JP2786945B2 - フィルム露光装置 - Google Patents
フィルム露光装置Info
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- JP2786945B2 JP2786945B2 JP2419080A JP41908090A JP2786945B2 JP 2786945 B2 JP2786945 B2 JP 2786945B2 JP 2419080 A JP2419080 A JP 2419080A JP 41908090 A JP41908090 A JP 41908090A JP 2786945 B2 JP2786945 B2 JP 2786945B2
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Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明はフィルム回路基板の製作
に好適なフィルム露光装置に関する。
に好適なフィルム露光装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】物体の表面に微細加工を施す技術とし
て、フォトリソグラフィの技術が知られている。この技
術は半導体集積回路のほか、最近では電子部品の実装に
使用されるフィルム回路基板の製作にも応用されてい
る。
て、フォトリソグラフィの技術が知られている。この技
術は半導体集積回路のほか、最近では電子部品の実装に
使用されるフィルム回路基板の製作にも応用されてい
る。
【０００３】このような露光装置は、光源を有する照射
部と、この照射部から放射光が照射され露光させるべき
回路パターンが形成されたレチクルと、このレチクルに
設定された像を投影する投影レンズと、その投影位置に
フィルムを設定させ露光位置を形成するステージより構
成される。そして、投影露光を行う時には、開始する前
に投影される像の焦点合わせの作業が行われる。
部と、この照射部から放射光が照射され露光させるべき
回路パターンが形成されたレチクルと、このレチクルに
設定された像を投影する投影レンズと、その投影位置に
フィルムを設定させ露光位置を形成するステージより構
成される。そして、投影露光を行う時には、開始する前
に投影される像の焦点合わせの作業が行われる。
【０００４】この焦点合わせは、例えば特開平１−１９
１４９３号公報に記載されているような方法によって行
われる。すなわち、露光面に投影されたパターンやアラ
イメントマーク等の像をモニタ系でモニタしながら投影
レンズ位置調節機構やレチクル位置調節機構を光軸方向
に移動させて行う。
１４９３号公報に記載されているような方法によって行
われる。すなわち、露光面に投影されたパターンやアラ
イメントマーク等の像をモニタ系でモニタしながら投影
レンズ位置調節機構やレチクル位置調節機構を光軸方向
に移動させて行う。
【０００５】ところが、焦点合わせを行うために投影レ
ンズ位置調節機構やレチクル位置調節機構を操作して、
投影レンズやレチクルを光軸方向に変位させると、これ
によって投影像の倍率が変位してしまうことがある。
ンズ位置調節機構やレチクル位置調節機構を操作して、
投影レンズやレチクルを光軸方向に変位させると、これ
によって投影像の倍率が変位してしまうことがある。
【０００６】このような問題点を解決するために、特願
平２−８１３３７号に示すように、設定された倍率に基
づく投影レンズ、レチクル、及びフィルムの投影面の位
置関係を維持しながら焦点合わせする方法が提案されて
いる。
平２−８１３３７号に示すように、設定された倍率に基
づく投影レンズ、レチクル、及びフィルムの投影面の位
置関係を維持しながら焦点合わせする方法が提案されて
いる。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来の
装置では実際の露光を開始する前においてのみ、モニタ
系でモニタしながら焦点を合わせるわけである。すなわ
ち一度露光作業が開始されると、その投影像の焦点は、
開始以前に設定したレチクルの位置および投影レンズの
位置で投影される。すなわち当該露光装置が何らかの原
因で振動したり、温度変化したりするとレチクル及び投
影レンズの位置が狂い、当然ながらこれらの位置関係は
設定値からはずれてしまう。この結果、焦点のずれた状
態で露光されることになり、このような状態に気付くこ
となく装置を稼働させ続けると、大量のフィルムを無駄
にすることになる。
装置では実際の露光を開始する前においてのみ、モニタ
系でモニタしながら焦点を合わせるわけである。すなわ
ち一度露光作業が開始されると、その投影像の焦点は、
開始以前に設定したレチクルの位置および投影レンズの
位置で投影される。すなわち当該露光装置が何らかの原
因で振動したり、温度変化したりするとレチクル及び投
影レンズの位置が狂い、当然ながらこれらの位置関係は
設定値からはずれてしまう。この結果、焦点のずれた状
態で露光されることになり、このような状態に気付くこ
となく装置を稼働させ続けると、大量のフィルムを無駄
にすることになる。
【０００８】一方、開始以前に行った、焦点合わせの作
業を露光作業開始後も定期的に行うことによって、上記
問題点を解決することもできるが、人間がモニタ系でモ
ニタしながらこのような作業を定期的に行うことは大変
煩雑である。
業を露光作業開始後も定期的に行うことによって、上記
問題点を解決することもできるが、人間がモニタ系でモ
ニタしながらこのような作業を定期的に行うことは大変
煩雑である。
【０００９】本発明の目的は、露光作業を開始した後も
最適な焦点の状態で露光することのできるフィルム露光
装置を提供することにある。
最適な焦点の状態で露光することのできるフィルム露光
装置を提供することにある。
【００１０】
【課題を解決するための手段】上記の目的を解決するた
めに、本発明のフィルム露光装置は、帯状のフィルムの
長さ方向に沿って順次に回路パターンを露光していくフ
ィルム露光装置であって、照射部と、照射部からの光が
照射される位置に配置され、投影するべき回路パターン
とは別に焦点合わせ用のマークを有するレチクルと、レ
チクルの像を投影する投影レンズと、レチクルを光軸方
向に変位させて位置を調節するレチクル位置調節機構
と、投影レンズを光軸方向に変位させて位置を調節する
投影レンズ位置調節機構と、帯状のフィルムはその１コ
マ毎に、焦点合わせ用マークの空中像が投影される穴も
しくは透光部を有していて、この穴もしくは透光部から
一定距離だけ離れた位置において合焦するように配置さ
れたイメージセンサと、イメージセンサに入力された、
焦点合わせ用マークの投影像の、光量のバラツキを検出
する手段を有して、この検出手段からの信号によって、
レチクル位置調節機構及び／又は投影レンズ位置調節機
構を駆動させて、帯状のフィルムの１コマ毎に対して、
自動的に合焦することが可能なシステムコントローラと
よりなるものである。
めに、本発明のフィルム露光装置は、帯状のフィルムの
長さ方向に沿って順次に回路パターンを露光していくフ
ィルム露光装置であって、照射部と、照射部からの光が
照射される位置に配置され、投影するべき回路パターン
とは別に焦点合わせ用のマークを有するレチクルと、レ
チクルの像を投影する投影レンズと、レチクルを光軸方
向に変位させて位置を調節するレチクル位置調節機構
と、投影レンズを光軸方向に変位させて位置を調節する
投影レンズ位置調節機構と、帯状のフィルムはその１コ
マ毎に、焦点合わせ用マークの空中像が投影される穴も
しくは透光部を有していて、この穴もしくは透光部から
一定距離だけ離れた位置において合焦するように配置さ
れたイメージセンサと、イメージセンサに入力された、
焦点合わせ用マークの投影像の、光量のバラツキを検出
する手段を有して、この検出手段からの信号によって、
レチクル位置調節機構及び／又は投影レンズ位置調節機
構を駆動させて、帯状のフィルムの１コマ毎に対して、
自動的に合焦することが可能なシステムコントローラと
よりなるものである。
【００１１】
【作用】このような構成により、露光されるべきフィル
ムの１コマが搬送されて露光位置に設定されると、レチ
クルに設けられた焦点合わせ用マークのフィルムの穴も
しくは透光部上における光量のバラツキを検出すること
ができる。すなわちこの光量のバラツキが焦点が狂って
いるか否かを示すため、この検出信号によってレチク
ル、投影レンズを光軸方向に変位させて、フィルムの１
コマ毎に自動的に焦点合わせをすることができる。
ムの１コマが搬送されて露光位置に設定されると、レチ
クルに設けられた焦点合わせ用マークのフィルムの穴も
しくは透光部上における光量のバラツキを検出すること
ができる。すなわちこの光量のバラツキが焦点が狂って
いるか否かを示すため、この検出信号によってレチク
ル、投影レンズを光軸方向に変位させて、フィルムの１
コマ毎に自動的に焦点合わせをすることができる。
【００１２】
【実施例】以下、本発明の実施例を説明する。図１、図
２、図３は、本発明の実施例のフィルム露光装置の説明
図である。
２、図３は、本発明の実施例のフィルム露光装置の説明
図である。
【００１３】図１はその内部に光源１１やこの光源１１
からの放射光を反射ミラーやインテグレータレンズから
構成される照射部である。光源１１としては、超高圧水
銀灯のようにレジストが感度を有する光を効率的に放射
するものが適用される。
からの放射光を反射ミラーやインテグレータレンズから
構成される照射部である。光源１１としては、超高圧水
銀灯のようにレジストが感度を有する光を効率的に放射
するものが適用される。
【００１４】１０はレチクルであり、照射部１からの光
が照射される位置に配置されている。このレチクル１０
は、フィルムＦに投影して転写するべき回路パターンの
ほか、後述するフィルム側焦点合わせマークに対応する
焦点合わせ用マークが構成されている。
が照射される位置に配置されている。このレチクル１０
は、フィルムＦに投影して転写するべき回路パターンの
ほか、後述するフィルム側焦点合わせマークに対応する
焦点合わせ用マークが構成されている。
【００１５】この焦点合わせ用マークは例えば方形状の
不透明部分に十文字の透明部分を設けて構成している。
そしてフィルム側マークはフィルムＦの１コマ毎に、例
えば丸型の穴もしくは透光部で構成される。
不透明部分に十文字の透明部分を設けて構成している。
そしてフィルム側マークはフィルムＦの１コマ毎に、例
えば丸型の穴もしくは透光部で構成される。
【００１６】１２はレチクル位置調節機構であり、例え
ばサーボモータよりなる。２０は投影レンズであり、照
射されたレチクル１０の像を投影するものである。この
投影レンズ２０は例えば露光線幅１０μｍの解像度を有
するものである。２１はこの投影レンズ２０の投影レン
ズ位置調節機構である。そして後述のシステムコントロ
ーラ５０によってレチクル位置調節機構１２や投影レン
ズ位置調節機構２１は駆動される。そして、レチクル１
０及び投影レンズ２０を光軸方向Ｙに変位させる。３０
はステージであり、図２に示すように露光されるべきフ
ィルムＦの１コマが露光位置にステップ送りして停止さ
れる。この停止については、正確な露光位置に行う必要
があり、この方法については例えば特開平２−８１３３
６号に示される。そして露光時のみフィルムＦを真空吸
着する真空吸着孔３１が設けられている。
ばサーボモータよりなる。２０は投影レンズであり、照
射されたレチクル１０の像を投影するものである。この
投影レンズ２０は例えば露光線幅１０μｍの解像度を有
するものである。２１はこの投影レンズ２０の投影レン
ズ位置調節機構である。そして後述のシステムコントロ
ーラ５０によってレチクル位置調節機構１２や投影レン
ズ位置調節機構２１は駆動される。そして、レチクル１
０及び投影レンズ２０を光軸方向Ｙに変位させる。３０
はステージであり、図２に示すように露光されるべきフ
ィルムＦの１コマが露光位置にステップ送りして停止さ
れる。この停止については、正確な露光位置に行う必要
があり、この方法については例えば特開平２−８１３３
６号に示される。そして露光時のみフィルムＦを真空吸
着する真空吸着孔３１が設けられている。
【００１７】４０は検出部であり、対物レンズ４１、集
光レンズ４２、ホトダイオード等よりなる受光器４３、
ハーフミラー４４、及びハーフミラー４４より屈折され
た光を検知するＣＣＤ等よりなるイメージセンサ４５よ
り構成される。このイメージセンサ４５にはフィルムＦ
上のフィルム側マーク上における空中像が入射される。
光レンズ４２、ホトダイオード等よりなる受光器４３、
ハーフミラー４４、及びハーフミラー４４より屈折され
た光を検知するＣＣＤ等よりなるイメージセンサ４５よ
り構成される。このイメージセンサ４５にはフィルムＦ
上のフィルム側マーク上における空中像が入射される。
【００１８】そして、イメージセンサ４５の位置は、フ
ィルム側マークと一定距離だけ離れて配置している。す
なわちこの距離を考慮してイメージセンサ４５に入力さ
れた投影像を検出すると、フィルムＦ上での投影像を検
出することができる。さらにはフィルム側マークから少
し離れた位置とイメージセンサ４５が合焦していても、
その離れた距離を換算すればフィルムＦ上の投影像は検
出できる。
ィルム側マークと一定距離だけ離れて配置している。す
なわちこの距離を考慮してイメージセンサ４５に入力さ
れた投影像を検出すると、フィルムＦ上での投影像を検
出することができる。さらにはフィルム側マークから少
し離れた位置とイメージセンサ４５が合焦していても、
その離れた距離を換算すればフィルムＦ上の投影像は検
出できる。
【００１９】また、このような制御は、回路パターンを
焼き付ける前に行うわけであるが、このイメージセンサ
４５に入力される波長を回路パターンに焼き付ける波長
と異なるものを使う場合は、フィルム側マークから少し
離れた位置とイメージセンサ４５が合焦していることが
好ましい。
焼き付ける前に行うわけであるが、このイメージセンサ
４５に入力される波長を回路パターンに焼き付ける波長
と異なるものを使う場合は、フィルム側マークから少し
離れた位置とイメージセンサ４５が合焦していることが
好ましい。
【００２０】６０はフィルム送り機構であり、投影レン
ズ２０による像の投影位置にフィルムＦの１コマをステ
ップさせる。６１は送りローラ、６３は押さえローラ、
６４はスプロケットローラ、６５は押さえローラ、６
６、６７は補助ローラ、６８は供給ローラ、６９は巻取
ローラである。
ズ２０による像の投影位置にフィルムＦの１コマをステ
ップさせる。６１は送りローラ、６３は押さえローラ、
６４はスプロケットローラ、６５は押さえローラ、６
６、６７は補助ローラ、６８は供給ローラ、６９は巻取
ローラである。
【００２１】次に本発明のフィルム露光装置における焦
点合わせ作業を具体的に説明する。フィルムＦ上に投影
された投影像はフィルム側マークとして設けられた穴を
通して、ステージ３０の検出部４０に入射される。そし
て対物レンズ４１を入射した像はハーフミラー４４によ
って屈折される。そして屈折光はイメージセンサ４５に
入射される。この時、イメージセンサ４５はモニタ系と
して働き、フィルムＦ上の投影像をモニタすることにな
る。ここでイメージセンサ４５はフィルム側マークとし
ての穴にできる焦点合わせ用マークの空中像と合焦する
ように配置されている。
点合わせ作業を具体的に説明する。フィルムＦ上に投影
された投影像はフィルム側マークとして設けられた穴を
通して、ステージ３０の検出部４０に入射される。そし
て対物レンズ４１を入射した像はハーフミラー４４によ
って屈折される。そして屈折光はイメージセンサ４５に
入射される。この時、イメージセンサ４５はモニタ系と
して働き、フィルムＦ上の投影像をモニタすることにな
る。ここでイメージセンサ４５はフィルム側マークとし
ての穴にできる焦点合わせ用マークの空中像と合焦する
ように配置されている。
【００２２】この場合の焦点合わせ用のマークは、前述
の如く十文字であるため、イメージセンサ４５に入力さ
れたこの投影像はモニター系で第３図（ａ）のように映
る。このイメージセンサ４５は、例えばＣＣＤが配列し
て構成されており、例えば所定の検出ライン６０が設定
される。このため検出ライン６０も当然ながらラインに
沿ってＣＣＤが配列されている。そして焦点合わせ用マ
ークである十文字と当該検出ライン６０が重なった部分
６１においては、当該照射部１からの放射光が通過し
て、ステージ３０上でフィルム側マークに投影された像
を示していることになる。
の如く十文字であるため、イメージセンサ４５に入力さ
れたこの投影像はモニター系で第３図（ａ）のように映
る。このイメージセンサ４５は、例えばＣＣＤが配列し
て構成されており、例えば所定の検出ライン６０が設定
される。このため検出ライン６０も当然ながらラインに
沿ってＣＣＤが配列されている。そして焦点合わせ用マ
ークである十文字と当該検出ライン６０が重なった部分
６１においては、当該照射部１からの放射光が通過し
て、ステージ３０上でフィルム側マークに投影された像
を示していることになる。
【００２３】図３（ｂ）は６１の部分のイメージセンサ
４５における光量を示した図である。すなわち、この６
１の部分において検出ライン６０上に配置された各々の
ＣＣＤによって受光量を検出されている。図中におい
て、縦方向は受光量を示し、横方向は検出ライン６０を
示す。例えば、図中の実線６２は、ほぼ方形波状を示し
ており、６１の部分におけるＣＣＤの受光量は全てにお
いて高くバラツキもないことを示している。すなわち、
焦点があった状態（合焦状態）を示している。
４５における光量を示した図である。すなわち、この６
１の部分において検出ライン６０上に配置された各々の
ＣＣＤによって受光量を検出されている。図中におい
て、縦方向は受光量を示し、横方向は検出ライン６０を
示す。例えば、図中の実線６２は、ほぼ方形波状を示し
ており、６１の部分におけるＣＣＤの受光量は全てにお
いて高くバラツキもないことを示している。すなわち、
焦点があった状態（合焦状態）を示している。
【００２４】一方、点線６３は、６１の部分の中で光量
の高い点と低い点がある山形の形状を示しており、焦点
がそれほど合っていない状態を示している。以下、点線
６３に基づき焦点合わせの動作を具体的に説明する。十
文字の部分６１における各々のＣＣＤが受光した光量の
うち、６６はピーク値を示している。このピーク値６６
の光量に対する８０％の光量の点を６４で示す。同じく
６０％の点を６５で示す。この８０％の点６４と、６０
％の点６５は、検出ライン６０上のＣＣＤのいづれかで
受光されているわけで、横軸方向において、その位置の
距離の差が零に近いほど光量のバラツキは少なく焦点は
合っているといえる。
の高い点と低い点がある山形の形状を示しており、焦点
がそれほど合っていない状態を示している。以下、点線
６３に基づき焦点合わせの動作を具体的に説明する。十
文字の部分６１における各々のＣＣＤが受光した光量の
うち、６６はピーク値を示している。このピーク値６６
の光量に対する８０％の光量の点を６４で示す。同じく
６０％の点を６５で示す。この８０％の点６４と、６０
％の点６５は、検出ライン６０上のＣＣＤのいづれかで
受光されているわけで、横軸方向において、その位置の
距離の差が零に近いほど光量のバラツキは少なく焦点は
合っているといえる。
【００２５】一方、この差が大きいとフィルム上の投影
像は焦点が合っていな状態と判断される。このように、
イメージセンサ４５における検出ライン６０でのポイン
トにおける光量を検出することによって焦点状態を検出
することができる。この状態を検出した信号は、システ
ムコントローラ５０に送信される。システムコントロー
ラ５０では、焦点があっていると判断できる所定の基準
値を基に信号をレチクル移動機構１２及び投影レンズ移
動機構２１に送る。そしてレチクル１０及び投影レンズ
２０を光軸方向に移動させて、焦点合わせを行う。この
ようにして当該露光装置においては、フィルムＦの１コ
マ毎に、その投影像をイメージセンサ４５にてモニタし
て、レチクル１０及び投影レンズ２０を光軸方向に移動
させて、自動的に焦点合わせ制御をすることができる。
また、焦点合わせの制御は必ずしも１コマ毎に行う必要
があるわけではなく、例えば１０コマとか３０コマとか
いうように、何コマか毎に検出制御するような構成であ
っても同様の効果が得られる。
像は焦点が合っていな状態と判断される。このように、
イメージセンサ４５における検出ライン６０でのポイン
トにおける光量を検出することによって焦点状態を検出
することができる。この状態を検出した信号は、システ
ムコントローラ５０に送信される。システムコントロー
ラ５０では、焦点があっていると判断できる所定の基準
値を基に信号をレチクル移動機構１２及び投影レンズ移
動機構２１に送る。そしてレチクル１０及び投影レンズ
２０を光軸方向に移動させて、焦点合わせを行う。この
ようにして当該露光装置においては、フィルムＦの１コ
マ毎に、その投影像をイメージセンサ４５にてモニタし
て、レチクル１０及び投影レンズ２０を光軸方向に移動
させて、自動的に焦点合わせ制御をすることができる。
また、焦点合わせの制御は必ずしも１コマ毎に行う必要
があるわけではなく、例えば１０コマとか３０コマとか
いうように、何コマか毎に検出制御するような構成であ
っても同様の効果が得られる。
【００２６】また、検出ライン６０上でのポイントは、
ピーク光量値の８０％及び２０％を設定したが、別にこ
のポイントに限られるものではない。またイメージセン
サ４５としてはこの場合ＣＣＤを採用したが、他にも真
空管型イメージセンサを使用することができる。
ピーク光量値の８０％及び２０％を設定したが、別にこ
のポイントに限られるものではない。またイメージセン
サ４５としてはこの場合ＣＣＤを採用したが、他にも真
空管型イメージセンサを使用することができる。
【００２７】また、本発明の実施例では焦点合わせのた
め投影像を検出してフィルムＦにフィルム側マーク
（穴）を使っているが、フィルム側マークは穴に限るも
のではなく、例えばフィルム上に透光部分を設けてもよ
い。
め投影像を検出してフィルムＦにフィルム側マーク
（穴）を使っているが、フィルム側マークは穴に限るも
のではなく、例えばフィルム上に透光部分を設けてもよ
い。
【００２８】
【発明の効果】以上説明したように、本発明のフィルム
露光装置によれば、投影露光させるべきフィルムの１コ
マ毎に対して、その投影像をイメージセンサによってモ
ニタして、レチクル及び投影レンズもしくはいずれか一
方を移動させて自動的にピント合わせ制御をすることが
できる。このため露光作業の開始後においても、当該装
置が何らかの理由で振動した場合等であっても、これら
振動に対応して投影像に焦点合わせ制御をすることがで
きる。このため常に良好状態で露光作業を達成すること
ができる。
露光装置によれば、投影露光させるべきフィルムの１コ
マ毎に対して、その投影像をイメージセンサによってモ
ニタして、レチクル及び投影レンズもしくはいずれか一
方を移動させて自動的にピント合わせ制御をすることが
できる。このため露光作業の開始後においても、当該装
置が何らかの理由で振動した場合等であっても、これら
振動に対応して投影像に焦点合わせ制御をすることがで
きる。このため常に良好状態で露光作業を達成すること
ができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明のフィルム露光装置に係る説明図であ
る。
る。
【図２】投影面における投影像の検出に関する説明図で
ある。
ある。
【図３】（ａ）、（ｂ）は焦点合わせの動作を説明する
図である。
図である。
１ 照射部 １０ レチク １２ レチクル位置調節機構 ２０ 投影レンズ ２１ 投影レンズ位置調節機構 ４０ 検出部 Ｆ フィルム
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.6，ＤＢ名) G03F 7/20 - 7/207 H01L 21/30
Claims (1)
- 【請求項１】 帯状のフィルムの長さ方向に沿って順次
に回路パターンを露光していくフィルム露光装置であっ
て、照射部と、照射部からの光が照射される位置に配置
され、投影するべき回路パターンとは別に焦点合わせ用
のマークを有するレチクルと、レチクルの像を投影する
投影レンズと、レチクルを光軸方向に変位させて位置を
調節するレチクル位置調節機構と、投影レンズを光軸方
向に変位させて位置を調節する投影レンズ位置調節機構
と、帯状のフィルムはその１コマ毎に、焦点合わせ用マ
ークの空中像が投影される穴もしくは透光部を有してい
て、この穴もしくは透光部から一定距離だけ離れた位置
において合焦するように配置されたイメージセンサと、
イメージセンサに入力された、焦点合わせ用マークの投
影像の、光量のバラツキを検出する手段を有して、この
検出手段からの信号によって、レチクル位置調節機構及
び／又は投影レンズ位置調節機構を駆動させて、帯状の
フィルムの１コマ毎に対して、自動的に合焦することが
可能なシステムコントローラと、よりなることを特徴と
するフィルム露光装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2419080A JP2786945B2 (ja) | 1990-08-10 | 1990-12-21 | フィルム露光装置 |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21047790 | 1990-08-10 | ||
| JP2-210477 | 1990-08-10 | ||
| JP2419080A JP2786945B2 (ja) | 1990-08-10 | 1990-12-21 | フィルム露光装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04146441A JPH04146441A (ja) | 1992-05-20 |
| JP2786945B2 true JP2786945B2 (ja) | 1998-08-13 |
Family
ID=26518074
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2419080A Expired - Fee Related JP2786945B2 (ja) | 1990-08-10 | 1990-12-21 | フィルム露光装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2786945B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP5104107B2 (ja) * | 2007-08-02 | 2012-12-19 | ウシオ電機株式会社 | 帯状ワークの露光装置及び帯状ワークの露光装置におけるフォーカス調整方法 |
-
1990
- 1990-12-21 JP JP2419080A patent/JP2786945B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH04146441A (ja) | 1992-05-20 |
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