JP2759898B2 - フィルム露光装置における焦点検出方法 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、フィルム露光装置にお
ける焦点検出方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】例えばＴＡＢ（Ｔａｐｅ Ａｕｔｏｍａ
ｔｅｄ Ｂｏｎｄｉｎｇ）方式の電子部品の実装に使用
されるフィルム回路基板の製作にはフィルム露光装置が
使用される。物体の表面に微細加工を施す技術として、
フォトリソグラフィの技術が知られている。この技術
は、半導体集積回路のほか、最近ではＴＡＢ方式の電子
部品の実装に使用されるフィルム回路基板の製作にも応
用されている。

【０００３】フォトリソグラフィには、レチクルのパタ
ーンの転写のための露光工程があり、この露光工程では
レチクルを内蔵した投影露光装置が使用される。投影露
光装置の使用開始前においては、投影レンズの焦点を検
出してレチクルおよび／または投影レンズを適正な位置
に移動させる作業が必要とされる。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】しかし、従来において
は、レチクルおよび／または投影レンズを光軸方向に沿
ってステップ的に移動させながらその都度露光試験を行
い、その露光結果を判断しながら焦点の検出を行ってい
たため、実際に焦点が合うまでに相当の時間と手間を要
していた。このような事情から、焦点を自動的に検出
（オートフォーカス）できる方法の開発が強く望まれて
いた。

【０００５】本発明者の研究によれば、例えば特願平２
−３３０２７０号明細書に記載されている方法によりオ
ートアライメントを行った後、図１の（Ａ）および
（Ｂ）に示すように、アライメントマークをフォーカス
マークとして、アライメントホールをフォーカスホール
として用いて、このフォーカスマークの投影像ＦＭがフ
ォーカスホールＦＨに重なっているときに、例えば図２
に示す光量検出部４０を用いて、フォーカスマークの投
影像ＦＭをその幅方向に沿って複数の画素に分割してそ
の光量を検出しながら、レチクルおよび／または投影レ
ンズをステップ移動させることによりフォーカスマーク
の投影像ＦＭの焦点を自動的に検出することができるこ
とが分かった。なお、図２において、３０はフィルムＦ
がステップ搬送されるステージ、４１は対物レンズ、４
２は集光レンズ、４３は検出器、４４はハーフミラー、
７１はＣＣＤカメラ、７２はモニタ、７３は画像メモリ
である。ＣＣＤカメラ７１の各画素は０〜２５５のレベ
ルで光量を識別できるものである。

【０００６】詳しく説明すると、図１（Ｂ）において、
フォーカスホールＦＨに重なったフォーカスマークの投
影像ＦＭをその幅方向に沿って複数の画素に分割してそ
の光量をＣＣＤカメラ７１により検出する。フォーカス
マークの投影像ＦＭの焦点が合っていないときは、図３
（Ａ）に示すように、検出光量はすそが広がったなだら
かな波形となり、投影像ＦＭの焦点が合っているとき
は、図３（Ｂ）に示すように、検出光量は鋭い立ち上が
りの方形状の波形となる。図３において、横軸はフォー
カスマークの投影像ＦＭの幅方向の大きさ（パラメータ
α）を示し、縦軸は検出光量のレベルを示す。

【０００７】前記パラメータαの値が許容値ｉを超えて
いる場合には、フォーカスマークの投影像ＦＭの倍率を
変化させないようにして、パラメータαが小さくなる方
向へ、レチクルおよび／または投影レンズを光軸方向に
沿って移動させる。この処理をパラメータαの値が前記
許容値ｉ以下になるまで行う。なお、許容値ｉとは、実
用上適正な露光が達成されるときのフォーカスマークの
投影像ＦＭの最大値をいう。例えば図４の例では、開始
点Ａからレチクルおよび／または投影レンズを光軸方向
に沿って３回ステップ移動させたときにパラメータαの
値が許容値ｉ以下になったことを示している。このとき
のパラメータαと検出光量との関係を図５に示す。図５
から分かるように、許容値ｉに近づくに従って波形が立
ち上がりの鋭い方形波に近づいていく。

【０００８】しかし、この方法では、許容値ｉ自体が、
雰囲気温度等の変化により一定しないため、適正な焦点
を検出できないおそれのあることが分かった。そこで、
さらに研究を重ねたところ、パラメータαの値が最小も
しくはその近傍となる位置にレチクルおよび／または投
影レンズをステップ移動させれば適正な焦点が検出でき
るという観点から、以下の方法を開発した。すなわち、
図６（Ａ）に示すように、レチクルおよび／または投影
レンズを、パラメータαが小さくなる方向に、光軸方向
に沿ってステップ移動させ、図６（Ｂ）に示すように、
このパラメータαが前記許容値ｉ以下になってもさらに
同じ方向にステップ移動させ、図６（Ｃ）に示すよう
に、パラメータαが大きくなり始めた点βで、レチクル
および／または投影レンズの移動を停止させ、この位置
を焦点が合った位置（検出点）と決定する。なお、図６
において、「光軸方向における位置」とは、光軸方向に
おけるレチクルおよび／または投影レンズの位置を意味
する。以下の説明においても同様である。

【０００９】しかし、上記の方法によっても問題のある
ことが判明した。すなわち、上記方法では、焦点の検出
を繰返して行う場合に、前記検出点（点β）の位置が２
００〜３００μｍの範囲でばらつき、再現性が劣る問題
のあることが判明した。このようなばらつきの生ずる要
因としては次の２点が考えられる。第１は、図７（Ａ）
に示すように、パラメータαに突出点が生じ、この突出
点が必ずしも検出点と一致しないからである。その理由
としては、画像データは常にリフレッシュされており、
光軸方向の振動による投影像のゆれ、光路の雰囲気の変
化による投影像のゆれ等によって、パラメータαを検出
するときに必ずしも静止画となっていないからであると
考えられる。第２は、図７（Ｂ）に示すように、パラメ
ータαを示す曲線の底が平坦になっている場合は最良の
検出点と思われる点が複数存在するからである。すなわ
ち、上記の方法では、最初に検出した点を検出点として
いるため、図７（Ｂ）の場合は、Ａ方向からステップ移
動を開始すれば点Ａ' が検出点となり、Ｂ方向からステ
ップ移動を開始すれば点Ｂ' が検出点となり、検出点が
必ずしも一致しない場合がある。

【００１０】本発明は以上のような事情に基づいてなさ
れたものであって、その目的は、再現性の高いフィルム
露光装置における焦点検出方法を提供することにある。

【００１１】

【課題を解決するための手段】以上の目的を達成するた
め、本発明のフィルム露光装置における焦点検出方法
は、投影レンズによりレチクルに設けたフォーカスマー
クの投影像をフィルム上に形成し、このフィルム上の投
影像をその幅方向に沿って複数の画素に分割してその光
量を検出しながら、レチクルおよび／または投影レンズ
を移動させることにより投影像の焦点を検出するフィル
ム露光装置における焦点検出方法において、前記フォー
カスマークの投影像の幅方向の大きさをパラメータαと
し、このパラメータαが許容値ｉに一致するようにレチ
クルおよび／または投影レンズを光軸方向に沿ってステ
ップ移動させ（操作）、前記許容値ｉに一致した時点
から、前記パラメータαが小さくなる方向にレチクルお
よび／または投影レンズを光軸方向に沿って細かい間隔
でステップ移動させ、再び許容値ｉに一致する点でレチ
クルおよび／または投影レンズの移動を停止させ（操作
）、前記操作中における各パラメータαの合計値を
２分する値に対応する位置を焦点と定めて、当該焦点に
レチクルおよび／または投影レンズを光軸方向に沿って
逆戻りさせる（操作）ことを特徴とする。

【００１２】また、前記操作において、パラメータα
が許容値ｉ以下になるようにレチクルおよび／または投
影レンズを光軸の一方向にステップ移動させ（操作−
１）、前記パラメータαが一旦許容値ｉ以下になり再度
許容値ｉを超えたときに、レチクルおよび／または投影
レンズを光軸の前記一方向とは逆の他方向に前記操作
−１より細かい間隔でステップ移動させ（操作−
２）、前記パラメータαが再び許容値ｉ以下になったと
きに、レチクルおよび／または投影レンズを光軸の前記
他方向とは逆の一方向に前記操作−２よりさらに細か
い間隔でステップ移動させる（操作−３）、ことを特
徴とする。

【００１３】

【作用】本発明のフィルム露光装置における焦点検出方
法によれば、操作中における各パラメータαの合計値
を２分する値に対応する位置を焦点と定めて、当該焦点
にレチクルおよび／または投影レンズを光軸方向に沿っ
て逆戻りさせるので、繰返して焦点を検出する場合に、
常に同じ位置を焦点として検出することができ、再現性
が格段に高くなる。

【００１４】

【実施例】以下、本発明の実施例を説明する。本実施例
においては、図８に示すフィルム露光装置を用いて、投
影レンズによりレチクルに設けたフォーカスマークの投
影像をフィルム上に形成し、このフィルム上の投影像を
その幅方向に沿って複数の画素に分割してその光量を検
出しながら、以下の操作に従って、レチクルおよび／ま
たは投影レンズをステップ移動させることにより投影像
の焦点を検出する。図９は、図８のフィルム露光装置の
要部を示す説明図である。

【００１５】〔操作〕図１（Ｂ）のようにフォーカス
マークの投影像ＦＭの幅方向の大きさをパラメータαと
し、このパラメータαが許容値ｉに一致するようにレチ
クルＭおよび／または投影レンズ２０を光軸方向（図９
においてＰで示す方向）に沿ってステップ移動させる。
このステップ移動は、レチクル位置調節機構Ｍ１０およ
び／または投影レンズ位置調節機構Ｍ２０により行うこ
とができる。以下のステップ移動も同様である。

【００１６】この操作は、以下のようにして行うのが
好ましい。 操作−１ パラメータαが許容値ｉ以下になるようにレチクルＭお
よび／または投影レンズ２０を光軸の一方向にステップ
移動させる。すなわち、図１０（Ａ）に示すように、開
始点Ａからパラメータαが小さくなる方向にレチクルＭ
および／または投影レンズ２０をステップ移動させる。
このときパラメータαの値は、点Ａから、点Ｂ、点Ｃと
順次変化する。

【００１７】操作−２ 前記パラメータαが一旦許容値ｉ以下になり再度許容値
ｉを超えたときに、レチクルＭおよび／または投影レン
ズ２０を光軸の前記一方向とは逆の他方向に前記操作
−１より細かい間隔でステップ移動させる。すなわち、
図１０（Ｂ）に示すように、許容値ｉ以下になっても、
レチクルＭおよび／または投影レンズ２０のステップ移
動を継続して行う。このときパラメータαの値は、点Ｃ
から、点Ｄ、点Ｅ、点Ｆ、点Ｇと順次変化する。そし
て、図１０（Ｃ）に示すように、再び許容値ｉを超えた
点Ｊで、レチクルＭおよび／または投影レンズ２０のス
テップ移動を停止させる。次に、図１１（Ａ）に示すよ
うに、レチクルＭおよび／または投影レンズ２０をいま
まで移動していた方向と逆方向にステップ移動させる。
この場合の１回のステップ移動の間隔は上記の点Ａから
点Ｊまでの１回のステップ移動の間隔よりも短くする。
このときパラメータαの値は、点Ｊから、点Ｋ、点Ｌと
順次変化する。

【００１８】操作−３ 前記パラメータαが再び許容値ｉ以下になったときに、
レチクルＭおよび／または投影レンズ２０を光軸の前記
他方向とは逆の一方向に前記操作−２よりさらに短い
間隔でステップ移動させる。すなわち、図１１（Ａ）に
示すように、パラメータαの値が、再び許容値ｉ以下に
なった点Ｐで、レチクルＭおよび／または投影レンズ２
０のステップ移動を停止させ、次いで、図１１（Ｂ）に
示すように、レチクルＭおよび／または投影レンズ２０
をいままでと逆の方向にステップ移動させる。この場合
の１回のステップ移動の間隔は上記の点Ｊから点Ｐまで
の１回のステップ移動の間隔よりもさらに短くする。こ
の操作でパラメータαの値が許容値ｉに一致すれば、そ
の時点でレチクルＭおよび／または投影レンズ２０を停
止させる。図１１（Ｂ）では、パラメータαの値は、点
Ｐから、点Ｑ、点Ｒへと順次移動して、点Ｒで許容値ｉ
に一致している。ただし、この時、点Ｒは許容値ｉに一
致しないこともある。その場合は、ステップは細かいの
で許容値ｉを超えたところで誤差を含む値として停止さ
せ、後述するように補正をすればよい。なお、機能的に
は、前記パラメータαが許容値ｉに一致するまで前記操
作−２および操作−３を繰返して行うようにするこ
ともできる。すなわち、点Ｒにおいて許容値ｉに一致せ
ず、許容値ｉを超えてステップ移動したときは、レチク
ルＭおよび／または投影レンズ２０を逆方向に今までよ
り小さい間隔でステップ移動させ、この操作をパラメー
タαの値が許容値ｉと等しくなるまで続けてもよい。

【００１９】〔操作〕前記許容値ｉに一致した時点か
ら、前記パラメータαが小さくなる方向にレチクルＭお
よび／または投影レンズ２０を光軸方向に沿って、操作
における１回のステップ移動の間隔よりもさらに短い
間隔でステップで移動させ、再び許容値ｉに一致する点
でレチクルＭおよび／または投影レンズ２０の移動を停
止させる。すなわち、図１２（Ａ）に示すように、レチ
クルＭおよび／または投影レンズ２０はパラメータαの
値が小さくなる方向にステップ移動し、このときの１回
のステップ移動の間隔は非常に短かく、点Ｒから、点
Ｓ、点Ｔへと順次移動する。パラメータαの値が最小に
なっても、そのままステップ移動を継続し、そして再び
許容値ｉに一致した点でレチクルＭおよび／または投影
レンズ２０を停止させる。図１２（Ａ）の例では点Ｙで
許容値ｉに一致している。

【００２０】〔操作〕前記操作中における各パラメ
ータαの合計値を２分する値に対応する位置を焦点と定
めて、当該焦点に一致するまでレチクルＭおよび／また
は投影レンズ２０を光軸方向に沿って逆戻りさせる。す
なわち、図１２（Ｂ）に示すように、前記操作のステ
ップ移動によって形成される弓形の面積（斜線領域）を
２分割する点Ｚ、すなわち重点を焦点として定め、この
点Ｚにパラメータαが一致するように、レチクルＭおよ
び／または投影レンズ２０を移動させる。なお、前記操
作−３において、点Ｒが厳密に許容値ｉに一致せず誤
差がある場合は、重心Ｚの検出時に補正することによ
り、適正な重心Ｚを定めることができる。

【００２１】以上のような方法によれば、焦点の検出を
何回も繰返して行う場合に、常に同じ点Ｚを検出するこ
とができ、焦点検出の再現性が格段に高くなる。すなわ
ち、フィルム露光装置では、長期間にわたる使用によっ
て焦点の位置がずれることもあるため、定期的に焦点の
位置合わせの作業が必要とされるが、上記の方法によれ
ば、簡単に焦点の位置合わせを行うことができ、メンテ
ナンスが非常に容易となる。

【００２２】なお、本実施例では、検出開始点が図１２
の左側に位置する場合について説明したが、検出開始点
が図１２の右側に位置する場合も、上記と同様の操作に
より点Ｚを確実に検出することができる。

【００２３】また、点Ｚは、パラメータαの最小値に常
に一致するとは限らない。例えば、図１３の場合は、点
Ｚはパラメータαの最小値からずれた位置となる。しか
し、上記の方法によれば、焦点の検出を何回行っても、
常に一定の点Ｚを検出することができる。点Ｚは、最も
再現性よく検出できる基準点である。

【００２４】フォーカスマーク、フォーカスホールは、
上記のようにアライメントマーク、アライメントホール
を利用するのが便利であるが、本発明においては、別個
に設けてもよい。

【００２５】次に、図８のフィルム露光装置および図９
の拡大図について説明する。この装置は、帯状のフィル
ムＦの長さ方向に沿って順次にレチクルＭの回路パター
ンを露光していくものである。照射部１０は、超高圧水
銀灯等のようにレジストが感度を有する光を効率的に放
射するランプ１１を内蔵している。また、照射部１０
は、レジストが感度を有する露光波長の光と、レジスト
が感度を有しないフォーカス波長の光を切り換えるフィ
ルタを内蔵しており、このフィルタを切り換えることに
より位置合わせ時にはレチクルＭにフォーカス波長の光
が照射され、露光時には露光波長の光が照射される。こ
のフィルタとしては、例えばレジストが感度を有する５
００ｎｍ以下の光をカットするシャープカットフィルタ
が使用され、露光時にはこのシャープカットフィルタを
光路から退避させる。

【００２６】レチクルＭは、照射部１０からの光が照射
される位置に配置されている。このレチクルＭには、フ
ィルムＦに投影して転写すべき回路パターンとともに、
フォーカスマークＦＭが形成されている。フォーカスマ
ークＦＭは方形状の不透明部分に十文字の透明部分を設
けて構成されている。帯状のフィルムＦには、各コマに
対応してフォーカスホールＦＨが形成されている。フォ
ーカスホールＦＨは例えば丸型の穴により構成されてい
る。

【００２７】レチクル位置調節機構Ｍ１０および投影レ
ンズ位置調節機構Ｍ２０は、それぞれサーボモータを内
蔵している。これらの位置調節機構は、光量検出部４０
におけるパラメータαの検出結果を受けて、レチクルＭ
および／または投影レンズ２０の光軸方向における位置
を上記の方法によって自動的に調整するものである。そ
して、レチクルＭおよび／または投影レンズ２０がステ
ップ移動されるときは、投影像の倍率が変化しないよう
に、両者の相対的位置関係も上記位置調節機構により自
動的に制御される。

【００２８】光量検出部４０は、対物レンズ４１と、集
光レンズ４２と、検出器４３、ハーフミラー４４とを有
するユニットタイプのものである。この光量検出部４０
はステージ３０に埋め込まれ、対物レンズ４１がフォー
カスホールＦＨとしての穴を臨む位置に配置されてい
る。検出器４３は、高感度の光電変換器、例えば光電管
またはフォトダイオード等からなる。４５は増幅器であ
る。７１はＣＣＤカメラ、７２はモニタ、７３は画像メ
モリであり、光量検出部４０のハーフミラー４４からの
反射光がＣＣＤカメラ７１により検出され、その検出結
果がモニタ７２に表示され、画像メモリ７３に記憶され
る。ＣＣＤカメラ７１の各画素は０〜２５５のレベルで
光量を識別できるものである。画像メモリ７３に記憶さ
れた情報は、システムコントローラ５０に送られ、この
システムコントローラ５０によって上記位置調節機構Ｍ
１０および／またはＭ２０が自動的に駆動される。

【００２９】また、レチクル位置調節機構Ｍ１０は、光
軸方向におけるレチクルＭの位置のみならず、レチクル
ホルダーＭ１１に載置されたレチクルＭのフィルムＦに
対する姿勢をも制御できるようになっている。すなわ
ち、このレチクルホルダーＭ１１は、光軸方向のステッ
プ移動のほか、光軸に直角な平面内で互いに直角な二つ
の方向（Ｘ方向，Ｙ方向）でのレチクルＭの位置を調節
可能であり、また光軸を中心としてレチクルＭを回転さ
せる調節（θの調節）が可能であり、結局、ＣＰＵを内
蔵するシステムコントローラ５０からの信号によってサ
ーボモータが駆動されるとレチクルホルダーＭ１１が移
動して、レチクルＭは、光軸方向、Ｘ方向、Ｙ方向、θ
方向の４つの方向において位置制御されることになる。

【００３０】投影レンズ２０は、照射されたレチクルＭ
の像を投影するものである。この投影レンズ２０は、例
えば露光線幅５μｍ程度の解像度を有するものである。
ステージ３０の上面においてフィルムＦがステップ送り
されるので、当該上面が位置調節の基準面となる。図９
に拡大して示すように、フィルムＦのステップ送り時に
はエアを吹き出し、露光時にはフィルムを真空吸着する
真空吸着孔３１が設けられている。３２は真空ポンプ、
３４はバルブである。この例では、真空吸着孔３１は、
フィルムＦのステップ送りの際にフィルムＦをエアで浮
上させる逆風孔を兼用しており、３３はコンプレッサ、
３５はバルブである。３６，３７はフィルムＦのステッ
プ送りの際にフィルムＦの前部および後部を浮上させる
ものである。バルブ３４，３５は後述のシステムコント
ローラ５０からの信号によって制御される。

【００３１】フィルム送り機構６０は、投影レンズ２０
による像の投影位置に、フィルムＦの各コマを順にステ
ップ送りするものである。送りローラ６１はモータ６２
によって駆動される。モータ６２はシステムコントロー
ラ５０からの信号により駆動開始され、システムコント
ローラ５０からの信号により減速された後、光量検出部
４０からの信号を受けたシステムコントローラ５０から
の信号により停止する。６３は押えローラ、６４はスプ
ロケットローラ、６５は押えローラ、６６，６７は補助
ローラ、６８は巻き出しリール、６９は巻き取りリール
である。

【００３２】

【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
繰返し再現性の良いフィルム露光装置における焦点検出
方法を提供することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】フォーカスマークおよびフォーカスホールの説
明図である。

【図２】光量検出部の説明図である。

【図３】フォーカスマークの投影像ＦＭの幅方向の大き
さ（パラメータα）と検出光量のレベルとの関係を示す
説明図である。

【図４】光軸方向におけるレチクルおよび／または投影
レンズの位置とパラメータαとの関係を示す説明図であ
る。

【図５】図４の各点におけるパラメータαと検出光量の
レベルとの関係を示す説明図である。

【図６】焦点検出方法の一例を示す説明図である。

【図７】図６に示した焦点検出方法の問題点の説明図で
ある。

【図８】本発明の実施例で使用することができるフィル
ム露光装置の一例を示す説明図である。

【図９】図８のフィルム露光装置の要部を拡大して示す
説明図である。

【図１０】本発明の焦点検出方法の実施例の説明図であ
る。

【図１１】本発明の焦点検出方法の実施例の説明図であ
る。

【図１２】本発明の焦点検出方法の実施例の説明図であ
る。

【図１３】本発明の焦点検出方法の他の実施例の説明図
である。

【符号の説明】 ＦＭ フォーカスマークの投影像 ＦＨ フォー
カスホール Ｍ レチクル Ｆ フィル
ム Ｍ１０ レチクル位置調節機構 ２０ 投影レ
ンズ Ｍ２０ 投影レンズ位置調節機構 Ｍ１１ レチク
ルホルダー １０ 照射部 １１ ランプ ３０ ステージ ３１ 真空吸
着孔 ３２ 真空ポンプ ３４ バルブ ３３ コンプレッサ ３５ バルブ ３６ 前部の浮上手段 ３７ 後部の
浮上手段 ４０ 光量検出部 ４１ 対物レ
ンズ ４２ 集光レンズ ４３ 検出器 ４４ ハーフミラー ４５ 増幅器 ５０ システムコントローラ ６０ フィル
ム送り機構 ６１ 送りローラ ６２ モータ ６３ 押えローラ ６４ スプロ
ケットローラ ６５ 押えローラ ６６ 補助ロ
ーラ ６７ 補助ローラ ６８ 巻き出
しリール ６９ 巻き取りリール ７１ ＣＣＤ
カメラ ７２ モニタ ７３ 画像メ
モリ

Claims (2)

(57)【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 投影レンズによりレチクルに設けたフォ
   ーカスマークの投影像をフィルム上に形成し、このフィ
   ルム上の投影像をその幅方向に沿って複数の画素に分割
   してその光量を検出しながら、レチクルおよび／または
   投影レンズを移動させることにより投影像の焦点を検出
   するフィルム露光装置における焦点検出方法において、 前記フォーカスマークの投影像の幅方向の大きさをパラ
   メータαとし、このパラメータαが許容値ｉに一致する
   ようにレチクルおよび／または投影レンズを光軸方向に
   沿ってステップ移動させ（操作）、 前記許容値ｉに一致した時点から、前記パラメータαが
   小さくなる方向にレチクルおよび／または投影レンズを
   光軸方向に沿って細かい間隔でステップ移動させ、再び
   許容値ｉに一致する点でレチクルおよび／または投影レ
   ンズの移動を停止させ（操作）、 前記操作中における各パラメータαの合計値を２分す
   る値に対応する位置を焦点と定めて、当該焦点にレチク
   ルおよび／または投影レンズを光軸方向に沿って逆戻り
   させる（操作）ことを特徴とするフィルム露光装置に
   おける焦点検出方法。
2. 【請求項２】 請求項１の操作において、 パラメータαが許容値ｉ以下になるようにレチクルおよ
   び／または投影レンズを光軸の一方向にステップ移動さ
   せ（操作−１）、 前記パラメータαが一旦許容値ｉ以下になり再度許容値
   ｉを超えたときに、レチクルおよび／または投影レンズ
   を光軸の前記一方向とは逆の他方向に前記操作−１よ
   り細かい間隔でステップ移動させ（操作−２）、 前記パラメータαが再び許容値ｉ以下になったときに、
   レチクルおよび／または投影レンズを光軸の前記他方向
   とは逆の一方向に前記操作−２よりさらに細かい間隔
   でステップ移動させる（操作−３）ことを特徴とする
   フィルム露光装置における焦点検出方法。