばならないので、ワークステージ移動機構が大型化し、
装置全体も大型化する。また、ワークをワークステージ
に保持する力（例えば、真空吸着によってワークを保持
する力）が該復元力に負けて、ワークがワークステージ
からはずれてしまい、位置合せができないということが
ある。このような帯状ワークの場合には、マスクを移動
させてマスクとワークの位置合せを行なう。
【００１０】図８に、マスクを移動させて位置合せを行
なう帯状ワークの露光装置の概略構成例を示す。同図に
示すように、基台１上にワークステージＷＳが取り付け
られ、また、基台１には帯状ワークＷｂを搬送するため
のドライブローラＤＲ、押さえローラＳＲ、ブレーキロ
ーラＢＲ、ガイドローラＧＲ１，ＧＲ２が設けられてい
る。巻き出しリールＲ１には未露光の帯状ワークＷｂが
巻かれており、露光時、巻き出しリールＲ１から引き出
されてワークステージＷＳ上に搬送され、帯状ワーク上
の所定の各領域（以下露光領域という）が露光される。
露光済の帯状ワークＷｂは巻き取りリールＲ２に巻き取
られる。
なう帯状ワークの露光装置の概略構成例を示す。同図に
示すように、基台１上にワークステージＷＳが取り付け
られ、また、基台１には帯状ワークＷｂを搬送するため
のドライブローラＤＲ、押さえローラＳＲ、ブレーキロ
ーラＢＲ、ガイドローラＧＲ１，ＧＲ２が設けられてい
る。巻き出しリールＲ１には未露光の帯状ワークＷｂが
巻かれており、露光時、巻き出しリールＲ１から引き出
されてワークステージＷＳ上に搬送され、帯状ワーク上
の所定の各領域（以下露光領域という）が露光される。
露光済の帯状ワークＷｂは巻き取りリールＲ２に巻き取
られる。
【００１１】アライメント顕微鏡２はアライメントマー
ク検出時に挿入・退避する機構（不図示) を介して、基
台１に固定されている。また、マスクＭは、マスクステ
ージＭＳに取り付けられる。この例の場合、位置合わせ
に際し、帯状ワークＷｂを移動させずマスクＭを移動さ
せるので、ワークステージＷＳにはワークステージＷＳ
を移動させるためのワークステージ移動機構は設けられ
ていない。その代わり、マスクステージＭＳはマスクス
テージ移動機構４を介して基台１に取り付けられてお
り、マスクステージＭＳはＸＹθ方向に移動する。マス
クＭにはマスクマークＭＡＭが２個所設けられ、また帯
状ワークＷｂの各露光領域にはワークマークＷＡＭが２
個所に設けられており、アライメント顕微鏡２により上
記マスクマークＭＡＭ像、ワークマークＷＡＭ像を受像
して、マスクＭを移動させマスクＭと帯状ワークＷｂの
位置合わせを行う。マスクステージＭＳとアライメント
顕微鏡２上には光照射部３が設けられており、露光時、
光照射部３から露光光を含む光を照射してマスクパター
ンを帯状ワークＷｂの各露光領域を露光する。
ク検出時に挿入・退避する機構（不図示) を介して、基
台１に固定されている。また、マスクＭは、マスクステ
ージＭＳに取り付けられる。この例の場合、位置合わせ
に際し、帯状ワークＷｂを移動させずマスクＭを移動さ
せるので、ワークステージＷＳにはワークステージＷＳ
を移動させるためのワークステージ移動機構は設けられ
ていない。その代わり、マスクステージＭＳはマスクス
テージ移動機構４を介して基台１に取り付けられてお
り、マスクステージＭＳはＸＹθ方向に移動する。マス
クＭにはマスクマークＭＡＭが２個所設けられ、また帯
状ワークＷｂの各露光領域にはワークマークＷＡＭが２
個所に設けられており、アライメント顕微鏡２により上
記マスクマークＭＡＭ像、ワークマークＷＡＭ像を受像
して、マスクＭを移動させマスクＭと帯状ワークＷｂの
位置合わせを行う。マスクステージＭＳとアライメント
顕微鏡２上には光照射部３が設けられており、露光時、
光照射部３から露光光を含む光を照射してマスクパター
ンを帯状ワークＷｂの各露光領域を露光する。
【００１２】上記構成の露光装置において、露光処理は
次のように行われる。巻き出しリールＲ１から引き出さ
れた帯状ワークＷｂは、ドライブローラＤＲが回転する
ことにより、図面右方向に所定量搬送される。帯状ワー
クＷｂの露光領域が、ワークステージＷＳ上の所定の位
置に来る。帯状ワークＷｂをワークステージＷＳに真空
吸着等によって固定する。アライメント顕微鏡２を挿入
する。アライメント顕微鏡２によりマスクマーク像ＭＡ
Ｍとワークマーク像を受像し、図示しない画像処理部に
送りマスクマークＭＡＭとワークマークＷＡＭの位置を
検出する。これらの位置データは図示しない制御部に送
られ、制御部はマスクマークＭＡＭとワークマークＷＡ
Ｍとが重なり合うように、マスクステージＭＳをＸＹθ
方向に移動させ、マスクＭと帯状ワークＷｂの位置合わ
せを行なう。
次のように行われる。巻き出しリールＲ１から引き出さ
れた帯状ワークＷｂは、ドライブローラＤＲが回転する
ことにより、図面右方向に所定量搬送される。帯状ワー
クＷｂの露光領域が、ワークステージＷＳ上の所定の位
置に来る。帯状ワークＷｂをワークステージＷＳに真空
吸着等によって固定する。アライメント顕微鏡２を挿入
する。アライメント顕微鏡２によりマスクマーク像ＭＡ
Ｍとワークマーク像を受像し、図示しない画像処理部に
送りマスクマークＭＡＭとワークマークＷＡＭの位置を
検出する。これらの位置データは図示しない制御部に送
られ、制御部はマスクマークＭＡＭとワークマークＷＡ
Ｍとが重なり合うように、マスクステージＭＳをＸＹθ
方向に移動させ、マスクＭと帯状ワークＷｂの位置合わ
せを行なう。
【００１３】位置合せが終了すると、アライメント顕微
鏡２を退避させ、光照射部３から露光光を含む光を照射
し、マスクＭに形成されたマスクパターンを帯状ワーク
Ｗｂ上に投影・結像させて露光を行なう。露光処理が終
了すると、光照射部３からの露光光を含む光の照射を停
止し、ワークステージＷＳの真空吸着を解除し、ドライ
ブローラＤＲを駆動し、帯状ワークＷｂの次の露光領域
がワークステージＷＳの所定の位置に来るまで、帯状ワ
ークＷｂを移動させる。
鏡２を退避させ、光照射部３から露光光を含む光を照射
し、マスクＭに形成されたマスクパターンを帯状ワーク
Ｗｂ上に投影・結像させて露光を行なう。露光処理が終
了すると、光照射部３からの露光光を含む光の照射を停
止し、ワークステージＷＳの真空吸着を解除し、ドライ
ブローラＤＲを駆動し、帯状ワークＷｂの次の露光領域
がワークステージＷＳの所定の位置に来るまで、帯状ワ
ークＷｂを移動させる。
【００１４】
【発明が解決しようとする課題】帯状ワークＷｂは、上
記したように、例えばドライブローラＤＲの回転により
搬送される。しかし、帯状ワークＷｂは、搬送精度、停
止精度、また搬送時のわずかな蛇行といった問題のため
に、ワークステージＷＳに対して微妙な位置ずれを生じ
る場合がある。また、前工程でワークマークＷＡＭを設
ける装置の精度の問題により、ワークマークＷＡＭの帯
状ワークＷｂに対する位置が元々ずれている場合もあ
る。このような場合、帯状ワークＷｂの搬送停止後、設
定された位置にアライメント顕微鏡２を挿入しても、ワ
ークマークＷＡＭがアライメント顕微鏡２の視野からは
ずれている、すなわちワークマークＷＡＭが検出できな
い場合が生ずる。このような場合、帯状ワークＷｂを移
動させることができれば、前記した図７で説明したよう
に渦巻き状探索を行いワークマークＷＡＭを探索するこ
とが可能である。
記したように、例えばドライブローラＤＲの回転により
搬送される。しかし、帯状ワークＷｂは、搬送精度、停
止精度、また搬送時のわずかな蛇行といった問題のため
に、ワークステージＷＳに対して微妙な位置ずれを生じ
る場合がある。また、前工程でワークマークＷＡＭを設
ける装置の精度の問題により、ワークマークＷＡＭの帯
状ワークＷｂに対する位置が元々ずれている場合もあ
る。このような場合、帯状ワークＷｂの搬送停止後、設
定された位置にアライメント顕微鏡２を挿入しても、ワ
ークマークＷＡＭがアライメント顕微鏡２の視野からは
ずれている、すなわちワークマークＷＡＭが検出できな
い場合が生ずる。このような場合、帯状ワークＷｂを移
動させることができれば、前記した図７で説明したよう
に渦巻き状探索を行いワークマークＷＡＭを探索するこ
とが可能である。
【００１５】図６に示したようにワークを移動させてワ
ークマークＷＡＭを探索する場合には、アライメント顕
微鏡２とマスクＭとは移動しないので、マスクマークＭ
ＡＭとアライメント顕微鏡２との相対位置は変化しな
い。したがって、ワークマークＷＡＭが検出されれば位
置合せが可能である。しかしながら、図８に示したよう
にアライメント顕微鏡２が固定され、マスクＭを移動さ
せてマスクＭと帯状ワークＷｂを位置合せする装置の場
合、ワークマークＷＡＭがアライメント顕微鏡２の検出
範囲から外れたとしても、帯状ワークＷｂを移動させる
ことができないので、前記したワークを移動させる渦巻
き状探索ができない。したがって、この場合にはマスク
とワークの位置合せができない。
ークマークＷＡＭを探索する場合には、アライメント顕
微鏡２とマスクＭとは移動しないので、マスクマークＭ
ＡＭとアライメント顕微鏡２との相対位置は変化しな
い。したがって、ワークマークＷＡＭが検出されれば位
置合せが可能である。しかしながら、図８に示したよう
にアライメント顕微鏡２が固定され、マスクＭを移動さ
せてマスクＭと帯状ワークＷｂを位置合せする装置の場
合、ワークマークＷＡＭがアライメント顕微鏡２の検出
範囲から外れたとしても、帯状ワークＷｂを移動させる
ことができないので、前記したワークを移動させる渦巻
き状探索ができない。したがって、この場合にはマスク
とワークの位置合せができない。
【００１６】本発明は上記した事情に鑑みなされたもの
であって、その目的とするところは、マスクを移動させ
てマスクとワークの位置合せする露光装置において、ワ
ークアライメントマークがアライメント顕微鏡の視野か
らはずれても、ワークアライメントマークを探索し、検
出後マスクとワークの位置合わせを行なうことができる
露光装置を提供することである。
であって、その目的とするところは、マスクを移動させ
てマスクとワークの位置合せする露光装置において、ワ
ークアライメントマークがアライメント顕微鏡の視野か
らはずれても、ワークアライメントマークを探索し、検
出後マスクとワークの位置合わせを行なうことができる
露光装置を提供することである。
【００１７】
【課題を解決するための手段】上記課題を本発明におい
ては、次のようにして解決する。 （１）マスクに形成されたマスクアライメントマークと
ワークに形成されたワークアライメントマークとを、ア
ライメント顕微鏡によって検出し、マスクとワークの位
置合わせを行ない、マスクに形成されたパターンをワー
クに転写する露光装置において、上記マスクを保持する
マスクステージを移動させるマスクステージ移動手段
と、上記マスクステージと一体構造のアライメント顕微
鏡と、上記マスクを移動させてマスクとワークの位置合
わせを行う制御手段とを設ける。上記制御手段は、上記
アライメント顕微鏡によるアライメントマークの検出に
際し、ワークアライメントマークがアライメント顕微鏡
の視野内にはいらないとき、上記マスクステージと、ア
ライメント顕微鏡とを一体に移動させて、ワークアライ
メントマークを探索する。そして、アライメント顕微鏡
の視野内にマスクアライメントマークとワークアライメ
ントマークが入ったら、マスクステージを移動させてマ
スクとワークの位置合わせを行う。 （２）マスクに形成されたマスクアライメントマークと
ワークに形成されたワークアライメントマークとを、ア
ライメント顕微鏡によって検出し、マスクとワークの位
置合わせを行ない、マスクに形成されたパターンをワー
クに転写する露光装置において、上記マスクを保持する
マスクステージを移動させるマスクステージ移動手段
と、上記アライメント顕微鏡移動手段と、上記マスクを
移動させてマスクとワークの位置合わせを行う制御手段
とを設ける。上記制御手段は、上記アライメント顕微鏡
によるアライメントマークの検出に際し、ワークアライ
メントマークがアライメント顕微鏡の視野内にはいらな
いとき、上記アライメント顕微鏡を移動させて、ワーク
アライメントマークを探索する。そして、ワークアライ
メントマーク検出後、アライメント顕微鏡が移動した距
離と同じ距離だけマスクを移動させ、アライメント顕微
鏡の視野内にマスクアライメントマークとワークアライ
メントマークが入ったら、マスクステージを移動させて
マスクとワークの位置合わせを行う。
ては、次のようにして解決する。 （１）マスクに形成されたマスクアライメントマークと
ワークに形成されたワークアライメントマークとを、ア
ライメント顕微鏡によって検出し、マスクとワークの位
置合わせを行ない、マスクに形成されたパターンをワー
クに転写する露光装置において、上記マスクを保持する
マスクステージを移動させるマスクステージ移動手段
と、上記マスクステージと一体構造のアライメント顕微
鏡と、上記マスクを移動させてマスクとワークの位置合
わせを行う制御手段とを設ける。上記制御手段は、上記
アライメント顕微鏡によるアライメントマークの検出に
際し、ワークアライメントマークがアライメント顕微鏡
の視野内にはいらないとき、上記マスクステージと、ア
ライメント顕微鏡とを一体に移動させて、ワークアライ
メントマークを探索する。そして、アライメント顕微鏡
の視野内にマスクアライメントマークとワークアライメ
ントマークが入ったら、マスクステージを移動させてマ
スクとワークの位置合わせを行う。 （２）マスクに形成されたマスクアライメントマークと
ワークに形成されたワークアライメントマークとを、ア
ライメント顕微鏡によって検出し、マスクとワークの位
置合わせを行ない、マスクに形成されたパターンをワー
クに転写する露光装置において、上記マスクを保持する
マスクステージを移動させるマスクステージ移動手段
と、上記アライメント顕微鏡移動手段と、上記マスクを
移動させてマスクとワークの位置合わせを行う制御手段
とを設ける。上記制御手段は、上記アライメント顕微鏡
によるアライメントマークの検出に際し、ワークアライ
メントマークがアライメント顕微鏡の視野内にはいらな
いとき、上記アライメント顕微鏡を移動させて、ワーク
アライメントマークを探索する。そして、ワークアライ
メントマーク検出後、アライメント顕微鏡が移動した距
離と同じ距離だけマスクを移動させ、アライメント顕微
鏡の視野内にマスクアライメントマークとワークアライ
メントマークが入ったら、マスクステージを移動させて
マスクとワークの位置合わせを行う。
【００１８】本発明の請求項１，２の発明においては、
ワークアライメントマークがアライメント顕微鏡の視野
内にはいらないとき、上記のようにアライメント顕微鏡
およびマスクを移動させてワークアライメントマークを
探索するようにしたので、例えば前記した帯状ワークの
ようにワークを移動できない場合であってもワークアラ
イメントマークを検出し位置合わせを行うことが可能と
なる。また、マスクを保持するマスクステージとアライ
メント顕微鏡を一体構造としアライメント顕微鏡との相
対位置の変化がないようにすれば、簡単な機構でワーク
アライメントマークを探索することができる。
ワークアライメントマークがアライメント顕微鏡の視野
内にはいらないとき、上記のようにアライメント顕微鏡
およびマスクを移動させてワークアライメントマークを
探索するようにしたので、例えば前記した帯状ワークの
ようにワークを移動できない場合であってもワークアラ
イメントマークを検出し位置合わせを行うことが可能と
なる。また、マスクを保持するマスクステージとアライ
メント顕微鏡を一体構造としアライメント顕微鏡との相
対位置の変化がないようにすれば、簡単な機構でワーク
アライメントマークを探索することができる。
【００１９】
【発明の実施の形態】図１は本発明の第１の実施例の露
光装置の全体構成を示す図である。なお、以下の説明で
は帯状ワークの露光装置について説明するが、本発明の
適用対象は帯状ワークの露光装置に限定されるものでは
なく、前記した枚葉式の露光装置にも適用することがで
きる。図１において、基台１上にワークステージＷＳが
取り付けられ、また、基台１には帯状ワークＷｂを搬送
するためのドライブローラＤＲ、押さえローラＳＲ、ブ
レーキローラＢＲ、ガイドローラＧＲ１，ＧＲ２が設け
られている。巻き出しリールＲ１には未露光の帯状ワー
クＷｂが巻かれており、露光時、巻き出しリールＲ１か
ら引き出されてワークステージＷＳ上に搬送され、帯状
ワーク上の各露光領域が露光される。露光済の帯状ワー
クＷｂは巻き取りリールＲ２に巻き取られる。
光装置の全体構成を示す図である。なお、以下の説明で
は帯状ワークの露光装置について説明するが、本発明の
適用対象は帯状ワークの露光装置に限定されるものでは
なく、前記した枚葉式の露光装置にも適用することがで
きる。図１において、基台１上にワークステージＷＳが
取り付けられ、また、基台１には帯状ワークＷｂを搬送
するためのドライブローラＤＲ、押さえローラＳＲ、ブ
レーキローラＢＲ、ガイドローラＧＲ１，ＧＲ２が設け
られている。巻き出しリールＲ１には未露光の帯状ワー
クＷｂが巻かれており、露光時、巻き出しリールＲ１か
ら引き出されてワークステージＷＳ上に搬送され、帯状
ワーク上の各露光領域が露光される。露光済の帯状ワー
クＷｂは巻き取りリールＲ２に巻き取られる。
【００２０】マスクＭを保持するマスクステージＭＳ
は、マスクステージ移動機構４を介して基台１に取り付
けられており、マスクステージＭＳはマスクステージ駆
動装置１１により駆動されＸＹθ方向に移動する。アラ
イメント顕微鏡２は、アライメントマーク検出時にアラ
イメント顕微鏡２を挿入・退避させる顕微鏡駆動部材
（不図示) を介して、上記マスクステージＭＳ上に取り
付けられている。マスクＭには前記したようにマスクマ
ークＭＡＭが２個所設けられ、また帯状ワークＷｂの各
露光領域にはワークマークＷＡＭが２個所に設けられて
おり、アライメント顕微鏡２により上記マスクマークＭ
ＡＭ像、ワークマークＷＡＭ像を受像してマスクＭを移
動させマスクＭと帯状ワークＷｂの位置合わせを行う。
は、マスクステージ移動機構４を介して基台１に取り付
けられており、マスクステージＭＳはマスクステージ駆
動装置１１により駆動されＸＹθ方向に移動する。アラ
イメント顕微鏡２は、アライメントマーク検出時にアラ
イメント顕微鏡２を挿入・退避させる顕微鏡駆動部材
（不図示) を介して、上記マスクステージＭＳ上に取り
付けられている。マスクＭには前記したようにマスクマ
ークＭＡＭが２個所設けられ、また帯状ワークＷｂの各
露光領域にはワークマークＷＡＭが２個所に設けられて
おり、アライメント顕微鏡２により上記マスクマークＭ
ＡＭ像、ワークマークＷＡＭ像を受像してマスクＭを移
動させマスクＭと帯状ワークＷｂの位置合わせを行う。
【００２１】図２は上記アライメント顕微鏡の構成例を
示す図である。アライメント顕微鏡２は、同図に示すよ
うに、ＣＣＤ等から構成される受像素子２ａ，照明光源
２ｂ、ミラー２ｃ，２ｄ、ハーフミラー２ｅ、レンズ２
ｆを備えている。照明光源２ｂから照射される照明光
は、ミラー２ｃ→ハーフミラー２ｅ→レンズ２ｆ→ミラ
ー２ｄを介して、マスクＭ上に記されたマスクマークＭ
ＡＭとワークマークＷＡＭとに照射され、これらを照明
する。マスクマークＭＡＭ像とワークマークＷＡＭ像
は、ミラー２ｄに反射され、レンズ２ｆ、ハーフミラー
２ｅを透過し、受像素子２ａで受像される。受像素子２
ａにより受像されたマスクマークＭＡＭ像とワークマー
クＷＡＭ像は画像処理部２０に送られて画像処理され、
モニタ２１に表示されるとともに、それらの位置データ
が検出される。検出された位置データは制御部２２に送
られる。
示す図である。アライメント顕微鏡２は、同図に示すよ
うに、ＣＣＤ等から構成される受像素子２ａ，照明光源
２ｂ、ミラー２ｃ，２ｄ、ハーフミラー２ｅ、レンズ２
ｆを備えている。照明光源２ｂから照射される照明光
は、ミラー２ｃ→ハーフミラー２ｅ→レンズ２ｆ→ミラ
ー２ｄを介して、マスクＭ上に記されたマスクマークＭ
ＡＭとワークマークＷＡＭとに照射され、これらを照明
する。マスクマークＭＡＭ像とワークマークＷＡＭ像
は、ミラー２ｄに反射され、レンズ２ｆ、ハーフミラー
２ｅを透過し、受像素子２ａで受像される。受像素子２
ａにより受像されたマスクマークＭＡＭ像とワークマー
クＷＡＭ像は画像処理部２０に送られて画像処理され、
モニタ２１に表示されるとともに、それらの位置データ
が検出される。検出された位置データは制御部２２に送
られる。
【００２２】制御部２２は、位置合わせ手段２２ａとア
ライメントマーク探索手段２２ｂとを備えており、位置
合わせ手段２２ａは、マスクマークＭＡＭとワークマー
クＷＡＭとが重なり合うようにマスクステージ駆動装置
１１によりマスクステージＭＳをＸＹθ方向に移動さ
せ、マスクＭと帯状ワークＷｂの位置合わせを行なう。
また、アライメントマーク探索手段２２ｂは、後述する
ようにワークマークＷＡＭがアライメント顕微鏡２の検
出範囲から外れたとき、マスクステージ駆動装置１１に
よりマスクステージＭＳを渦巻き状に移動させてワーク
マークＷＡＭを探索する。
ライメントマーク探索手段２２ｂとを備えており、位置
合わせ手段２２ａは、マスクマークＭＡＭとワークマー
クＷＡＭとが重なり合うようにマスクステージ駆動装置
１１によりマスクステージＭＳをＸＹθ方向に移動さ
せ、マスクＭと帯状ワークＷｂの位置合わせを行なう。
また、アライメントマーク探索手段２２ｂは、後述する
ようにワークマークＷＡＭがアライメント顕微鏡２の検
出範囲から外れたとき、マスクステージ駆動装置１１に
よりマスクステージＭＳを渦巻き状に移動させてワーク
マークＷＡＭを探索する。
【００２３】上記マスクステージ移動機構１１として
は、マスクステージＭＳをＸＹθ方向に移動させること
ができる種々の構造のものを用いることができ、例え
ば、特開平８−２５１６３号公報に示されるステージ装
置を用いることができる。図３、図４はマスクステージ
移動機構１１の構成例を示す図であり、図３は上面から
見た図（図４のＢ−Ｂ方向から見た図）、図４は図３の
Ａ−Ａ断面図である。なお、図４においては駆動装置の
細部が省略されている）。図３、図４において、３０は
ベースであり、ベース３０は前記した基台１に固定され
ている。ベース３０上には平面案内部４０（図４参照）
を介してマスクステージＭＳが載置されており、マスク
ステージＭＳはベース３０上をＸＹθ方向に移動可能で
ある。
は、マスクステージＭＳをＸＹθ方向に移動させること
ができる種々の構造のものを用いることができ、例え
ば、特開平８−２５１６３号公報に示されるステージ装
置を用いることができる。図３、図４はマスクステージ
移動機構１１の構成例を示す図であり、図３は上面から
見た図（図４のＢ−Ｂ方向から見た図）、図４は図３の
Ａ−Ａ断面図である。なお、図４においては駆動装置の
細部が省略されている）。図３、図４において、３０は
ベースであり、ベース３０は前記した基台１に固定され
ている。ベース３０上には平面案内部４０（図４参照）
を介してマスクステージＭＳが載置されており、マスク
ステージＭＳはベース３０上をＸＹθ方向に移動可能で
ある。
【００２４】マスクステージＭＳ上にはアライメント顕
微鏡２を支持するためのフレーム３１が立設しており、
フレーム３１上に顕微鏡駆動部材３２を介してアライメ
ント顕微鏡２が取り付けられている。顕微鏡駆動部材３
２は、前記したようにアライメントマーク検出時に、同
図の矢印方向にアライメント顕微鏡２を挿入し、またア
ライメント終了後、アライメント顕微鏡２を退避させ
る。マスクステージＭＳの下側には、マスクマークＭＡ
ＭとマスクパターンＭＰを備えたマスクＭが真空吸着機
構等により取り付けられる。
微鏡２を支持するためのフレーム３１が立設しており、
フレーム３１上に顕微鏡駆動部材３２を介してアライメ
ント顕微鏡２が取り付けられている。顕微鏡駆動部材３
２は、前記したようにアライメントマーク検出時に、同
図の矢印方向にアライメント顕微鏡２を挿入し、またア
ライメント終了後、アライメント顕微鏡２を退避させ
る。マスクステージＭＳの下側には、マスクマークＭＡ
ＭとマスクパターンＭＰを備えたマスクＭが真空吸着機
構等により取り付けられる。
【００２５】図３において、３４はマスクステージＭＳ
をＹ軸方向に駆動するＹ軸駆動機素であり、Ｙ軸駆動機
素３４はネジ等によりベース３０に固定されている。ま
た、３４ａはモータ、３４ｂはエンコーダ、３４ｃは回
転／直動変換機構、３４ｄは同図の上下方向に移動する
駆動ガイドである。駆動ガイド３４ｄの先端は、マスク
ステージＭＳのＹ軸ローラ保持部材３５に取り付けられ
たローラ３５ｃに接している。３６はマスクステージＭ
ＳをＹ軸方向に駆動するＹ’軸駆動機素であり、Ｙ’軸
駆動機素３６は上記Ｙ軸駆動機素３４と同様の構成を備
えており、３６ａはモータ、３６ｂはエンコーダ、３６
ｃは回転／直動変換機構、３６ｄは同図の上下方向に移
動する駆動ガイドである。駆動ガイド３６ｄの先端は、
マスクステージＭＳのＹ’軸ローラ保持部材３７に取り
付けられたローラ３７ｃに接している。
をＹ軸方向に駆動するＹ軸駆動機素であり、Ｙ軸駆動機
素３４はネジ等によりベース３０に固定されている。ま
た、３４ａはモータ、３４ｂはエンコーダ、３４ｃは回
転／直動変換機構、３４ｄは同図の上下方向に移動する
駆動ガイドである。駆動ガイド３４ｄの先端は、マスク
ステージＭＳのＹ軸ローラ保持部材３５に取り付けられ
たローラ３５ｃに接している。３６はマスクステージＭ
ＳをＹ軸方向に駆動するＹ’軸駆動機素であり、Ｙ’軸
駆動機素３６は上記Ｙ軸駆動機素３４と同様の構成を備
えており、３６ａはモータ、３６ｂはエンコーダ、３６
ｃは回転／直動変換機構、３６ｄは同図の上下方向に移
動する駆動ガイドである。駆動ガイド３６ｄの先端は、
マスクステージＭＳのＹ’軸ローラ保持部材３７に取り
付けられたローラ３７ｃに接している。
【００２６】また、３８はマスクステージＭＳをＸ軸方
向に駆動するＸ軸駆動機素であり、Ｘ軸駆動機素３８も
上記Ｙ軸駆動機素３４と同様の構成を備えており、３８
ａはモータ、３８ｂはエンコーダ、３８ｃは回転／直動
変換機構、３８ｄは同図の左右方向に移動する駆動ガイ
ドである。駆動ガイド３８ｄの先端は、マスクステージ
ＭＳのＹ’軸ローラ保持部材３９に取り付けられたロー
ラ３９ｃに接している。３５ａ，３７ａ，３９ａは圧縮
バネであり、圧縮バネ３５ａ，３７ａ，３９ａはＹ軸ロ
ーラ保持部材３５、Ｙ’軸ローラ保持部材３７、Ｘ軸ロ
ーラ保持部材３９とバネ支え３５ｂ，３７ｂ，３９ｂの
間に設けられ、圧縮バネ３５ａ，３７ａはＹ軸ローラ保
持部材３５、Ｙ’軸ローラ保持部材３７を同図の上方向
に付勢し、圧縮バネ３９ａはＸ軸ローラ保持部材３９を
同図の左方向に付勢している。
向に駆動するＸ軸駆動機素であり、Ｘ軸駆動機素３８も
上記Ｙ軸駆動機素３４と同様の構成を備えており、３８
ａはモータ、３８ｂはエンコーダ、３８ｃは回転／直動
変換機構、３８ｄは同図の左右方向に移動する駆動ガイ
ドである。駆動ガイド３８ｄの先端は、マスクステージ
ＭＳのＹ’軸ローラ保持部材３９に取り付けられたロー
ラ３９ｃに接している。３５ａ，３７ａ，３９ａは圧縮
バネであり、圧縮バネ３５ａ，３７ａ，３９ａはＹ軸ロ
ーラ保持部材３５、Ｙ’軸ローラ保持部材３７、Ｘ軸ロ
ーラ保持部材３９とバネ支え３５ｂ，３７ｂ，３９ｂの
間に設けられ、圧縮バネ３５ａ，３７ａはＹ軸ローラ保
持部材３５、Ｙ’軸ローラ保持部材３７を同図の上方向
に付勢し、圧縮バネ３９ａはＸ軸ローラ保持部材３９を
同図の左方向に付勢している。
【００２７】図３において、マスクステージＭＳをＹ軸
方向に移動させるには、Ｙ軸駆動機素３４、Ｙ’軸駆動
機素３６を同じ量駆動し、Ｙ軸ローラ保持部材３５、
Ｙ’軸ローラ保持部材３７をＹ方向に移動させる。ま
た、マスクステージＭＳをＸ軸方向に移動させるには、
Ｘ軸駆動機素３８を駆動し、Ｘ軸ローラ保持部材３５を
Ｘ方向に移動させる。さらに、マスクステージＭＳを回
転させるには、Ｙ軸駆動機素３４、Ｙ’軸駆動機素３
６、Ｘ軸駆動機素３８をそれぞれ回転方向に応じた方向
に駆動する。
方向に移動させるには、Ｙ軸駆動機素３４、Ｙ’軸駆動
機素３６を同じ量駆動し、Ｙ軸ローラ保持部材３５、
Ｙ’軸ローラ保持部材３７をＹ方向に移動させる。ま
た、マスクステージＭＳをＸ軸方向に移動させるには、
Ｘ軸駆動機素３８を駆動し、Ｘ軸ローラ保持部材３５を
Ｘ方向に移動させる。さらに、マスクステージＭＳを回
転させるには、Ｙ軸駆動機素３４、Ｙ’軸駆動機素３
６、Ｘ軸駆動機素３８をそれぞれ回転方向に応じた方向
に駆動する。
【００２８】次に本実施例の露光装置による露光処理に
ついて説明する。図１において、帯状ワークＷｂは巻き
出しリールＲ１から引き出され、ドライブローラＤＲに
より搬送され、ワークステージＷＳ上に真空吸着等によ
って固定される。図４に示す顕微鏡駆動部材３２によ
り、アライメント顕微鏡２がマスクマークＭＡＭ、ワー
クマークＷＡＭを検出できる位置に挿入される。図２に
示したアライメント顕微鏡２に設けられた照明光源２ｂ
より照明光が照射される。照明光源２ｂから照射される
照明光は、前記したようにマスクマークＭＡＭとワーク
マークＷＡＭとに照射される。
ついて説明する。図１において、帯状ワークＷｂは巻き
出しリールＲ１から引き出され、ドライブローラＤＲに
より搬送され、ワークステージＷＳ上に真空吸着等によ
って固定される。図４に示す顕微鏡駆動部材３２によ
り、アライメント顕微鏡２がマスクマークＭＡＭ、ワー
クマークＷＡＭを検出できる位置に挿入される。図２に
示したアライメント顕微鏡２に設けられた照明光源２ｂ
より照明光が照射される。照明光源２ｂから照射される
照明光は、前記したようにマスクマークＭＡＭとワーク
マークＷＡＭとに照射される。
【００２９】アライメント顕微鏡２により、マスクマー
クＭＡＭ像とワークマークＷＡＭ像がとも受像される
と、画像処理部２０において画像処理され、モニタ２１
に表示されるとともに、その位置が検出される。検出さ
れた位置データは制御部２２に送られる。制御部２２の
位置合わせ手段２２ａは、マスクステージ駆動装置１１
によりマスクステージＭＳを駆動してマスクＭを移動さ
せ、マスクＭと帯状ワークＷｂとの位置合わせを行な
う。位置合せが終了すると、アライメント顕微鏡２を退
避させ、光照射部３から露光光を含む光を照射し、マス
クＭに形成されたマスクパターンを帯状ワークＷｂ上に
投影・結像させて露光を行なう。露光処理が終了する
と、光照射部３からの露光光を含む光の照射を停止し、
ワークステージＷＳの真空吸着を解除し、ドライブロー
ラＤＲを駆動し、帯状ワークＷｂの次の露光領域がワー
クステージＷＳの所定の位置に来るまで、帯状ワークＷ
ｂを移動させる。
クＭＡＭ像とワークマークＷＡＭ像がとも受像される
と、画像処理部２０において画像処理され、モニタ２１
に表示されるとともに、その位置が検出される。検出さ
れた位置データは制御部２２に送られる。制御部２２の
位置合わせ手段２２ａは、マスクステージ駆動装置１１
によりマスクステージＭＳを駆動してマスクＭを移動さ
せ、マスクＭと帯状ワークＷｂとの位置合わせを行な
う。位置合せが終了すると、アライメント顕微鏡２を退
避させ、光照射部３から露光光を含む光を照射し、マス
クＭに形成されたマスクパターンを帯状ワークＷｂ上に
投影・結像させて露光を行なう。露光処理が終了する
と、光照射部３からの露光光を含む光の照射を停止し、
ワークステージＷＳの真空吸着を解除し、ドライブロー
ラＤＲを駆動し、帯状ワークＷｂの次の露光領域がワー
クステージＷＳの所定の位置に来るまで、帯状ワークＷ
ｂを移動させる。
【００３０】上記マスクＭと帯状ワークＷｂの位置合わ
せに際し、ワークマークＷＡＭがアライメント顕微鏡２
の視野内に無く検出できない場合、制御部２２のアライ
メントマーク探索手段２２ｂは前記図３に示したＹ軸駆
動機素３４、Ｙ’軸駆動機素３６、Ｘ軸駆動機素３８を
駆動してマスクステージＭＳ上のアライメント顕微鏡２
を移動させて前記したような渦巻き状探索を行う。すな
わち、上記アライメントマーク検出手段２２ｂは前記図
７で説明したように、マスクステージＭＳを〜の順
番で渦巻き状に移動させ、ワークマークが検出されるま
で探索する。そして、ワークマークＷＡＭが検出されれ
ば、前記したように、マスクＭと帯状ワークＷｂの位置
合わせを行い露光処理を行う。なお、上記探索でワーク
マークＷＡＭが検出されない場合は、ワークマークを設
ける作業自体にエラーがあったと考え、ワークマーク検
出不可能の異常として装置の処理が停止する。
せに際し、ワークマークＷＡＭがアライメント顕微鏡２
の視野内に無く検出できない場合、制御部２２のアライ
メントマーク探索手段２２ｂは前記図３に示したＹ軸駆
動機素３４、Ｙ’軸駆動機素３６、Ｘ軸駆動機素３８を
駆動してマスクステージＭＳ上のアライメント顕微鏡２
を移動させて前記したような渦巻き状探索を行う。すな
わち、上記アライメントマーク検出手段２２ｂは前記図
７で説明したように、マスクステージＭＳを〜の順
番で渦巻き状に移動させ、ワークマークが検出されるま
で探索する。そして、ワークマークＷＡＭが検出されれ
ば、前記したように、マスクＭと帯状ワークＷｂの位置
合わせを行い露光処理を行う。なお、上記探索でワーク
マークＷＡＭが検出されない場合は、ワークマークを設
ける作業自体にエラーがあったと考え、ワークマーク検
出不可能の異常として装置の処理が停止する。
【００３１】本実施例の露光装置は、上記したように、
アライメント顕微鏡２を支持するフレーム３１がマスク
ステージＭＳと一体の構造であるので、マスクステージ
ＭＳの移動とともにアライメント顕微鏡２が移動する。
このため、ワークマークＷＡＭの探索中、マスクマーク
ＭＡＭがアライメント顕微鏡２の視野からはずれること
がなく、上記のような渦巻き状探索が可能である。
アライメント顕微鏡２を支持するフレーム３１がマスク
ステージＭＳと一体の構造であるので、マスクステージ
ＭＳの移動とともにアライメント顕微鏡２が移動する。
このため、ワークマークＷＡＭの探索中、マスクマーク
ＭＡＭがアライメント顕微鏡２の視野からはずれること
がなく、上記のような渦巻き状探索が可能である。
【００３２】上記の実施例は、アライメント顕微鏡２を
マスクステージＭＳに一体化して設けたものであるが、
アライメント顕微鏡２とマスクステージＭＳとを別体と
して、アライメント顕微鏡２を駆動させる移動機構を別
途設けてもよい。図５は上記アライメント顕微鏡２とマ
スクステージＭＳとを別体とした本発明の第２の実施例
の露光装置の構成を示す図である。同図において、前記
図１に示したものと同一のものには同一の符号が付され
ており、本実施例においては、マスクステージ移動機構
４とは別に、アライメント顕微鏡２をＸＹ方向に移動さ
せるアライメント顕微鏡移動機構５とアライメント顕微
鏡駆動装置１２が設けられている。なお、アライメント
顕微鏡移動機構５としては前記図３、図４に示したもの
と同様のものを用いることができる（但し、渦巻き状探
索を行う場合にはθ方向に移動させる必要はない）。
マスクステージＭＳに一体化して設けたものであるが、
アライメント顕微鏡２とマスクステージＭＳとを別体と
して、アライメント顕微鏡２を駆動させる移動機構を別
途設けてもよい。図５は上記アライメント顕微鏡２とマ
スクステージＭＳとを別体とした本発明の第２の実施例
の露光装置の構成を示す図である。同図において、前記
図１に示したものと同一のものには同一の符号が付され
ており、本実施例においては、マスクステージ移動機構
４とは別に、アライメント顕微鏡２をＸＹ方向に移動さ
せるアライメント顕微鏡移動機構５とアライメント顕微
鏡駆動装置１２が設けられている。なお、アライメント
顕微鏡移動機構５としては前記図３、図４に示したもの
と同様のものを用いることができる（但し、渦巻き状探
索を行う場合にはθ方向に移動させる必要はない）。
【００３３】本実施例の露光装置による露光処理は前記
第１の実施例と同様であり、前記したように、帯状ワー
クＷｂをワークステージＷＳ上の所定の位置まで搬送
し、マスクＭと帯状ワークＷｂとの位置合わせを行なっ
たのち、光照射部３から露光光を含む光を照射し、マス
クＭに形成されたマスクパターンを帯状ワークＷｂ上に
投影・結像させて露光を行なう。露光処理が終了する
と、帯状ワークＷｂの次の露光領域がワークステージＷ
Ｓの所定の位置に来るまで、帯状ワークＷｂを移動さ
せ、次の露光領域を露光する。上記マスクとワークの位
置合わせに際して、ワークマークＷＡＭが顕微鏡の視野
にない場合、前記したようにアライメント顕微鏡駆動装
置１２を駆動して、アライメント顕微鏡移動機構５によ
りアライメント顕微鏡２をそれぞれ渦巻き状に移動さ
せ、ワークマークＷＡＭを探索する。
第１の実施例と同様であり、前記したように、帯状ワー
クＷｂをワークステージＷＳ上の所定の位置まで搬送
し、マスクＭと帯状ワークＷｂとの位置合わせを行なっ
たのち、光照射部３から露光光を含む光を照射し、マス
クＭに形成されたマスクパターンを帯状ワークＷｂ上に
投影・結像させて露光を行なう。露光処理が終了する
と、帯状ワークＷｂの次の露光領域がワークステージＷ
Ｓの所定の位置に来るまで、帯状ワークＷｂを移動さ
せ、次の露光領域を露光する。上記マスクとワークの位
置合わせに際して、ワークマークＷＡＭが顕微鏡の視野
にない場合、前記したようにアライメント顕微鏡駆動装
置１２を駆動して、アライメント顕微鏡移動機構５によ
りアライメント顕微鏡２をそれぞれ渦巻き状に移動さ
せ、ワークマークＷＡＭを探索する。
【００３４】上記探索によりワークマークが検出されれ
ば、アライメント顕微鏡２はその位置で停止する。次
に、マスクステージ駆動装置１１によりマスクステージ
ＭＳを、アライメント顕微鏡２の移動した距離だけ移動
させる。これにより、アライメント顕微鏡２の視野の中
に、マスクマークＭＡＭとワークマークＷＡＭの両方が
検出されることになり、その後、前記したようにマスク
ＭとワークＷの位置合わせを行ない、露光処理を行う。
ば、アライメント顕微鏡２はその位置で停止する。次
に、マスクステージ駆動装置１１によりマスクステージ
ＭＳを、アライメント顕微鏡２の移動した距離だけ移動
させる。これにより、アライメント顕微鏡２の視野の中
に、マスクマークＭＡＭとワークマークＷＡＭの両方が
検出されることになり、その後、前記したようにマスク
ＭとワークＷの位置合わせを行ない、露光処理を行う。
【００３５】
【発明の効果】以上説明したように本発明においては、
以下の効果を得ることができる。 （１）マスクステージを移動させてマスクとワークを位
置合せする露光装置において、マスクステージとともに
アライメント顕微鏡を移動可能に構成したので、ワーク
マークがアライメント顕微鏡の視野からはずれた場合で
あっても、渦巻き状探索等により、ワークマークを探索
し、マスクとワークの位置合せを行ない露光処理を行な
うことができる。 （２）マスクステージとアライメント顕微鏡とを一体化
構造とすれば、マスクステージが移動してもマスクに対
するアライメント顕微鏡の相対位置が変化せず、マスク
マークをアライメント顕微鏡の検出範囲にとらえた状態
で、マスクを渦巻き状に移動させる等してワークアライ
メントマークを探索することができる。このため、ワー
クマーク検出後直ちにマスクとワークの位置合せが可能
である。また、アライメント顕微鏡に移動機構を設ける
必要がない。 （３）アライメント顕微鏡に、アライメント顕微鏡をＸ
Ｙ方向に移動させる顕微鏡移動機構を設け、アライメン
ト顕微鏡を移動させてワークマークを探索し、ワークマ
ーク検出後、マスクを保持したマスクステージを、アラ
イメント顕微鏡の移動した同じ距離を移動させることに
より、ワークマークがアライメント顕微鏡の視野からは
ずれた場合であっても、ワークマークを検出し、マスク
とワークの位置合せを行ない露光処理を行なうことがで
きる。
以下の効果を得ることができる。 （１）マスクステージを移動させてマスクとワークを位
置合せする露光装置において、マスクステージとともに
アライメント顕微鏡を移動可能に構成したので、ワーク
マークがアライメント顕微鏡の視野からはずれた場合で
あっても、渦巻き状探索等により、ワークマークを探索
し、マスクとワークの位置合せを行ない露光処理を行な
うことができる。 （２）マスクステージとアライメント顕微鏡とを一体化
構造とすれば、マスクステージが移動してもマスクに対
するアライメント顕微鏡の相対位置が変化せず、マスク
マークをアライメント顕微鏡の検出範囲にとらえた状態
で、マスクを渦巻き状に移動させる等してワークアライ
メントマークを探索することができる。このため、ワー
クマーク検出後直ちにマスクとワークの位置合せが可能
である。また、アライメント顕微鏡に移動機構を設ける
必要がない。 （３）アライメント顕微鏡に、アライメント顕微鏡をＸ
Ｙ方向に移動させる顕微鏡移動機構を設け、アライメン
ト顕微鏡を移動させてワークマークを探索し、ワークマ
ーク検出後、マスクを保持したマスクステージを、アラ
イメント顕微鏡の移動した同じ距離を移動させることに
より、ワークマークがアライメント顕微鏡の視野からは
ずれた場合であっても、ワークマークを検出し、マスク
とワークの位置合せを行ない露光処理を行なうことがで
きる。
【図１】本発明の第１の実施例の露光装置の構成を示す
図である。
図である。
【図２】アライメント顕微鏡の構成例を示す図である。
【図３】マスクステージ移動機構の構成例を示す図（上
面図）である。
面図）である。
【図４】マスクステージ移動機構の構成例を示す図（断
面図）である。
面図）である。
【図５】本発明の第２の実施例の露光装置の構成を示す
図である。
図である。
【図６】枚葉式の露光装置の概略構成を示す図である。
【図７】渦巻き状の探索手順を説明する図である。
【図８】帯状ワークの露光装置の概略構成を示す図であ
る。
る。
１ 基台 ２ アライメント顕微鏡 ３ 光照射部 ４ マスクステージ移動機構 １１ マスクステージ駆動装置 １２ アライメント顕微鏡駆動装置 ２０ 画像処理部 ２１ モニタ ２２ 制御部 Ｍ マスク ＭＳ マスクステージＭＳ ＭＡＭ マスクマーク（マスクアライメントマーク） ＷＳ ワークステージ Ｗｂ 帯状ワーク ＷＡＭ ワークマーク（ワークアライメントマーク） ＤＲ ドライブローラ ＳＲ 押さえローラ ＢＲ ブレーキローラ ＧＲ ガイドローラ Ｒ１ 巻き出しリール Ｒ２ 巻き取りリール
Claims (2)
- 【請求項１】 マスクに形成されたマスクアライメント
マークとワークに形成されたワークアライメントマーク
とを、アライメント顕微鏡によって検出し、マスクとワ
ークの位置合わせを行ない、マスクに形成されたパター
ンをワークに転写する露光装置であって、 上記露光装置は、上記マスクを保持するマスクステージ
を移動させるマスクステージ移動手段と、該マスクステ
ージと一体構造のアライメント顕微鏡と、上記マスクス
テージを移動させてマスクとワークの位置合わせを行う
制御手段とを備え、 上記制御手段は、上記アライメント顕微鏡によるアライ
メントマークの検出に際し、ワークアライメントマーク
がアライメント顕微鏡の視野内にはいらないとき、上記
マスクステージとアライメント顕微鏡を一体で移動させ
て、ワークアライメントマークを探索し、ワークアライ
メントマークを検出した後に、マスクとワークの位置合
わせを行うことを特徴とするマスクを移動させて位置合
わせを行う露光装置。 - 【請求項２】 マスクに形成されたマスクアライメント
マークとワークに形成されたワークアライメントマーク
とを、アライメント顕微鏡によって検出し、マスクとワ
ークの位置合わせを行ない、マスクに形成されたパター
ンをワークに転写する露光装置であって、 上記露光装置は、上記マスクを保持するマスクステージ
を移動させるマスクステージ移動手段と、上記アライメ
ント顕微鏡移動手段と、上記マスクステージを移動させ
てマスクとワークの位置合わせを行う制御手段とを備
え、 上記制御手段は、上記アライメント顕微鏡によるアライ
メントマークの検出に際し、ワークアライメントマーク
がアライメント顕微鏡の視野内にはいらないとき、上記
アライメント顕微鏡を移動させて、ワークアライメント
マークを探索し、ワークアライメントマーク検出後、マ
スクを保持したマスクステージをアライメント顕微鏡の
移動した同じ距離を移動させ、アライメント顕微鏡の視
野内にマスクアライメントマークとワークアライメント
マークが入ったら、マスクとワークの位置合わせを行う
ことを特徴とするマスクを移動させて位置合わせを行う
露光装置。
Priority Applications (5)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16072499A JP3376961B2 (ja) | 1999-06-08 | 1999-06-08 | マスクを移動させて位置合わせを行う露光装置 |
| TW089110894A TW425496B (en) | 1999-06-08 | 2000-06-03 | Exposure device capable of aligning while moving mask |
| PCT/JP2000/003689 WO2000075729A1 (fr) | 1999-06-08 | 2000-06-07 | Dispositif d'exposition capable d'aligner un masque tout en le deplaçant |
| KR10-2001-7000428A KR100525885B1 (ko) | 1999-06-08 | 2000-06-07 | 마스크를 이동시켜 위치정합을 행하는 노광장치 |
| US09/762,300 US6525804B1 (en) | 1999-06-08 | 2000-06-07 | Exposure device capable of aligning while moving mask |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16072499A JP3376961B2 (ja) | 1999-06-08 | 1999-06-08 | マスクを移動させて位置合わせを行う露光装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000347425A true JP2000347425A (ja) | 2000-12-15 |
| JP3376961B2 JP3376961B2 (ja) | 2003-02-17 |
Family
ID=15721104
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP16072499A Expired - Fee Related JP3376961B2 (ja) | 1999-06-08 | 1999-06-08 | マスクを移動させて位置合わせを行う露光装置 |
Country Status (5)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US6525804B1 (ja) |
| JP (1) | JP3376961B2 (ja) |
| KR (1) | KR100525885B1 (ja) |
| TW (1) | TW425496B (ja) |
| WO (1) | WO2000075729A1 (ja) |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006349769A (ja) * | 2005-06-13 | 2006-12-28 | Ono Sokki Co Ltd | 整合装置 |
| JP2012022161A (ja) * | 2010-07-15 | 2012-02-02 | V Technology Co Ltd | フィルムの露光装置 |
| CN103034071A (zh) * | 2012-12-13 | 2013-04-10 | 京东方科技集团股份有限公司 | 一种曝光机对位方法及控制设备 |
| JP2015222370A (ja) * | 2014-05-23 | 2015-12-10 | 株式会社オーク製作所 | 露光装置 |
| JP2019082610A (ja) * | 2017-10-31 | 2019-05-30 | 株式会社アドテックエンジニアリング | 両面露光装置及び両面露光方法 |
| JP2019082611A (ja) * | 2017-10-31 | 2019-05-30 | 株式会社アドテックエンジニアリング | 両面露光装置 |
Families Citing this family (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7385671B2 (en) * | 2004-05-28 | 2008-06-10 | Azores Corporation | High speed lithography machine and method |
| JP2006098726A (ja) * | 2004-09-29 | 2006-04-13 | Fuji Photo Film Co Ltd | アライメント部の校正方法と、アライメント校正可能な描画装置と、搬送装置 |
| US7177012B2 (en) * | 2004-10-18 | 2007-02-13 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
| US7375795B2 (en) * | 2004-12-22 | 2008-05-20 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus, device manufacturing method, and device manufactured thereby |
| US8411271B2 (en) * | 2005-12-28 | 2013-04-02 | Nikon Corporation | Pattern forming method, pattern forming apparatus, and device manufacturing method |
| WO2007141852A1 (ja) * | 2006-06-07 | 2007-12-13 | Integrated Solutions Co., Ltd. | 露光方法および露光装置 |
| JP5556774B2 (ja) * | 2011-09-16 | 2014-07-23 | ウシオ電機株式会社 | 露光装置 |
| KR101924309B1 (ko) | 2011-12-20 | 2018-11-30 | 가부시키가이샤 니콘 | 기판 처리 장치, 디바이스 제조 시스템 및 디바이스 제조 방법 |
| JP7041482B2 (ja) * | 2017-09-13 | 2022-03-24 | 株式会社オーク製作所 | 露光装置 |
| TWI797737B (zh) | 2017-09-29 | 2023-04-01 | 美商昂圖創新公司 | 用於在曝光裝置時減少未對準誤差的方法和設備 |
| CN115769148A (zh) | 2020-02-21 | 2023-03-07 | 昂图创新有限公司 | 用于校正光刻过程中的套刻误差的系统和方法 |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4655599A (en) * | 1982-11-15 | 1987-04-07 | Canon Kabushiki Kaisha | Mask aligner having a photo-mask setting device |
| JPS5998525A (ja) * | 1982-11-26 | 1984-06-06 | Canon Inc | 分割焼付け装置のアライメント方法 |
| JPS60160599A (ja) | 1984-01-31 | 1985-08-22 | Shimadzu Corp | 断層撮影装置 |
| JPS6269243U (ja) * | 1985-10-19 | 1987-04-30 | ||
| FR2663130B1 (fr) * | 1990-06-08 | 1994-12-09 | Nippon Seiko Kk | Dispositif d'exposition par projection. |
| JP3275544B2 (ja) | 1994-07-21 | 2002-04-15 | ウシオ電機株式会社 | ステージ装置 |
| JP3292022B2 (ja) * | 1996-01-17 | 2002-06-17 | キヤノン株式会社 | 位置検出装置及びそれを用いた半導体素子の製造方法 |
| JPH1022201A (ja) | 1996-07-04 | 1998-01-23 | Nikon Corp | アライメントマーク検出装置 |
| JP4109736B2 (ja) * | 1997-11-14 | 2008-07-02 | キヤノン株式会社 | 位置ずれ検出方法 |
| JP4208277B2 (ja) * | 1997-11-26 | 2009-01-14 | キヤノン株式会社 | 露光方法及び露光装置 |
-
1999
- 1999-06-08 JP JP16072499A patent/JP3376961B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
2000
- 2000-06-03 TW TW089110894A patent/TW425496B/zh not_active IP Right Cessation
- 2000-06-07 WO PCT/JP2000/003689 patent/WO2000075729A1/ja active Application Filing
- 2000-06-07 KR KR10-2001-7000428A patent/KR100525885B1/ko not_active IP Right Cessation
- 2000-06-07 US US09/762,300 patent/US6525804B1/en not_active Expired - Fee Related
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| JP2019082610A (ja) * | 2017-10-31 | 2019-05-30 | 株式会社アドテックエンジニアリング | 両面露光装置及び両面露光方法 |
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| JP7378910B2 (ja) | 2017-10-31 | 2023-11-14 | 株式会社アドテックエンジニアリング | 両面露光装置及び両面露光方法 |
| JP7389885B2 (ja) | 2017-10-31 | 2023-11-30 | 株式会社アドテックエンジニアリング | 両面露光装置及び両面露光方法 |
| JP7412872B2 (ja) | 2017-10-31 | 2024-01-15 | 株式会社アドテックエンジニアリング | 両面露光装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| TW425496B (en) | 2001-03-11 |
| KR100525885B1 (ko) | 2005-11-02 |
| KR20010089137A (ko) | 2001-09-29 |
| JP3376961B2 (ja) | 2003-02-17 |
| US6525804B1 (en) | 2003-02-25 |
| WO2000075729A1 (fr) | 2000-12-14 |
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