JP2003021909A - 露光装置 - Google Patents
露光装置Info
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- JP2003021909A JP2003021909A JP2001205812A JP2001205812A JP2003021909A JP 2003021909 A JP2003021909 A JP 2003021909A JP 2001205812 A JP2001205812 A JP 2001205812A JP 2001205812 A JP2001205812 A JP 2001205812A JP 2003021909 A JP2003021909 A JP 2003021909A
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- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/20—Exposure; Apparatus therefor
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03B—APPARATUS OR ARRANGEMENTS FOR TAKING PHOTOGRAPHS OR FOR PROJECTING OR VIEWING THEM; APPARATUS OR ARRANGEMENTS EMPLOYING ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ACCESSORIES THEREFOR
- G03B27/00—Photographic printing apparatus
- G03B27/32—Projection printing apparatus, e.g. enlarger, copying camera
- G03B27/52—Details
- G03B27/58—Baseboards, masking frames, or other holders for the sensitive material
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 ガラスマスクと被露光対象物との密着性を向
上できる露光装置を提供する。 【解決手段】 ガラスマスク１の背面側に所定の間隔を
設けて加圧用ガラス３を配設し、密閉空間４を形成す
る。該密閉空間４に加圧源５から加圧空気を導入し、密
閉空間４の圧力を上げて、ガラスマスク１を基板５０方
向に膨出させ、基板５０との密着性を向上させる。
上できる露光装置を提供する。 【解決手段】 ガラスマスク１の背面側に所定の間隔を
設けて加圧用ガラス３を配設し、密閉空間４を形成す
る。該密閉空間４に加圧源５から加圧空気を導入し、密
閉空間４の圧力を上げて、ガラスマスク１を基板５０方
向に膨出させ、基板５０との密着性を向上させる。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】この発明は、露光装置に関す
る。
る。
【０００２】
【従来の技術】フォトレジストなどの感光材料を塗布し
た基板表面に所定のパターンを露光装置により感光焼き
付けし、その後エッチング工程により基板上にパターン
を形成するフォトリソグラフィ法が種々の分野で広く応
用されており、プリント配線基板等も近年露光装置を用
いて製造されている。この露光装置において、パターン
原画が描かれた原版として樹脂フィルムマスクやガラス
マスクが用いられている。フィルムマスクは安価である
が、紫外線や温度、湿度の変化により変形したり、紫外
線の透過率の劣化が著しいなどの欠点があり、また近年
プリント配線基板の高精細化と大型化が進んでいること
もあり、ガラスマスクの使用が増大している。ガラスマ
スクを用いた場合、ガラスマスクと基板との密着性を高
めるため、両者の間を真空に引いて密着させる所謂真空
密着方法が採用されることが多い。
た基板表面に所定のパターンを露光装置により感光焼き
付けし、その後エッチング工程により基板上にパターン
を形成するフォトリソグラフィ法が種々の分野で広く応
用されており、プリント配線基板等も近年露光装置を用
いて製造されている。この露光装置において、パターン
原画が描かれた原版として樹脂フィルムマスクやガラス
マスクが用いられている。フィルムマスクは安価である
が、紫外線や温度、湿度の変化により変形したり、紫外
線の透過率の劣化が著しいなどの欠点があり、また近年
プリント配線基板の高精細化と大型化が進んでいること
もあり、ガラスマスクの使用が増大している。ガラスマ
スクを用いた場合、ガラスマスクと基板との密着性を高
めるため、両者の間を真空に引いて密着させる所謂真空
密着方法が採用されることが多い。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかし、図７に示すよ
うにマスクホルダ９９に支持されたガラスマスク９８を
基板５０に接近させる際に、ガラスマスク９８と基板５
０との間の空気が圧縮されて圧縮空気層５１が形成さ
れ、その圧力によりガラスマスク９８が基板５０と反対
方向に膨らみ、ガラスマスク９８と基板５０を接触させ
た際に、ガラスマスク９８と基板５０の間に隙間Ｇが発
生し、そのため露光精度が低下する問題があった。この
隙間Ｇをなくすためには、前記真空密着方法を採用する
場合はガラスマスク９８と基板５０との間の吸引能力を
上げたり、或いは吸引時間を延長する必要があり、設備
の高額化や工程の遅延化を招く問題があった。本発明は
上記従来技術の問題を解決することを目的とする。
うにマスクホルダ９９に支持されたガラスマスク９８を
基板５０に接近させる際に、ガラスマスク９８と基板５
０との間の空気が圧縮されて圧縮空気層５１が形成さ
れ、その圧力によりガラスマスク９８が基板５０と反対
方向に膨らみ、ガラスマスク９８と基板５０を接触させ
た際に、ガラスマスク９８と基板５０の間に隙間Ｇが発
生し、そのため露光精度が低下する問題があった。この
隙間Ｇをなくすためには、前記真空密着方法を採用する
場合はガラスマスク９８と基板５０との間の吸引能力を
上げたり、或いは吸引時間を延長する必要があり、設備
の高額化や工程の遅延化を招く問題があった。本発明は
上記従来技術の問題を解決することを目的とする。
【０００４】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明は、露光すべきパターンを描いたガラスマス
クを被露光対象物に接触させて露光する露光装置におい
て、前記ガラスマスクの被露光対象物との接触面と反対
側の非接触面側に所定の間隔をあけて配設された露光波
長透過性体と、前記ガラスマスクと該露光波長透過性材
料との間に形成された密閉空間と、該密閉空間を加圧す
るための手段と、を備えたことを特徴とする。ガラスマ
スクに密閉空間を形成し、この空間を加圧することによ
り、前記したガラスマスクと被露光対象物の間に生ずる
圧縮空気層の圧力による被露光対象物と反対方向の膨ら
みを防止できる。前記露光波長透過性材料は通常は板材
を採用し、且つ前記ガラスマスクよりも撓みにくく構成
することによりガラスマスクの膨出を効率的に得ること
できる。更に密閉空間の加圧を調整することにより、ガ
ラスマスクを被露光対象物方向に膨出させることが可能
であり、被露光対象物との密着性を更に向上することが
可能である。前記ガラスマスクが前記被露光対象物に接
触してから全体が密着するまでの間、次第に前記密閉空
間の圧力を減じるように加圧するための手段を制御する
ことにより、ガラスマスク中央部から順次端部に向かっ
て被露光対象物に密着させていくことが可能となり、効
果的な密着を得ることが可能である。
に、本発明は、露光すべきパターンを描いたガラスマス
クを被露光対象物に接触させて露光する露光装置におい
て、前記ガラスマスクの被露光対象物との接触面と反対
側の非接触面側に所定の間隔をあけて配設された露光波
長透過性体と、前記ガラスマスクと該露光波長透過性材
料との間に形成された密閉空間と、該密閉空間を加圧す
るための手段と、を備えたことを特徴とする。ガラスマ
スクに密閉空間を形成し、この空間を加圧することによ
り、前記したガラスマスクと被露光対象物の間に生ずる
圧縮空気層の圧力による被露光対象物と反対方向の膨ら
みを防止できる。前記露光波長透過性材料は通常は板材
を採用し、且つ前記ガラスマスクよりも撓みにくく構成
することによりガラスマスクの膨出を効率的に得ること
できる。更に密閉空間の加圧を調整することにより、ガ
ラスマスクを被露光対象物方向に膨出させることが可能
であり、被露光対象物との密着性を更に向上することが
可能である。前記ガラスマスクが前記被露光対象物に接
触してから全体が密着するまでの間、次第に前記密閉空
間の圧力を減じるように加圧するための手段を制御する
ことにより、ガラスマスク中央部から順次端部に向かっ
て被露光対象物に密着させていくことが可能となり、効
果的な密着を得ることが可能である。
【０００５】
【発明の実施の形態】以下本発明の実施の形態を図面に
基づいて説明する。図１はプリント配線基板を製造する
ための露光装置であり、フォトレジストを施された基板
５０はプラテン３０上に載置され、移動装置３１により
ＸＹＺ及びθ方向に移動可能になっている。
基づいて説明する。図１はプリント配線基板を製造する
ための露光装置であり、フォトレジストを施された基板
５０はプラテン３０上に載置され、移動装置３１により
ＸＹＺ及びθ方向に移動可能になっている。
【０００６】回路パターンが描かれたガラスマスク１は
基板５０に対向して設けられており、ガラスマスク１と
基板５０とを密着させ、且つガラスマスク１と基板５０
の間を吸引して密着させ、露光光源４０からの露光によ
り回路パターンを基板５０に焼き付けるようなってい
る。ＣＣＤカメラ４１はガラスマスク１と基板５０の位
置合わせのために用いられる。
基板５０に対向して設けられており、ガラスマスク１と
基板５０とを密着させ、且つガラスマスク１と基板５０
の間を吸引して密着させ、露光光源４０からの露光によ
り回路パターンを基板５０に焼き付けるようなってい
る。ＣＣＤカメラ４１はガラスマスク１と基板５０の位
置合わせのために用いられる。
【０００７】なお、図１ではガラスマスク１と基板５０
は上下方向に配設されているが、これに限定されるもの
ではなく、逆であっても良いし、或いはガラスマスク１
と加圧源５を垂直に立てて配設する構造も可能である。
また、基板５０を移動させるのではなくガラスマスク１
を移動させることも可能であり、更に両者を移動させる
ように構成することも可能である。
は上下方向に配設されているが、これに限定されるもの
ではなく、逆であっても良いし、或いはガラスマスク１
と加圧源５を垂直に立てて配設する構造も可能である。
また、基板５０を移動させるのではなくガラスマスク１
を移動させることも可能であり、更に両者を移動させる
ように構成することも可能である。
【０００８】ガラスマスク１はその周囲を枠形状のマス
クホルダ２に支持されており、基板５０と露光光源４０
との間に位置するようになっている。ガラスマスク１の
基板５０の反対側、即ち露光光源４０側にガラスマスク
１と所定の間隔をあけて加圧用ガラス３が設置されてい
る。加圧用ガラス３はガラスでなくても、露光光源４０
を透過できる材料であれば良い。また加圧用ガラス３は
ガラスマスク１より撓みにくいものを使用することが望
ましい。密閉空間４の内圧によりガラスマスク１を膨出
するためには、加圧用ガラス３が膨出しないことが望ま
しい。そのために、加圧用ガラス３の厚みを大きくする
等の措置が必要である。
クホルダ２に支持されており、基板５０と露光光源４０
との間に位置するようになっている。ガラスマスク１の
基板５０の反対側、即ち露光光源４０側にガラスマスク
１と所定の間隔をあけて加圧用ガラス３が設置されてい
る。加圧用ガラス３はガラスでなくても、露光光源４０
を透過できる材料であれば良い。また加圧用ガラス３は
ガラスマスク１より撓みにくいものを使用することが望
ましい。密閉空間４の内圧によりガラスマスク１を膨出
するためには、加圧用ガラス３が膨出しないことが望ま
しい。そのために、加圧用ガラス３の厚みを大きくする
等の措置が必要である。
【０００９】加圧用ガラス３もマスクホルダ２に装着さ
れており、ガラスマスク１とマスクホルダ２と加圧用ガ
ラス３により囲まれた密閉空間４を構成している。密閉
空間４には調整弁６を介して加圧源５が接続し、密閉空
間４の内部を加圧することが出来るようになっている。
また、調整弁７により加圧された密閉空間４を大気圧に
戻すことが出来るようになっている。
れており、ガラスマスク１とマスクホルダ２と加圧用ガ
ラス３により囲まれた密閉空間４を構成している。密閉
空間４には調整弁６を介して加圧源５が接続し、密閉空
間４の内部を加圧することが出来るようになっている。
また、調整弁７により加圧された密閉空間４を大気圧に
戻すことが出来るようになっている。
【００１０】制御装置８は加圧源５、調整弁６及び調整
弁７を制御して、密閉空間４内の圧力を後述するように
制御するように構成されている。なお、制御装置８は移
動装置３１、ＣＣＤカメラ４１、露光光源４０等装置全
体の制御も行っている。
弁７を制御して、密閉空間４内の圧力を後述するように
制御するように構成されている。なお、制御装置８は移
動装置３１、ＣＣＤカメラ４１、露光光源４０等装置全
体の制御も行っている。
【００１１】図２乃至図６により、動作を説明する。図
２に示すように調整弁６をオフとして密閉空間４内部を
加圧していない状態から、調整弁６をオンにして密閉空
間４に加圧源５からの大気圧より若干高圧の空気を導入
すると、図３に示すように該圧力Ｐによりガラスマスク
１が基板５０方向に膨出し、その中央に中央膨出部１０
が形成される。
２に示すように調整弁６をオフとして密閉空間４内部を
加圧していない状態から、調整弁６をオンにして密閉空
間４に加圧源５からの大気圧より若干高圧の空気を導入
すると、図３に示すように該圧力Ｐによりガラスマスク
１が基板５０方向に膨出し、その中央に中央膨出部１０
が形成される。
【００１２】同時にガラスマスク１と基板５０を接近さ
せると、図４に示すようにガラスマスク１と基板５０の
間には圧縮空気層５１が形成されるが、この圧力ｐが密
閉空間４の圧力Ｐよりも小さく、Ｐ＞ｐであればガラス
マスク１の中央膨出部１０は維持される。制御装置８は
Ｐ＞ｐを維持するように密閉空間４の圧力を制御する。
せると、図４に示すようにガラスマスク１と基板５０の
間には圧縮空気層５１が形成されるが、この圧力ｐが密
閉空間４の圧力Ｐよりも小さく、Ｐ＞ｐであればガラス
マスク１の中央膨出部１０は維持される。制御装置８は
Ｐ＞ｐを維持するように密閉空間４の圧力を制御する。
【００１３】そして、ガラスマスク１と基板５０が更に
接近すると、図５に示すように中央膨出部１０が最初に
基板５０に接触し、ここから更に接近させ同時に調整弁
７をオンとして密閉空間４の圧力を漸次抜いてやれば、
ガラスマスク１は中央膨出部１０から外周に向かって順
次基板５０に接触し、図６に示すようにガラスマスク１
全面が基板５０に接触する。そのため、図７に示す従来
のもののように基板５０との間に隙間Ｇが生ずることが
なく、高精度の露光が可能になる。
接近すると、図５に示すように中央膨出部１０が最初に
基板５０に接触し、ここから更に接近させ同時に調整弁
７をオンとして密閉空間４の圧力を漸次抜いてやれば、
ガラスマスク１は中央膨出部１０から外周に向かって順
次基板５０に接触し、図６に示すようにガラスマスク１
全面が基板５０に接触する。そのため、図７に示す従来
のもののように基板５０との間に隙間Ｇが生ずることが
なく、高精度の露光が可能になる。
【００１４】真空密着法の場合はガラスマスク１と基板
５０の接触が完了したら、図示しない装置によりガラス
マスク１と基板５０の間を真空に引いて、両者を密着さ
せる。ガラスマスク１と基板５０の間には隙間等がない
ため、短時間の吸引で良好な密着を得られる。また吸引
装置も大きな能力を必要としない。密着が行われたら、
露光光源４０により露光を実行する。
５０の接触が完了したら、図示しない装置によりガラス
マスク１と基板５０の間を真空に引いて、両者を密着さ
せる。ガラスマスク１と基板５０の間には隙間等がない
ため、短時間の吸引で良好な密着を得られる。また吸引
装置も大きな能力を必要としない。密着が行われたら、
露光光源４０により露光を実行する。
【００１５】
【発明の効果】以上説明したように本発明の露光装置に
よれば、ガラスマスクと被露光対象物との密着性が向上
するから、露光精度が向上する効果がある。
よれば、ガラスマスクと被露光対象物との密着性が向上
するから、露光精度が向上する効果がある。
【図１】本発明の一実施形態を示す概略図。
【図２】本発明の一実施形態の動作を示す説明図。
【図３】本発明の一実施形態の動作を示す説明図。
【図４】本発明の一実施形態の動作を示す説明図。
【図５】本発明の一実施形態の動作を示す説明図。
【図６】本発明の一実施形態の動作を示す説明図。
【図７】従来の露光装置の構造と動作を示す説明図。
１：ガラスマスク、２：マスクホルダ、３：加圧用ガラ
ス、４：密閉空間、５：加圧源、６：調整弁、７：調整
弁、８：制御装置、１０：中央膨出部、３０：プラテ
ン、３１：移動装置、４０：露光光源、４１：ＣＣＤカ
メラ、５０：基板、５１：圧縮空気層、９８：ガラスマ
スク、９９：マスクホルダ。
ス、４：密閉空間、５：加圧源、６：調整弁、７：調整
弁、８：制御装置、１０：中央膨出部、３０：プラテ
ン、３１：移動装置、４０：露光光源、４１：ＣＣＤカ
メラ、５０：基板、５１：圧縮空気層、９８：ガラスマ
スク、９９：マスクホルダ。
─────────────────────────────────────────────────────
フロントページの続き
(72)発明者 中 川 渉
東京都港区芝公園３丁目４番30号 株式会
社アドテックエンジニアリング内
(72)発明者 浅 見 正 利
東京都港区芝公園３丁目４番30号 株式会
社アドテックエンジニアリング内
(72)発明者 クガムールティ・クムティニ
東京都港区芝公園３丁目４番30号 株式会
社アドテックエンジニアリング内
Ｆターム(参考） 2H095 BA04 BA11 BB02 BB37 BC28
2H097 BB02 GA21 GA27 JA02 LA09
Claims (4)
- 【請求項１】 露光すべきパターンを描いたガラスマス
クを被露光対象物に接触させて露光する露光装置におい
て、 前記ガラスマスクの被露光対象物との接触面と反対側の
非接触面側に所定の間隔をあけて配設された露光波長透
過性体と、 前記ガラスマスクと該露光波長透過性材料との間に形成
された密閉空間と、 該密閉空間を加圧するための手段と、 を備えたことを特徴とする露光装置。 - 【請求項２】 前記密閉空間を前記ガラスマスクが被露
光対象物方向に膨出するように加圧する、 請求項１に記載の露光装置。 - 【請求項３】 前記ガラスマスクが前記被露光対象物に
接触してから全体が密着するまでの間、次第に前記密閉
空間の圧力を減じるように前記加圧するための手段を制
御する手段、 を更に備えた請求項２に記載の露光装置。 - 【請求項４】 前記露光波長透過性材料が板材であり、
且つ前記ガラスマスクよりも撓みにくい、 請求項１又は２又は３に記載の露光装置。
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001205812A JP2003021909A (ja) | 2001-07-06 | 2001-07-06 | 露光装置 |
| TW91112778A TW574593B (en) | 2001-07-06 | 2002-06-12 | Aligner |
| KR1020020033167A KR20030023450A (ko) | 2001-07-06 | 2002-06-14 | 노광장치 |
| US10/175,484 US20030007139A1 (en) | 2001-07-06 | 2002-06-19 | Aligner |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001205812A JP2003021909A (ja) | 2001-07-06 | 2001-07-06 | 露光装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2003021909A true JP2003021909A (ja) | 2003-01-24 |
Family
ID=19042052
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2001205812A Pending JP2003021909A (ja) | 2001-07-06 | 2001-07-06 | 露光装置 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US20030007139A1 (ja) |
| JP (1) | JP2003021909A (ja) |
| KR (1) | KR20030023450A (ja) |
| TW (1) | TW574593B (ja) |
Families Citing this family (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2003029414A (ja) * | 2001-07-19 | 2003-01-29 | Adtec Engineeng Co Ltd | 露光装置 |
| JP4892859B2 (ja) * | 2005-04-20 | 2012-03-07 | ウシオ電機株式会社 | 偏光光照射装置 |
| KR100693161B1 (ko) * | 2005-05-02 | 2007-03-13 | 엘지전자 주식회사 | 노광기의 마스크 홀더장치 |
| US8151619B2 (en) * | 2008-02-04 | 2012-04-10 | Standard Lifters, Inc. | Guided keeper assembly and method for metal forming dies |
| US20100195083A1 (en) * | 2009-02-03 | 2010-08-05 | Wkk Distribution, Ltd. | Automatic substrate transport system |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH04225360A (ja) * | 1990-12-26 | 1992-08-14 | Adotetsuku Eng:Kk | プリント配線基板の製造におけるフィルムマスクの密着方法及びその装置 |
-
2001
- 2001-07-06 JP JP2001205812A patent/JP2003021909A/ja active Pending
-
2002
- 2002-06-12 TW TW91112778A patent/TW574593B/zh not_active IP Right Cessation
- 2002-06-14 KR KR1020020033167A patent/KR20030023450A/ko not_active Application Discontinuation
- 2002-06-19 US US10/175,484 patent/US20030007139A1/en not_active Abandoned
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US20030007139A1 (en) | 2003-01-09 |
| TW574593B (en) | 2004-02-01 |
| KR20030023450A (ko) | 2003-03-19 |
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