JP2004184940A - 露光装置 - Google Patents
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Abstract
【課題】効率的で精度の高い露光が行える露光装置を提供する。
【解決手段】回路パターンが描かれたフィルムマスク３は基板５０に対向して設けられ、フィルムマスク３の上方には加圧フィルム１が設けられており、プラテン４の上昇により加圧フィルム１に接触してフィルムマスク３を基板５０に押し付ける。フィルムマスク３とプラテン４は減圧室２内に納められており、この減圧室２の上面が加圧フィルム１になっている。加圧フィルム１は合成樹脂などのフィルムであり、露光波長を透過する性質を有している。加圧フィルム１はその周囲において減圧室２の壁に連結され、減圧室の壁を構成しており、減圧室側Ｙが負圧になることにより、加圧フィルム１の中央部から周辺にかけてフィルムマスク３方向に山形に膨出し、フィルムマスク３を基板５０側に押圧するように構成されている。
【選択図】 図１
【解決手段】回路パターンが描かれたフィルムマスク３は基板５０に対向して設けられ、フィルムマスク３の上方には加圧フィルム１が設けられており、プラテン４の上昇により加圧フィルム１に接触してフィルムマスク３を基板５０に押し付ける。フィルムマスク３とプラテン４は減圧室２内に納められており、この減圧室２の上面が加圧フィルム１になっている。加圧フィルム１は合成樹脂などのフィルムであり、露光波長を透過する性質を有している。加圧フィルム１はその周囲において減圧室２の壁に連結され、減圧室の壁を構成しており、減圧室側Ｙが負圧になることにより、加圧フィルム１の中央部から周辺にかけてフィルムマスク３方向に山形に膨出し、フィルムマスク３を基板５０側に押圧するように構成されている。
【選択図】 図１
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】
この発明は、露光装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
フォトレジストなどの感光材料を塗布した基板表面に所定のパターンを露光装置により感光焼き付けし、その後エッチング工程により基板上にパターンを形成するフォトリソグラフィ法が種々の分野で広く応用されており、プリント配線基板等も近年露光装置を用いて製造されている。
この露光装置において、パターン原画が描かれた原版を基板に接触させずに露光する方式と原版と基板を密着させて露光する密着式とがある。また原版としては樹脂フィルムマスクやガラスマスク（パターン原画を描いたフィルムマスクをガラスに添付したものも含む）が用いられる。
フィルムマスクの場合主として密着式が採用されているが、フィルムマスクと基板の密着性を高めることが重要となる。
密着性を高める方法として、フィルムマスクの場合には、フィルムマスクの背面側を高圧にして密着させる背面高圧法と加圧フィルムを用いてマスクを背面から押圧する加圧フィルム法（特許文献１及び２参照）が知られている。
加圧フィルム法は、加圧フィルムの背面側に加圧室を形成し、これを高圧にして加圧フィルムを膨張させてフィルムマスクを基板に押し付ける構成になっている。
【０００３】
【特許文献１】
特許第２５０９１３４号公報
【特許文献２】
特公平８−２２５７１号公報
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】
しかし、従来の加圧フィルム法は、加圧フィルムの背面側に加圧室を設ける必要があり、装置が大型になり、重量も大きくなる問題がある。また加圧室の光源側は露光を透過させるためにガラスを用いるが、このガラスにより露光の減衰が生じ、効率的でない問題があった。更に、加圧室内にゴミがたまりやすく、クリーニングが必要であること、ガラスの破損の危険があること等の問題もあった。
本発明は上記従来技術の問題を解決することを目的とする。
【０００５】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成するために、本発明は、露光対象物を保持するプラテンと、露光対象物に露光すべき露光内容を描いたマスクを支持するマスク支持手段と、を備えた露光装置において、少なくとも前記マスク支持手段とプラテンとを納め、周囲圧力よりも低い圧力とすることが可能な減圧室と、該減圧室の壁の一面を形成し、該減圧室の減圧により減圧室内側に膨出する加圧フィルムと、前記マスク支持手段に支持されたマスクと前記プラテンに保持された露光対象物を前記膨出した加圧フィルムに押し付けて、前記マスクと露光対象物を密着させるように、前記プラテンと加圧フィルムとを相対的に移動させる手段と、を備えることを特徴とする。
上記構成により、マスクと露光対象物は加圧フィルムにより高い密着性で密着する。また、加圧フィルムは大気圧など減圧室外の周囲の圧力により膨出するため、高い圧力が得られ、しかも加圧室などを備えないため、構成が簡単で軽量化とコスト低減を図れる。また露光光の減衰も少なくなる。
マスク側と露光対象物側はどちら側を移動させても良いし、両方を移動させても良い。好適実施形態では、前記プラテンが移動可能であり、前記移動させる手段により前記マスク手段に支持されたマスク方向及び前記加圧フィルム方向に移動し、該プラテンの移動により、プラテン上の露光対象物を前記マスクに押し付け、更に加圧フィルムに押し付けて該マスクを露光対象物に密着させる、ように構成されている。
更に前記移動させる手段が前記減圧室外におき、前記プラテンの一部が減圧室外に延出して該移動させる手段に連結し、前記プラテンの延出部と減圧室との間をシールするシール手段を備えるように構成することも可能である。
【０００６】
【発明の実施の形態】
以下本発明の実施の形態を図面に基づいて説明する。
図１はプリント配線基板を製造するための露光装置であり、フォトレジストを施された基板５０はプラテン４上に載置され、Ｚ軸移動装置４０によりＺ軸方向に移動可能で、且つＸＹθ移動装置４１によりＸＹ軸方向及びθ方向（回転方向）に移動可能になっている。
【０００７】
回路パターンが描かれたフィルムマスク３は基板５０に対向して設けられており、プラテン４を上昇させてフィルムマスク３を基板５０に接触させ、上方の露光光源（図示せず）から露光光を照射して回路パターンを基板５０に焼き付けるようなっている。
【０００８】
フィルムマスク３の上方には加圧フィルム１が設けられており、プラテン４の上昇によりフィルムマスク３に接触させて、更にプラテン４を上昇させることにより加圧フィルム１によりフィルムマスク３を基板５０に押し付けるように構成されている。
フィルムマスク３はマスク支持装置３０に支持されており、上下方向に移動可能になっており、プラテン４の上昇により基板５０に接触した状態で加圧フィルム１方向に上昇するようになっている。
【０００９】
マスク支持装置３０とプラテン４及びＸＹθ移動装置４１は減圧室２内に納められており、マスク支持装置３０とプラテン４に支持されるフィルムマスク３と基板５０も減圧室２内に納められている。減圧室２の上面は前記加圧フィルム１になっており、減圧室２の他の面は他の所定の密閉部材により構成されている。Ｚ軸移動装置４０はシール２１を介して減圧室２の外部から内部に貫入しており、外部の大気を遮断しつつプラテン４をＺ軸方向に移動させることが出来るようになっている。
【００１０】
減圧室２には減圧ポンプ２０が設けられており、減圧室２の内部を負圧にすることができるようになっている。減圧室側Ｙが負圧になると、加圧フィルム１は大気圧により大気側Ｘから押されてフィルムマスク３側に膨出し、前記したようにフィルムマスク３を基板５０側に押圧するように構成されている。
【００１１】
加圧フィルム１は合成樹脂などのフィルムであり、露光波長を透過する性質を有している。加圧フィルム１はその周囲において減圧室２の壁に装着され、減圧室２の上面を構成している。この減圧室側Ｙが負圧になることにより、加圧フィルム１の中央部から周辺にかけてフィルムマスク３方向に山形に膨出するように構成されている。
【００１２】
なお、図１では加圧フィルム１、フィルムマスク３、基板５０は上下方向に配設されているが、これに限定されるものではなく、これらを垂直に立てて配設する構造も可能である。
また、基板５０を移動させるのではなく加圧フィルム１を移動させることも可能であり、更に両者を移動させるように構成することも可能である。
【００１３】
以上の構成において、基板５０をプラテン４上に載置し、プラテン４をＺ軸方向に上昇させ、アライメント高さに設定する。そしてＸＹθ移動装置４１によりＸＹ方向及びθ方向に移動させてフィルムマスク３との位置合わせを行う。
同時に減圧ポンプ２０の稼働を開始して減圧室側Ｙ内部を大気圧より低い圧力に減圧し始める。この減圧により加圧フィルム１はフィルムマスク３方向に次第に膨出する。
フィルムマスク３を膨出させつつ、プラテン４を上昇させて基板５０をフィルムマスク３に接触させる。
【００１４】
プラテン４を更に上昇させると、図２に示すようにフィルムマスク３に加圧フィルム１が接触し、フィルムマスク３を基板５０に押し付ける。加圧フィルム１は中央部から周辺にかけて山形に膨出しているため、プラテン４の上昇につれてフィルムマスク３の中央から周囲方向に順次基板５０に押し付けられ、フィルムマスク３と基板５０の間の空気を排出しつつ両者を密着させる。
また加圧フィルム１は大気圧により膨出しているため、押圧力が強く、フィルムマスク３と基板５０の密着圧力が大きくなる。
【００１５】
フィルムマスク３と基板５０が密着したら、その状態で露光光源（図示せず）から露光波長の光を照射して、フィルムマスク３に描かれたパターンを基板５０上に照射する。
露光光源からの光は加圧フィルム１を透過するだけであるから、減衰が少ない。
【００１６】
以上説明したように、上記構成においては、露光光源からの光は加圧フィルム１を透過するだけであるから、減衰が少なく効率的な露光が可能である。また大気圧を圧力源とするため、密着圧力を大きくすることが出来る。
更に従来のように加圧フィルム１の背面側にガラスを使用した密閉空間を形成しないため、軽量化が可能となり、また該密閉空間のゴミなどによる露光への障害やクリーニングの問題を除去できる。更にガラスの破損などの危険がないなどの利点がある。
【００１７】
【発明の効果】
以上説明したように本発明の露光装置によれば、効率的で精度の高い露光が行える効果がある。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の一実施形態を示す概略図。
【図２】本発明の一実施形態の動作を示す説明図。
【符号の説明】
１：加圧フィルム、２：減圧室、３：フィルムマスク、４：プラテン、２０：減圧ポンプ、２１：シール、３０：マスク支持装置、４０：Ｚ軸移動装置、４１：ＸＹθ移動装置、５０：基板。
【発明の属する技術分野】
この発明は、露光装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
フォトレジストなどの感光材料を塗布した基板表面に所定のパターンを露光装置により感光焼き付けし、その後エッチング工程により基板上にパターンを形成するフォトリソグラフィ法が種々の分野で広く応用されており、プリント配線基板等も近年露光装置を用いて製造されている。
この露光装置において、パターン原画が描かれた原版を基板に接触させずに露光する方式と原版と基板を密着させて露光する密着式とがある。また原版としては樹脂フィルムマスクやガラスマスク（パターン原画を描いたフィルムマスクをガラスに添付したものも含む）が用いられる。
フィルムマスクの場合主として密着式が採用されているが、フィルムマスクと基板の密着性を高めることが重要となる。
密着性を高める方法として、フィルムマスクの場合には、フィルムマスクの背面側を高圧にして密着させる背面高圧法と加圧フィルムを用いてマスクを背面から押圧する加圧フィルム法（特許文献１及び２参照）が知られている。
加圧フィルム法は、加圧フィルムの背面側に加圧室を形成し、これを高圧にして加圧フィルムを膨張させてフィルムマスクを基板に押し付ける構成になっている。
【０００３】
【特許文献１】
特許第２５０９１３４号公報
【特許文献２】
特公平８−２２５７１号公報
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】
しかし、従来の加圧フィルム法は、加圧フィルムの背面側に加圧室を設ける必要があり、装置が大型になり、重量も大きくなる問題がある。また加圧室の光源側は露光を透過させるためにガラスを用いるが、このガラスにより露光の減衰が生じ、効率的でない問題があった。更に、加圧室内にゴミがたまりやすく、クリーニングが必要であること、ガラスの破損の危険があること等の問題もあった。
本発明は上記従来技術の問題を解決することを目的とする。
【０００５】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成するために、本発明は、露光対象物を保持するプラテンと、露光対象物に露光すべき露光内容を描いたマスクを支持するマスク支持手段と、を備えた露光装置において、少なくとも前記マスク支持手段とプラテンとを納め、周囲圧力よりも低い圧力とすることが可能な減圧室と、該減圧室の壁の一面を形成し、該減圧室の減圧により減圧室内側に膨出する加圧フィルムと、前記マスク支持手段に支持されたマスクと前記プラテンに保持された露光対象物を前記膨出した加圧フィルムに押し付けて、前記マスクと露光対象物を密着させるように、前記プラテンと加圧フィルムとを相対的に移動させる手段と、を備えることを特徴とする。
上記構成により、マスクと露光対象物は加圧フィルムにより高い密着性で密着する。また、加圧フィルムは大気圧など減圧室外の周囲の圧力により膨出するため、高い圧力が得られ、しかも加圧室などを備えないため、構成が簡単で軽量化とコスト低減を図れる。また露光光の減衰も少なくなる。
マスク側と露光対象物側はどちら側を移動させても良いし、両方を移動させても良い。好適実施形態では、前記プラテンが移動可能であり、前記移動させる手段により前記マスク手段に支持されたマスク方向及び前記加圧フィルム方向に移動し、該プラテンの移動により、プラテン上の露光対象物を前記マスクに押し付け、更に加圧フィルムに押し付けて該マスクを露光対象物に密着させる、ように構成されている。
更に前記移動させる手段が前記減圧室外におき、前記プラテンの一部が減圧室外に延出して該移動させる手段に連結し、前記プラテンの延出部と減圧室との間をシールするシール手段を備えるように構成することも可能である。
【０００６】
【発明の実施の形態】
以下本発明の実施の形態を図面に基づいて説明する。
図１はプリント配線基板を製造するための露光装置であり、フォトレジストを施された基板５０はプラテン４上に載置され、Ｚ軸移動装置４０によりＺ軸方向に移動可能で、且つＸＹθ移動装置４１によりＸＹ軸方向及びθ方向（回転方向）に移動可能になっている。
【０００７】
回路パターンが描かれたフィルムマスク３は基板５０に対向して設けられており、プラテン４を上昇させてフィルムマスク３を基板５０に接触させ、上方の露光光源（図示せず）から露光光を照射して回路パターンを基板５０に焼き付けるようなっている。
【０００８】
フィルムマスク３の上方には加圧フィルム１が設けられており、プラテン４の上昇によりフィルムマスク３に接触させて、更にプラテン４を上昇させることにより加圧フィルム１によりフィルムマスク３を基板５０に押し付けるように構成されている。
フィルムマスク３はマスク支持装置３０に支持されており、上下方向に移動可能になっており、プラテン４の上昇により基板５０に接触した状態で加圧フィルム１方向に上昇するようになっている。
【０００９】
マスク支持装置３０とプラテン４及びＸＹθ移動装置４１は減圧室２内に納められており、マスク支持装置３０とプラテン４に支持されるフィルムマスク３と基板５０も減圧室２内に納められている。減圧室２の上面は前記加圧フィルム１になっており、減圧室２の他の面は他の所定の密閉部材により構成されている。Ｚ軸移動装置４０はシール２１を介して減圧室２の外部から内部に貫入しており、外部の大気を遮断しつつプラテン４をＺ軸方向に移動させることが出来るようになっている。
【００１０】
減圧室２には減圧ポンプ２０が設けられており、減圧室２の内部を負圧にすることができるようになっている。減圧室側Ｙが負圧になると、加圧フィルム１は大気圧により大気側Ｘから押されてフィルムマスク３側に膨出し、前記したようにフィルムマスク３を基板５０側に押圧するように構成されている。
【００１１】
加圧フィルム１は合成樹脂などのフィルムであり、露光波長を透過する性質を有している。加圧フィルム１はその周囲において減圧室２の壁に装着され、減圧室２の上面を構成している。この減圧室側Ｙが負圧になることにより、加圧フィルム１の中央部から周辺にかけてフィルムマスク３方向に山形に膨出するように構成されている。
【００１２】
なお、図１では加圧フィルム１、フィルムマスク３、基板５０は上下方向に配設されているが、これに限定されるものではなく、これらを垂直に立てて配設する構造も可能である。
また、基板５０を移動させるのではなく加圧フィルム１を移動させることも可能であり、更に両者を移動させるように構成することも可能である。
【００１３】
以上の構成において、基板５０をプラテン４上に載置し、プラテン４をＺ軸方向に上昇させ、アライメント高さに設定する。そしてＸＹθ移動装置４１によりＸＹ方向及びθ方向に移動させてフィルムマスク３との位置合わせを行う。
同時に減圧ポンプ２０の稼働を開始して減圧室側Ｙ内部を大気圧より低い圧力に減圧し始める。この減圧により加圧フィルム１はフィルムマスク３方向に次第に膨出する。
フィルムマスク３を膨出させつつ、プラテン４を上昇させて基板５０をフィルムマスク３に接触させる。
【００１４】
プラテン４を更に上昇させると、図２に示すようにフィルムマスク３に加圧フィルム１が接触し、フィルムマスク３を基板５０に押し付ける。加圧フィルム１は中央部から周辺にかけて山形に膨出しているため、プラテン４の上昇につれてフィルムマスク３の中央から周囲方向に順次基板５０に押し付けられ、フィルムマスク３と基板５０の間の空気を排出しつつ両者を密着させる。
また加圧フィルム１は大気圧により膨出しているため、押圧力が強く、フィルムマスク３と基板５０の密着圧力が大きくなる。
【００１５】
フィルムマスク３と基板５０が密着したら、その状態で露光光源（図示せず）から露光波長の光を照射して、フィルムマスク３に描かれたパターンを基板５０上に照射する。
露光光源からの光は加圧フィルム１を透過するだけであるから、減衰が少ない。
【００１６】
以上説明したように、上記構成においては、露光光源からの光は加圧フィルム１を透過するだけであるから、減衰が少なく効率的な露光が可能である。また大気圧を圧力源とするため、密着圧力を大きくすることが出来る。
更に従来のように加圧フィルム１の背面側にガラスを使用した密閉空間を形成しないため、軽量化が可能となり、また該密閉空間のゴミなどによる露光への障害やクリーニングの問題を除去できる。更にガラスの破損などの危険がないなどの利点がある。
【００１７】
【発明の効果】
以上説明したように本発明の露光装置によれば、効率的で精度の高い露光が行える効果がある。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の一実施形態を示す概略図。
【図２】本発明の一実施形態の動作を示す説明図。
【符号の説明】
１：加圧フィルム、２：減圧室、３：フィルムマスク、４：プラテン、２０：減圧ポンプ、２１：シール、３０：マスク支持装置、４０：Ｚ軸移動装置、４１：ＸＹθ移動装置、５０：基板。
Claims (4)
- 露光対象物を保持するプラテンと、露光対象物に露光すべき露光内容を描いたマスクを支持するマスク支持手段と、を備えた露光装置において、少なくとも前記マスク支持手段とプラテンとを納め、周囲圧力よりも低い圧力とすることが可能な減圧室と、
該減圧室の壁の一面を形成し、該減圧室の減圧により減圧室内側に膨出する加圧フィルムと、
前記マスク支持手段に支持されたマスクと前記プラテンに保持された露光対象物を前記膨出した加圧フィルムに押し付けて、前記マスクと露光対象物を密着させるように、前記プラテンと加圧フィルムとを相対的に移動させる手段と、
を備えることを特徴とする露光装置。 - 前記プラテンが移動可能であり、前記移動させる手段により前記マスク手段に支持されたマスク方向及び前記加圧フィルム方向に移動し、
該プラテンの移動により、プラテン上の露光対象物を前記マスクに押し付け、更に加圧フィルムに押し付けて該マスクを露光対象物に密着させる、
請求項１に記載の露光装置。 - 前記移動させる手段が前記減圧室外にあり、
前記プラテンの一部が減圧室外に延出して該移動させる手段に連結し、
前記プラテンの延出部と減圧室との間をシールするシール手段を備えた、
請求項１又は２に記載の露光装置。 - 露光対象物を保持するプラテンと、
露光内容を描いたマスクと、
該マスクを該プラテンに保持された露光対象物に密着させるための加圧フィルムと、
前記加圧フィルムと他の密閉材により形成され、少なくとも前記マスクと露光対象物とを納める密閉空間と、
前記密閉空間を負圧とする装置と、を備え、
該密閉空間を負圧とすることにより前記加圧フィルムが前記マスクを露光対象物に押し付ける、
ことを特徴とする露光装置。
Priority Applications (5)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2002355076A JP2004184940A (ja) | 2002-12-06 | 2002-12-06 | 露光装置 |
| TW092130693A TWI272458B (en) | 2002-12-06 | 2003-11-03 | Exposure device |
| KR1020030077551A KR20040049785A (ko) | 2002-12-06 | 2003-11-04 | 노광장치 |
| CNA2003101170020A CN1506762A (zh) | 2002-12-06 | 2003-11-27 | 曝光设备 |
| DE10356450A DE10356450A1 (de) | 2002-12-06 | 2003-12-03 | Belichtungsvorrichtung |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2002355076A JP2004184940A (ja) | 2002-12-06 | 2002-12-06 | 露光装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2004184940A true JP2004184940A (ja) | 2004-07-02 |
Family
ID=32376183
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2002355076A Pending JP2004184940A (ja) | 2002-12-06 | 2002-12-06 | 露光装置 |
Country Status (5)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2004184940A (ja) |
| KR (1) | KR20040049785A (ja) |
| CN (1) | CN1506762A (ja) |
| DE (1) | DE10356450A1 (ja) |
| TW (1) | TWI272458B (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2018055051A (ja) * | 2016-09-30 | 2018-04-05 | ウシオ電機株式会社 | コンタクト露光装置 |
| CN108803250A (zh) * | 2018-06-05 | 2018-11-13 | 梁亚 | 一种半导体芯片生产用接近式光刻机 |
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