JP2509134B2 - プリント配線基板の露光方法及び装置 - Google Patents
プリント配線基板の露光方法及び装置Info
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- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70691—Handling of masks or workpieces
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70216—Mask projection systems
- G03F7/7035—Proximity or contact printers
Description
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】この発明はプリント配線基板の露
光装置に関し、露光すべきパターンを有するフィルムマ
スクとプリント配線基板を精度良く密着させる技術に関
する。
光装置に関し、露光すべきパターンを有するフィルムマ
スクとプリント配線基板を精度良く密着させる技術に関
する。
【０００２】
【従来の技術】プリント配線基板の導体のパターンを形
成するために、形成すべきパターンを描いた原版を用い
て光を投影露光することによりプリント配線基板に原版
と同一のパターンを描くフォトリソグラフィー法が用い
られるようになってきている。この方法は、従来からＩ
Ｃの製造の際に用いられてきており、ＩＣ等の製造の場
合には高い精度を要求されるために、原版としてはガラ
ス板が用いられる。しかし、プリント配線基板の場合に
は比較的精度が低くて良いため、原版としてフィルムマ
スクを用いるのが普通である。しかしフィルムマスクを
用いた場合、フィルムマスクとプリント配線基板の密着
が不十分であると投射された光が回り込みパターンの幅
が一定にならない問題を生じる。そのため、フィルムマ
スクとプリント配線基板を密着させることが極めて重要
である。このフィルムマスクとプリント配線基板を密着
させるために、従来はフィルムマスクとプリント配線基
板を機械的に密着させた後に、フィルムマスクとプリン
ト配線基板の間を吸引して負圧にするか、フィルムマス
クの背面側を加圧してフィルムマスクを膨らますことに
よりフィルムマスクとプリント配線基板の密着を図って
いた。
成するために、形成すべきパターンを描いた原版を用い
て光を投影露光することによりプリント配線基板に原版
と同一のパターンを描くフォトリソグラフィー法が用い
られるようになってきている。この方法は、従来からＩ
Ｃの製造の際に用いられてきており、ＩＣ等の製造の場
合には高い精度を要求されるために、原版としてはガラ
ス板が用いられる。しかし、プリント配線基板の場合に
は比較的精度が低くて良いため、原版としてフィルムマ
スクを用いるのが普通である。しかしフィルムマスクを
用いた場合、フィルムマスクとプリント配線基板の密着
が不十分であると投射された光が回り込みパターンの幅
が一定にならない問題を生じる。そのため、フィルムマ
スクとプリント配線基板を密着させることが極めて重要
である。このフィルムマスクとプリント配線基板を密着
させるために、従来はフィルムマスクとプリント配線基
板を機械的に密着させた後に、フィルムマスクとプリン
ト配線基板の間を吸引して負圧にするか、フィルムマス
クの背面側を加圧してフィルムマスクを膨らますことに
よりフィルムマスクとプリント配線基板の密着を図って
いた。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかし、従来の方法及
び装置の場合、フィルムマスクとプリント配線基板の密
着が十分に行われず、そのためにパターン転写の精度が
十分に上がらない欠点があった。また、フィルムマスク
を加圧する場合にはフィルムマスクの伸びが生じ、これ
もパターン転写の精度を阻害する問題があった。更にフ
ィルムマスクの固定の仕方によっては、フィルムマスク
の伸びが不均一となり転写パターンに歪みが生ずる等の
欠点があった。本発明は上記した従来技術の問題点を解
決することを目的とする。
び装置の場合、フィルムマスクとプリント配線基板の密
着が十分に行われず、そのためにパターン転写の精度が
十分に上がらない欠点があった。また、フィルムマスク
を加圧する場合にはフィルムマスクの伸びが生じ、これ
もパターン転写の精度を阻害する問題があった。更にフ
ィルムマスクの固定の仕方によっては、フィルムマスク
の伸びが不均一となり転写パターンに歪みが生ずる等の
欠点があった。本発明は上記した従来技術の問題点を解
決することを目的とする。
【０００４】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に本発明のプリント配線基板の露光方法は、所定のパタ
ーンを有するフィルムマスクをプリント配線基板に密接
し、流体を導入することにより中央部が凸となるように
膨らむ加圧フィルムを該フィルムマスクの背面側に押し
付けて該フィルムマスクをプリント配線基板に密着さ
せ、次いで露光することによりフィルムマスク上のパタ
ーンをプリント配線基板に焼き付けることを特徴とす
る。
に本発明のプリント配線基板の露光方法は、所定のパタ
ーンを有するフィルムマスクをプリント配線基板に密接
し、流体を導入することにより中央部が凸となるように
膨らむ加圧フィルムを該フィルムマスクの背面側に押し
付けて該フィルムマスクをプリント配線基板に密着さ
せ、次いで露光することによりフィルムマスク上のパタ
ーンをプリント配線基板に焼き付けることを特徴とす
る。
【０００５】
【作用】フィルムマスク自体を膨らませず加圧フィルム
を膨らませることにより、フィルムマスクの伸びが生じ
ない。また、加圧フィルムは中央部が凸となるように膨
張し、フィルムマスクに中央部から接触するため、フィ
ルムマスクの密着が十分に行われる。
を膨らませることにより、フィルムマスクの伸びが生じ
ない。また、加圧フィルムは中央部が凸となるように膨
張し、フィルムマスクに中央部から接触するため、フィ
ルムマスクの密着が十分に行われる。
【０００６】
【実施例】以下本発明の実施例を図面に基づいて説明す
る。プリント配線基板保持装置１はプリント配線基板Ｋ
を吸引保持するチャック１０を備えており、このチャッ
ク１０はθステージ１１、Ｙステージ１２、Ｘステージ
１３、Ｚステージ１４によりｘｙｚ方向に移動可能であ
り、且つｚ軸を中心として水平方向（θ方向）に回動可
能になっている。θステージ１１、Ｙステージ１２、Ｘ
ステージ１３、Ｚステージ１４は制御装置５に制御され
るように構成されている。プリント配線基板Ｋはそのパ
ターン転写面Ｓを上に向けてチャック１０に載置される
ようになっている。パターン転写面Ｓには感光剤が塗布
されるか或いは感光フィルムが貼着されている。
る。プリント配線基板保持装置１はプリント配線基板Ｋ
を吸引保持するチャック１０を備えており、このチャッ
ク１０はθステージ１１、Ｙステージ１２、Ｘステージ
１３、Ｚステージ１４によりｘｙｚ方向に移動可能であ
り、且つｚ軸を中心として水平方向（θ方向）に回動可
能になっている。θステージ１１、Ｙステージ１２、Ｘ
ステージ１３、Ｚステージ１４は制御装置５に制御され
るように構成されている。プリント配線基板Ｋはそのパ
ターン転写面Ｓを上に向けてチャック１０に載置される
ようになっている。パターン転写面Ｓには感光剤が塗布
されるか或いは感光フィルムが貼着されている。
【０００７】プリント配線基板保持装置１の上方にはフ
ィルムマスク保持装置２が備えられている。該フィルム
マスク保持装置２は枠形状のホルダ２０を備えており、
該ホルダ２０は枠形状の４隅に備えられた吊下脚２１を
介して基台９から吊り下げられている。吊下脚２１は基
台９に対して上下方向移動可能に装着されており、スプ
リング２４により常態ではホルダ２０を下方に押圧する
ようになっている。フィルムマスク保持装置２の内側に
は同様に枠形状のフレーム２２が脱着可能に装着されて
おり、該フレーム２２の下面に粘着テープ２３を介して
フィルムマスクＦを貼着するようになっている。フレー
ム２２に透明フィルムを張り付けて、該透明フィルムに
フィルムマスクＦを貼着するようにしても良い。フレー
ム２２の上下方向位置は、ホルダ２０の下面がチャック
１０の上面に接触したときに、フィルムマスクＦがプリ
ント配線基板Ｋのパターン転写面Ｓに接触せず、僅かに
隙間があくような位置に調整してある。
ィルムマスク保持装置２が備えられている。該フィルム
マスク保持装置２は枠形状のホルダ２０を備えており、
該ホルダ２０は枠形状の４隅に備えられた吊下脚２１を
介して基台９から吊り下げられている。吊下脚２１は基
台９に対して上下方向移動可能に装着されており、スプ
リング２４により常態ではホルダ２０を下方に押圧する
ようになっている。フィルムマスク保持装置２の内側に
は同様に枠形状のフレーム２２が脱着可能に装着されて
おり、該フレーム２２の下面に粘着テープ２３を介して
フィルムマスクＦを貼着するようになっている。フレー
ム２２に透明フィルムを張り付けて、該透明フィルムに
フィルムマスクＦを貼着するようにしても良い。フレー
ム２２の上下方向位置は、ホルダ２０の下面がチャック
１０の上面に接触したときに、フィルムマスクＦがプリ
ント配線基板Ｋのパターン転写面Ｓに接触せず、僅かに
隙間があくような位置に調整してある。
【０００８】ホルダ２０の周囲には複数の吸着孔３１が
形成されており、該吸着孔３１には電磁弁３２を介して
真空ポンプ３３が接続している。この吸着孔３１と電磁
弁３２と真空ポンプ３３でクランプ装置３を構成してお
り、ホルダ２０とチャック１０をその周囲において吸着
させて締結するようになっている。なお、この実施例で
は前記したスプリング２４とクランプ装置３とを併用し
てチャック１０とホルダ２０とを締結するようにしてい
るが、どちらか一方だけを採用しても良い。
形成されており、該吸着孔３１には電磁弁３２を介して
真空ポンプ３３が接続している。この吸着孔３１と電磁
弁３２と真空ポンプ３３でクランプ装置３を構成してお
り、ホルダ２０とチャック１０をその周囲において吸着
させて締結するようになっている。なお、この実施例で
は前記したスプリング２４とクランプ装置３とを併用し
てチャック１０とホルダ２０とを締結するようにしてい
るが、どちらか一方だけを採用しても良い。
【０００９】前記基台９には加圧装置４が設置されてい
る。加圧装置４は露光波長を透過するガラス板４０と、
該ガラス板４０を周囲において支持する枠形の支持フレ
ーム４２を備えており、該支持フレーム４２が基台９に
固定されている。支持フレーム４２の下側には加圧フィ
ルムＰが装着されている。該加圧フィルムＰも露光波長
に対して透明であり、かつ柔軟性を有して膨張収縮が可
能になっている。加圧フィルムＰはその周囲を支持フレ
ーム４２の下面に密着固定されており、ガラス板４０と
の間に所定の密閉隙間Ｇを形成するようになっている。
該隙間Ｇには支持フレーム４２に設けられた給気孔４６
が開口しており、該給気孔４６に連結された空気源４５
から空気が供給されるようになっている。即ち、加圧フ
ィルムＰは隙間Ｇに導入された空気により膨張してフィ
ルムマスクＦ方向に膨らむように構成されている。加圧
フィルムＰは周囲を支持フレーム４２に密閉されて固定
されているため、中央部が凸の球面形状に類似した形状
に膨張する。前記したホルダ２０は常態ではスプリング
２４により下方に押し下げられており、この状態で加圧
フィルムＰが膨らんでも、加圧フィルムＰとフィルムマ
スクＦとは接触しないだけの距離が設けてある。なお加
圧フィルムＰは通常のシート状のものでも良いし、或い
は膨張した場合に中央部が凸になり易いように予め立体
的な形状としても良い。また隙間Ｇに導入する流体は空
気だけではなく、他のどのような気体或いは液体などの
流体であっても良い。なお、この実施例では空気源４５
と給気孔４６の間にリリーフ付き減圧弁４４を設けて隙
間Ｇ内の圧力を一定に保つようになっている。
る。加圧装置４は露光波長を透過するガラス板４０と、
該ガラス板４０を周囲において支持する枠形の支持フレ
ーム４２を備えており、該支持フレーム４２が基台９に
固定されている。支持フレーム４２の下側には加圧フィ
ルムＰが装着されている。該加圧フィルムＰも露光波長
に対して透明であり、かつ柔軟性を有して膨張収縮が可
能になっている。加圧フィルムＰはその周囲を支持フレ
ーム４２の下面に密着固定されており、ガラス板４０と
の間に所定の密閉隙間Ｇを形成するようになっている。
該隙間Ｇには支持フレーム４２に設けられた給気孔４６
が開口しており、該給気孔４６に連結された空気源４５
から空気が供給されるようになっている。即ち、加圧フ
ィルムＰは隙間Ｇに導入された空気により膨張してフィ
ルムマスクＦ方向に膨らむように構成されている。加圧
フィルムＰは周囲を支持フレーム４２に密閉されて固定
されているため、中央部が凸の球面形状に類似した形状
に膨張する。前記したホルダ２０は常態ではスプリング
２４により下方に押し下げられており、この状態で加圧
フィルムＰが膨らんでも、加圧フィルムＰとフィルムマ
スクＦとは接触しないだけの距離が設けてある。なお加
圧フィルムＰは通常のシート状のものでも良いし、或い
は膨張した場合に中央部が凸になり易いように予め立体
的な形状としても良い。また隙間Ｇに導入する流体は空
気だけではなく、他のどのような気体或いは液体などの
流体であっても良い。なお、この実施例では空気源４５
と給気孔４６の間にリリーフ付き減圧弁４４を設けて隙
間Ｇ内の圧力を一定に保つようになっている。
【００１０】加圧装置４の上方には更に位置計測装置６
が設けられており、フィルムマスクＦとプリント配線基
板Ｋの位置合わせを行う様に構成されている。該位置計
測装置６はＴＶカメラ６０と画像処理装置６１を備えて
おり、該ＴＶカメラ６０によりフィルムマスクＦに設け
られた位置決め基準マーク６３とプリント配線基板Ｋに
設けられた位置決め基準マーク６２の位置のｘｙ方向の
ずれを検出し、該ずれ量の信号を制御装置５に送って、
この制御装置５でθステージ１１、Ｙステージ１２、Ｘ
ステージ１３を制御して、チャック１０を移動させて、
該ずれを解消するように構成されている。
が設けられており、フィルムマスクＦとプリント配線基
板Ｋの位置合わせを行う様に構成されている。該位置計
測装置６はＴＶカメラ６０と画像処理装置６１を備えて
おり、該ＴＶカメラ６０によりフィルムマスクＦに設け
られた位置決め基準マーク６３とプリント配線基板Ｋに
設けられた位置決め基準マーク６２の位置のｘｙ方向の
ずれを検出し、該ずれ量の信号を制御装置５に送って、
この制御装置５でθステージ１１、Ｙステージ１２、Ｘ
ステージ１３を制御して、チャック１０を移動させて、
該ずれを解消するように構成されている。
【００１１】ＴＶカメラ６０の上方には更に光源７が設
けられており、露光用の光を投射するようになってい
る。なお、ＴＶカメラ６０は水平方向移動可能に構成し
てあり、露光時には光源７の光を遮らないように端部に
退避させることが出来るように構成されている。
けられており、露光用の光を投射するようになってい
る。なお、ＴＶカメラ６０は水平方向移動可能に構成し
てあり、露光時には光源７の光を遮らないように端部に
退避させることが出来るように構成されている。
【００１２】次に動作を説明する。まず、空気源４５か
ら隙間Ｇに空気を導入して、加圧フィルムＰをフィルム
マスクＦ側に膨らませる。そして、所望のフィルムマス
クＦをフレーム２２に取り付け、該フレーム２２をホル
ダ２０に装着する。前記したように加圧フィルムＰを膨
らませてもフィルムマスクＦとは接触しないようにホル
ダ２０の最下位置を調整してある。次にプリント配線基
板Ｋをチャック１０に載置し、吸引装置（図示せず）に
より吸引して固定する。そして、Ｚステージ１４を駆動
してプリント配線基板Ｋのパターン転写面Ｓとフィルム
マスクＦとの間隔が０．５〜１ｍｍ程度になるまでチャ
ック１０を上昇させる。
ら隙間Ｇに空気を導入して、加圧フィルムＰをフィルム
マスクＦ側に膨らませる。そして、所望のフィルムマス
クＦをフレーム２２に取り付け、該フレーム２２をホル
ダ２０に装着する。前記したように加圧フィルムＰを膨
らませてもフィルムマスクＦとは接触しないようにホル
ダ２０の最下位置を調整してある。次にプリント配線基
板Ｋをチャック１０に載置し、吸引装置（図示せず）に
より吸引して固定する。そして、Ｚステージ１４を駆動
してプリント配線基板Ｋのパターン転写面Ｓとフィルム
マスクＦとの間隔が０．５〜１ｍｍ程度になるまでチャ
ック１０を上昇させる。
【００１３】次に位置計測装置６により位置決め基準マ
ーク６２と位置決め基準マーク６３のｘｙ方向のずれ量
を測定し、該測定結果を制御装置５に送る。制御装置５
はｘｙθ方向の補正量を計算して、該補正量に基づいて
Ｘステージ１３、Ｙステージ１２、θステージ１１を制
御し、チャック１０をｘｙθ方向に移動させて該ずれ量
を解消する。これにより位置合わせが行われる。
ーク６２と位置決め基準マーク６３のｘｙ方向のずれ量
を測定し、該測定結果を制御装置５に送る。制御装置５
はｘｙθ方向の補正量を計算して、該補正量に基づいて
Ｘステージ１３、Ｙステージ１２、θステージ１１を制
御し、チャック１０をｘｙθ方向に移動させて該ずれ量
を解消する。これにより位置合わせが行われる。
【００１４】位置合わせが終了したら、Ｚステージ１４
によりチャック１０を上昇させて、チャック１０の上面
とホルダ２０の下面を接触させ、スプリング２４の押圧
力によりホルダ２０がチャック１０に押しつけられるよ
うにする。この状態でフィルムマスクＦとプリント配線
基板Ｋのパターン転写面Ｓとの間には僅かに隙間があい
ている。同時に真空ポンプ３３でチャック１０の外周部
を真空吸引することによりチャック１０とホルダ２０が
更に強固に締結される。
によりチャック１０を上昇させて、チャック１０の上面
とホルダ２０の下面を接触させ、スプリング２４の押圧
力によりホルダ２０がチャック１０に押しつけられるよ
うにする。この状態でフィルムマスクＦとプリント配線
基板Ｋのパターン転写面Ｓとの間には僅かに隙間があい
ている。同時に真空ポンプ３３でチャック１０の外周部
を真空吸引することによりチャック１０とホルダ２０が
更に強固に締結される。
【００１５】次に位置計測装置６により再度フィルムマ
スクＦとプリント配線基板Ｋのずれ量を測定し、許容値
内であればそのまま更にＺステージ１４を上昇させてチ
ャック１０とホルダ２０を上昇させ、最終的にガラス板
４０とプリント配線基板Ｋの間隔が０．５〜１ｍｍ程度
になるまで接近させる。また許容値外であれば、Ｚステ
ージ１４を下降させて前記と同様にずれ量が解消するよ
うに制御する。
スクＦとプリント配線基板Ｋのずれ量を測定し、許容値
内であればそのまま更にＺステージ１４を上昇させてチ
ャック１０とホルダ２０を上昇させ、最終的にガラス板
４０とプリント配線基板Ｋの間隔が０．５〜１ｍｍ程度
になるまで接近させる。また許容値外であれば、Ｚステ
ージ１４を下降させて前記と同様にずれ量が解消するよ
うに制御する。
【００１６】チャック１０とホルダ２０を上昇させると
フィルムマスクＦは次第に加圧フィルムＰに接触する。
加圧フィルムＰはその中心部が一番膨らんでいるため、
中心部から加圧フィルムＰに接触しながら、潰れてゆき
フィルムマスクＦをプリント配線基板Ｋに全面的に密着
させる。隙間Ｇの空気は加圧フィルムＰが潰されるのに
伴って空気源４５側に押し戻され、リリーフ付き減圧弁
４４から排気される。そのため空気源４５からは常に一
定圧の空気が供給され、フィルムマスクＦは加圧フィル
ムＰにより一定の加圧力でプリント配線基板Ｋに押しつ
けられることになる。
フィルムマスクＦは次第に加圧フィルムＰに接触する。
加圧フィルムＰはその中心部が一番膨らんでいるため、
中心部から加圧フィルムＰに接触しながら、潰れてゆき
フィルムマスクＦをプリント配線基板Ｋに全面的に密着
させる。隙間Ｇの空気は加圧フィルムＰが潰されるのに
伴って空気源４５側に押し戻され、リリーフ付き減圧弁
４４から排気される。そのため空気源４５からは常に一
定圧の空気が供給され、フィルムマスクＦは加圧フィル
ムＰにより一定の加圧力でプリント配線基板Ｋに押しつ
けられることになる。
【００１７】以上の動作が終了したら、ＴＶカメラ６０
を退避させた後に光源７を点灯し、フィルムマスクＦの
回路パターンをプリント配線基板Ｋのパターン転写面Ｓ
上に転写する。
を退避させた後に光源７を点灯し、フィルムマスクＦの
回路パターンをプリント配線基板Ｋのパターン転写面Ｓ
上に転写する。
【００１８】なお、前記した動作では加圧フィルムＰを
先に膨らませておいて、加圧フィルムＰにフィルムマス
クＦを接触させていたが、これに限定されることなく、
例えばガラス板４０とプリント配線基板Ｋを先に０．５
〜１ｍｍ程度に接近させておいて、加圧フィルムＰを膨
らませるようにしても良い。この場合フィルムマスクＦ
とプリント配線基板Ｋの間に空気層が残らないように配
慮する必要がある。そのためには、例えば図２に示すよ
うにチャック１０の上面をフィルムマスクＦ側に凸形状
とし、加圧フィルムＰを膨らませてフィルムマスクＦを
加圧するときにフィルムマスクＦとプリント配線基板Ｋ
が中心から外周に向かって徐々に接触し、空気層が残ら
ずに全面密着させるように構成しても良い。
先に膨らませておいて、加圧フィルムＰにフィルムマス
クＦを接触させていたが、これに限定されることなく、
例えばガラス板４０とプリント配線基板Ｋを先に０．５
〜１ｍｍ程度に接近させておいて、加圧フィルムＰを膨
らませるようにしても良い。この場合フィルムマスクＦ
とプリント配線基板Ｋの間に空気層が残らないように配
慮する必要がある。そのためには、例えば図２に示すよ
うにチャック１０の上面をフィルムマスクＦ側に凸形状
とし、加圧フィルムＰを膨らませてフィルムマスクＦを
加圧するときにフィルムマスクＦとプリント配線基板Ｋ
が中心から外周に向かって徐々に接触し、空気層が残ら
ずに全面密着させるように構成しても良い。
【００１９】また、位置計測装置６によるフィルムマス
クＦとプリント配線基板Ｋの位置ずれの確認は、ＴＶカ
メラ６０を上下方向にも移動可能としておき、チャック
１０とホルダ２０の上昇位置で露光直前に再度行っても
良い。露光直前に行うほうが、より信頼性の高いパター
ン転写を実現できる。
クＦとプリント配線基板Ｋの位置ずれの確認は、ＴＶカ
メラ６０を上下方向にも移動可能としておき、チャック
１０とホルダ２０の上昇位置で露光直前に再度行っても
良い。露光直前に行うほうが、より信頼性の高いパター
ン転写を実現できる。
【００２０】以上説明した構成及び方法によれば、フィ
ルムマスクＦを膨らませたりすることがなく、フィルム
マスクＦを平坦に保ったままプリント配線基板Ｋに密着
できるため、フィルムマスクＦに無理な力がかからず、
フィルムマスクＦの伸び等を最小に抑制することが出来
る。また、位置計測装置６により位置合わせを行った後
にチャック１０とホルダ２０を締結してフィルムマスク
Ｆとプリント配線基板Ｋの位置関係を固定するため、位
置合わせの精度が向上する。更に加圧フィルムＰにより
フィルムマスクＦを中心部から外周部に向かって徐々に
プリント配線基板Ｋに押しつけていくため、フィルムマ
スクＦとプリント配線基板Ｋの間に空気層が残存するこ
とがなく、全面密着が図れ、その結果露光光が陰の部分
に回り込む減少を防止でき、微細なパターンの転写が可
能になる等の効果がある。
ルムマスクＦを膨らませたりすることがなく、フィルム
マスクＦを平坦に保ったままプリント配線基板Ｋに密着
できるため、フィルムマスクＦに無理な力がかからず、
フィルムマスクＦの伸び等を最小に抑制することが出来
る。また、位置計測装置６により位置合わせを行った後
にチャック１０とホルダ２０を締結してフィルムマスク
Ｆとプリント配線基板Ｋの位置関係を固定するため、位
置合わせの精度が向上する。更に加圧フィルムＰにより
フィルムマスクＦを中心部から外周部に向かって徐々に
プリント配線基板Ｋに押しつけていくため、フィルムマ
スクＦとプリント配線基板Ｋの間に空気層が残存するこ
とがなく、全面密着が図れ、その結果露光光が陰の部分
に回り込む減少を防止でき、微細なパターンの転写が可
能になる等の効果がある。
【発明の効果】以上説明したように本発明のプリント配
線基板の露光方法は、所定のパターンを有するフィルム
マスクをプリント配線基板に密接し、流体を導入するこ
とにより中央部が凸となるように膨らむ加圧フィルムを
該フィルムマスクの背面側に押し付けて該フィルムマス
クをプリント配線基板に密着させ、次いで露光すること
によりフィルムマスク上のパターンをプリント配線基板
に焼き付けるように構成されているため、高精度のパタ
ーンの転写が可能になる効果がある。
線基板の露光方法は、所定のパターンを有するフィルム
マスクをプリント配線基板に密接し、流体を導入するこ
とにより中央部が凸となるように膨らむ加圧フィルムを
該フィルムマスクの背面側に押し付けて該フィルムマス
クをプリント配線基板に密着させ、次いで露光すること
によりフィルムマスク上のパターンをプリント配線基板
に焼き付けるように構成されているため、高精度のパタ
ーンの転写が可能になる効果がある。
【図１】本発明の一実施例を示す立面図。
【図２】本発明の他の実施例を示す立面図。
１：プリント配線基板保持装置、２：フィルムマスク保
持装置、３：クランプ装置、４：加圧装置、５：制御装
置、６：位置計測装置、７：光源、９：基台、１０：チ
ャック、１１：θステージ、１２：Ｙステージ、１３：
Ｘステージ、１４：Ｚステージ、２０：ホルダ、２１：
吊下脚、２２：フレーム、２３：粘着テープ、２４：ス
プリング、３１：吸着孔、３２：電磁弁、３３：真空ポ
ンプ、４０：ガラス板、４２：支持フレーム、４４：リ
リーフ付き減圧弁、４５：空気源、４６：給気孔、６
０：ＴＶカメラ、６１：画像処理装置、６２：位置決め
基準マーク、６３：位置決め基準マーク。
持装置、３：クランプ装置、４：加圧装置、５：制御装
置、６：位置計測装置、７：光源、９：基台、１０：チ
ャック、１１：θステージ、１２：Ｙステージ、１３：
Ｘステージ、１４：Ｚステージ、２０：ホルダ、２１：
吊下脚、２２：フレーム、２３：粘着テープ、２４：ス
プリング、３１：吸着孔、３２：電磁弁、３３：真空ポ
ンプ、４０：ガラス板、４２：支持フレーム、４４：リ
リーフ付き減圧弁、４５：空気源、４６：給気孔、６
０：ＴＶカメラ、６１：画像処理装置、６２：位置決め
基準マーク、６３：位置決め基準マーク。
フロントページの続き (56)参考文献 特開 平４−225360（ＪＰ，Ａ) 特開 平２−262154（ＪＰ，Ａ) 特開 平１−257849（ＪＰ，Ａ) 実開 平２−19149（ＪＰ，Ｕ)
Claims (5)
- 【請求項１】 所定のパターンを有するフィルムマスク
をプリント配線基板に密接し、 流体を導入することにより中央部が凸となるように膨ら
む加圧フィルムを該フィルムマスクの背面側に押し付け
て該フィルムマスクをプリント配線基板に密着させ、 次いで露光することによりフィルムマスク上のパターン
をプリント配線基板に焼き付ける、 ことを特徴とするプリント配線基板の露光方法。 - 【請求項２】 加圧フィルムをフィルムマスクに非接触
の状態で膨らませ、該膨らませた加圧フィルムをフィル
ムマスクの背面側に押し付ける、 請求項１に記載のプリント配線基板の露光方法。 - 【請求項３】 加圧フィルムを膨らませることにより該
加圧フィルムマスクをフィルムマスクの背面側に押しつ
ける、 請求項２に記載のプリント配線基板の露光方法。 - 【請求項４】 フィルムマスクを支持し、該フィルムマ
スクをプリント配線基板に密接させる装置と、 膨縮可能な加圧フィルムと、 該加圧フィルムを中央部が凸となるように膨張させ前記
フィルムマスクに押し付けて、前記フィルムマスクをプ
リント配線基板に密着させる加圧装置と、 該フィルムマスクに向けて照射する露光用光源装置と、 を有することを特徴とするプリント配線基板の露光装
置。 - 【請求項５】 フィルムマスクとプリント配線基板との
位置合わせ装置を備えた、 請求項４に記載のプリント配線基板の露光装置。
Priority Applications (5)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4298087A JP2509134B2 (ja) | 1992-10-09 | 1992-10-09 | プリント配線基板の露光方法及び装置 |
| TW086209914U TW329340U (en) | 1992-10-09 | 1993-09-25 | Aligner for alignment employing film mask |
| GB9319933A GB2271430A (en) | 1992-10-09 | 1993-09-28 | Method for alignment employing film mask and aligner therefor |
| KR1019930020824A KR100205199B1 (ko) | 1992-10-09 | 1993-10-08 | 필름마스크를 이용한 노광방법 및 장치 |
| KR1019980005700A KR0152425B1 (en) | 1992-10-09 | 1998-02-24 | Aligner |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4298087A JP2509134B2 (ja) | 1992-10-09 | 1992-10-09 | プリント配線基板の露光方法及び装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06125159A JPH06125159A (ja) | 1994-05-06 |
| JP2509134B2 true JP2509134B2 (ja) | 1996-06-19 |
Family
ID=17854996
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4298087A Expired - Lifetime JP2509134B2 (ja) | 1992-10-09 | 1992-10-09 | プリント配線基板の露光方法及び装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2509134B2 (ja) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002251016A (ja) * | 2001-02-23 | 2002-09-06 | Adtec Engineeng Co Ltd | 露光装置 |
| KR101314786B1 (ko) * | 2006-11-22 | 2013-10-08 | 엘아이지에이디피 주식회사 | 임프린트 장치 및 임프린트 방법 |
| TW201015230A (en) | 2008-10-03 | 2010-04-16 | Univ Nat Chiao Tung | Immersion inclined lithography apparatus and tank thereof |
Family Cites Families (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH01257849A (ja) * | 1988-04-08 | 1989-10-13 | Hitachi Ltd | プリント基板とマスクの位置合せ装置 |
| JPH0219149U (ja) * | 1988-07-25 | 1990-02-08 | ||
| JPH0675197B2 (ja) * | 1989-03-31 | 1994-09-21 | マミヤ・オーピー株式会社 | 露光装置におけるフイルムの平面性保持方法及びその装置 |
| JPH04225360A (ja) * | 1990-12-26 | 1992-08-14 | Adotetsuku Eng:Kk | プリント配線基板の製造におけるフィルムマスクの密着方法及びその装置 |
-
1992
- 1992-10-09 JP JP4298087A patent/JP2509134B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH06125159A (ja) | 1994-05-06 |
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