JP2002251016A - 露光装置 - Google Patents
露光装置Info
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- JP2002251016A JP2002251016A JP2001047822A JP2001047822A JP2002251016A JP 2002251016 A JP2002251016 A JP 2002251016A JP 2001047822 A JP2001047822 A JP 2001047822A JP 2001047822 A JP2001047822 A JP 2001047822A JP 2002251016 A JP2002251016 A JP 2002251016A
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- Japan
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- film
- photomask
- frame
- photomask film
- mark
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 高精度の露光を行える露光装置を提供する。
【解決手段】 フォトマスク用フィルム１と基板５の位
置決めから露光するまでの間に、少なくとも２回フィル
ムマーク１０と基板マーク５０の位置関係を確認し、位
置関係に基準以上の変化が生じていたら、フォトマスク
用フィルム１とフレーム２のズレ発生と判断して警報を
発する。
置決めから露光するまでの間に、少なくとも２回フィル
ムマーク１０と基板マーク５０の位置関係を確認し、位
置関係に基準以上の変化が生じていたら、フォトマスク
用フィルム１とフレーム２のズレ発生と判断して警報を
発する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】この発明は、プリント回路基
板など製造するための露光装置に関する。
板など製造するための露光装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】近年プリント回路基板等の高密度化がす
すむに従い、露光装置を用いて配線パターンなどを焼き
付け、その後にエッチングを行う方法が広く採用されて
きている。露光装置においては、フォトマスク用フィル
ムをフレームにテープなどにより張り付けて、このフレ
ームと回路基板などの対象物を相対的に動かして位置決
めをし、その後光を照射してフォトマスク用フィルムに
描かれたパターンなどを焼き付けるようになっている。
すむに従い、露光装置を用いて配線パターンなどを焼き
付け、その後にエッチングを行う方法が広く採用されて
きている。露光装置においては、フォトマスク用フィル
ムをフレームにテープなどにより張り付けて、このフレ
ームと回路基板などの対象物を相対的に動かして位置決
めをし、その後光を照射してフォトマスク用フィルムに
描かれたパターンなどを焼き付けるようになっている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかし、フレームと対
象物の位置決めをした後、露光するまでの間に、力のか
かり具合などによりフォトマスク用フィルムとフレーム
がずれることがあり、その結果露光ずれが生じ、歩留ま
りが悪くなる問題があった。本発明は上記従来技術の問
題を解決することを目的とする。
象物の位置決めをした後、露光するまでの間に、力のか
かり具合などによりフォトマスク用フィルムとフレーム
がずれることがあり、その結果露光ずれが生じ、歩留ま
りが悪くなる問題があった。本発明は上記従来技術の問
題を解決することを目的とする。
【０００４】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明は、露光すべきパターンを描いたフォトマス
ク用フィルムと、該フォトマスク用フィルムを支持する
フレームとを備え、該フォトマスク用フィルムに描かれ
たパターンを対象物に投影して露光する露光装置におい
て、前記露光前にフレームに支持されたフォトマスク用
フィルムと対象物との位置関係を少なくとも２回検出す
る手段と、を備え、該検出された位置関係のズレにより
前記フォトマスク用フィルムとフレームのズレの発生を
識別する、ことを特徴とする。上記構成により、露光前
にフォトマスク用フィルムとフレームのズレの検出を行
えるから、フォトマスク用フィルムとフレームにズレを
認識でき、ズレが生じたまま露光することなどを未然に
防ぐことができる。フォトマスク用フィルムと対象物の
位置関係の検出は、画像処理により行うのが望ましい。
例えばフォトマスク用フィルムと対象物にマークを設け
ておき、ＣＣＤカメラなどの撮像装置により撮像した画
像を、画像処理することが望ましい。前記マークはフォ
トマスク用フィルムと対象物の位置決め用のマークを流
用しても良い。前記フォトマスク用フィルムとフレーム
のズレの発生は、操作者が判断しても良いし、或いは該
ズレの発生を検出する手段を設けても良い。更にズレの
発生の検出に基づいてその旨を告知する手段を更に備え
ることも可能である。
に、本発明は、露光すべきパターンを描いたフォトマス
ク用フィルムと、該フォトマスク用フィルムを支持する
フレームとを備え、該フォトマスク用フィルムに描かれ
たパターンを対象物に投影して露光する露光装置におい
て、前記露光前にフレームに支持されたフォトマスク用
フィルムと対象物との位置関係を少なくとも２回検出す
る手段と、を備え、該検出された位置関係のズレにより
前記フォトマスク用フィルムとフレームのズレの発生を
識別する、ことを特徴とする。上記構成により、露光前
にフォトマスク用フィルムとフレームのズレの検出を行
えるから、フォトマスク用フィルムとフレームにズレを
認識でき、ズレが生じたまま露光することなどを未然に
防ぐことができる。フォトマスク用フィルムと対象物の
位置関係の検出は、画像処理により行うのが望ましい。
例えばフォトマスク用フィルムと対象物にマークを設け
ておき、ＣＣＤカメラなどの撮像装置により撮像した画
像を、画像処理することが望ましい。前記マークはフォ
トマスク用フィルムと対象物の位置決め用のマークを流
用しても良い。前記フォトマスク用フィルムとフレーム
のズレの発生は、操作者が判断しても良いし、或いは該
ズレの発生を検出する手段を設けても良い。更にズレの
発生の検出に基づいてその旨を告知する手段を更に備え
ることも可能である。
【０００５】
【発明の実施の形態】以下本発明の実施の形態を図面に
基づいて説明する。図１において、フォトマスク用フィ
ルム１はテープ２０などによりフレーム２に固定され、
光源４からの光によりパターンなどを基板５上に露光す
るように構成されている。
基づいて説明する。図１において、フォトマスク用フィ
ルム１はテープ２０などによりフレーム２に固定され、
光源４からの光によりパターンなどを基板５上に露光す
るように構成されている。
【０００６】基板５は基台７上に載置され、基台７はＸ
ＹＺ及びθ方向に移動可能になっている。フォトマスク
用フィルム１にはフィルムマーク１０が設けられ、基板
５には基板マーク５０が設けられており、このフィルム
マーク１０と基板マーク５０をＣＣＤカメラ３で撮影し
て、画像処理装置３０において画像処理し、位置調整装
置３５により両者が一致するように基台７を制御して基
板５を移動させて、基板５とフォトマスク用フィルム１
の位置合わせを行うようになっている。
ＹＺ及びθ方向に移動可能になっている。フォトマスク
用フィルム１にはフィルムマーク１０が設けられ、基板
５には基板マーク５０が設けられており、このフィルム
マーク１０と基板マーク５０をＣＣＤカメラ３で撮影し
て、画像処理装置３０において画像処理し、位置調整装
置３５により両者が一致するように基台７を制御して基
板５を移動させて、基板５とフォトマスク用フィルム１
の位置合わせを行うようになっている。
【０００７】該位置合わせが終了したら、基台７を上昇
させ、当時に押圧フィルム６とガラス板６０の間に空気
を入れて押圧フィルム６を膨張させ、フォトマスク用フ
ィルム１と基板５とを密着させる。そして、この状態で
光源４から光を照射して、前記したように露光を行うよ
うに構成されているが、本実施形態においては、前記位
置合わせから露光までの間に、任意の時間をおいて、少
なくとも２回フォトマスク用フィルム１と基板５の位置
確認を行うようになっている。
させ、当時に押圧フィルム６とガラス板６０の間に空気
を入れて押圧フィルム６を膨張させ、フォトマスク用フ
ィルム１と基板５とを密着させる。そして、この状態で
光源４から光を照射して、前記したように露光を行うよ
うに構成されているが、本実施形態においては、前記位
置合わせから露光までの間に、任意の時間をおいて、少
なくとも２回フォトマスク用フィルム１と基板５の位置
確認を行うようになっている。
【０００８】この実施形態では、ＣＣＤカメラ３により
フィルムマーク１０と基板マーク５０を撮影し、画像処
理装置３０により画像処理し、フォトマスク用フィルム
１と基板５の位置関係を記憶する。そして、所定時間後
に再度同じ動作を繰り返し、マークずれ検出装置３１に
より前回と今回の画像におけるフィルムマーク１０と基
板マーク５０の位置関係のズレを検出するように構成さ
れている。該位置関係のズレが予め決められた基準値以
上である場合、フォトマスク用フィルムずれ検出装置３
２においてフォトマスク用フィルム１とフレーム２にズ
レが発生したと判断し、警報装置３３によりその旨の警
告を発生するように構成されている。なお、フォトマス
ク用フィルム１と基板５の位置関係はフィルムマーク１
０と基板マーク５０を用いずに他の方法により行うこと
も可能である。
フィルムマーク１０と基板マーク５０を撮影し、画像処
理装置３０により画像処理し、フォトマスク用フィルム
１と基板５の位置関係を記憶する。そして、所定時間後
に再度同じ動作を繰り返し、マークずれ検出装置３１に
より前回と今回の画像におけるフィルムマーク１０と基
板マーク５０の位置関係のズレを検出するように構成さ
れている。該位置関係のズレが予め決められた基準値以
上である場合、フォトマスク用フィルムずれ検出装置３
２においてフォトマスク用フィルム１とフレーム２にズ
レが発生したと判断し、警報装置３３によりその旨の警
告を発生するように構成されている。なお、フォトマス
ク用フィルム１と基板５の位置関係はフィルムマーク１
０と基板マーク５０を用いずに他の方法により行うこと
も可能である。
【０００９】以上の構成により、位置決め後にフォトマ
スク用フィルム１とフレーム２のズレが発生してもこれ
を検出でき、警報装置３３により作業者にその旨の告知
を行えるから、不良品を発生する可能性のある露光を抑
制することができる。その結果歩留まりを向上できるな
どの効果がある。
スク用フィルム１とフレーム２のズレが発生してもこれ
を検出でき、警報装置３３により作業者にその旨の告知
を行えるから、不良品を発生する可能性のある露光を抑
制することができる。その結果歩留まりを向上できるな
どの効果がある。
【００１０】
【発明の効果】以上説明したように本発明の露光装置に
よれば、高精度の露光が可能である効果がある。
よれば、高精度の露光が可能である効果がある。
【図１】本発明の一実施形態を示す概略図。
１：フォトマスク用フィルム、２：フレーム、３：ＣＣ
Ｄカメラ、４：光源、５：基板、６：押圧フィルム、
７：基台、１０：フィルムマーク、２０：テープ、３
０：画像処理装置、３１：マークずれ検出装置、３２：
フォトマスク用フィルムずれ検出装置、３３：警報装
置、３５：位置調整装置、５０：基板マーク、６０：ガ
ラス板。
Ｄカメラ、４：光源、５：基板、６：押圧フィルム、
７：基台、１０：フィルムマーク、２０：テープ、３
０：画像処理装置、３１：マークずれ検出装置、３２：
フォトマスク用フィルムずれ検出装置、３３：警報装
置、３５：位置調整装置、５０：基板マーク、６０：ガ
ラス板。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 阿 部 和 芳 東京都港区芝公園３丁目４番30号 株式会 社アドテックエンジニアリング内 Ｆターム(参考） 2H097 BA10 GA45 KA03 KA20 KA28 KA40 LA09
Claims (4)
- 【請求項１】露光すべきパターンを描いたフォトマスク
用フィルムと、該フォトマスク用フィルムを支持するフ
レームとを備え、該フォトマスク用フィルムに描かれた
パターンを対象物に投影して露光する露光装置におい
て、 前記露光前にフレームに支持されたフォトマスク用フィ
ルムと対象物との位置関係を少なくとも２回検出する手
段と、を備え、 該検出された位置関係のズレにより前記フォトマスク用
フィルムとフレームのズレの発生を識別する、 ことを特徴とする露光装置。 - 【請求項２】 前記検出する手段が、画像処理により前
記フォトマスク用フィルムと対象物の位置関係を検出す
る、 請求項１に記載の露光装置。 - 【請求項３】 前記検出する手段が、前記フォトマスク
用フィルムと対象物を撮像する装置を備え、該撮像した
画像を画像処理することにより前記フォトマスク用フィ
ルムと対象物の位置関係を検出する、 請求項１又は２に記載の露光装置。 - 【請求項４】 前記検出する手段による検出に基づいて
フォトマスク用フィルムとフレームのズレの発生を検出
する手段と、該ズレの発生の検出に基づいてその旨を告
知する手段と、を更に備えた請求項１又は２又は３に記
載の露光装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001047822A JP2002251016A (ja) | 2001-02-23 | 2001-02-23 | 露光装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001047822A JP2002251016A (ja) | 2001-02-23 | 2001-02-23 | 露光装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2002251016A true JP2002251016A (ja) | 2002-09-06 |
Family
ID=18909175
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2001047822A Pending JP2002251016A (ja) | 2001-02-23 | 2001-02-23 | 露光装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2002251016A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006100590A (ja) * | 2004-09-29 | 2006-04-13 | Nsk Ltd | 近接露光装置 |
| JP2006165371A (ja) * | 2004-12-09 | 2006-06-22 | Canon Inc | 転写装置およびデバイス製造方法 |
| JP2009025478A (ja) * | 2007-07-18 | 2009-02-05 | Ono Sokki Co Ltd | 露光装置 |
| JP2013114152A (ja) * | 2011-11-30 | 2013-06-10 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 撮像装置およびアライメント装置 |
| JP2013114153A (ja) * | 2011-11-30 | 2013-06-10 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 撮像装置、アライメント装置およびパターン形成装置 |
Citations (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH04350857A (ja) * | 1991-05-29 | 1992-12-04 | Orc Mfg Co Ltd | 自動露光装置におけるワークの位置決め方法 |
| JPH06125159A (ja) * | 1992-10-09 | 1994-05-06 | Adtec Eng:Kk | プリント配線基板の露光方法及び装置 |
| JPH1063012A (ja) * | 1996-08-13 | 1998-03-06 | Adtec Eng:Kk | 露光装置 |
| JPH10104748A (ja) * | 1996-09-27 | 1998-04-24 | Ono Sokki Co Ltd | 露光装置及び露光方法 |
| JPH1172929A (ja) * | 1998-06-15 | 1999-03-16 | Orc Mfg Co Ltd | 真空フレームおよびワークの位置決め方法 |
| JP2000031009A (ja) * | 1998-07-09 | 2000-01-28 | Toshiba Corp | 露光装置における半導体ウェハーの自動位置合わせ方法 |
| JP2000099158A (ja) * | 1998-09-18 | 2000-04-07 | Orc Mfg Co Ltd | ワークとマスクの整合機構および整合方法 |
| JP2000214600A (ja) * | 1999-01-26 | 2000-08-04 | Ibiden Co Ltd | めっきレジストの露光方法とその装置 |
-
2001
- 2001-02-23 JP JP2001047822A patent/JP2002251016A/ja active Pending
Patent Citations (8)
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| US7815424B2 (en) | 2004-12-09 | 2010-10-19 | Canon Kabushiki Kaisha | Imprinting machine and device manufacturing method |
| US8834144B2 (en) | 2004-12-09 | 2014-09-16 | Canon Kabushiki Kaisha | Imprinting machine and device manufacturing method |
| JP2009025478A (ja) * | 2007-07-18 | 2009-02-05 | Ono Sokki Co Ltd | 露光装置 |
| JP4627538B2 (ja) * | 2007-07-18 | 2011-02-09 | 日立ビアメカニクス株式会社 | 露光装置 |
| JP2013114152A (ja) * | 2011-11-30 | 2013-06-10 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 撮像装置およびアライメント装置 |
| JP2013114153A (ja) * | 2011-11-30 | 2013-06-10 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 撮像装置、アライメント装置およびパターン形成装置 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20071127 |
|
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Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20100525 |
|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20101026 |