JPH1063012A - 露光装置 - Google Patents
露光装置Info
- Publication number
- JPH1063012A JPH1063012A JP8231490A JP23149096A JPH1063012A JP H1063012 A JPH1063012 A JP H1063012A JP 8231490 A JP8231490 A JP 8231490A JP 23149096 A JP23149096 A JP 23149096A JP H1063012 A JPH1063012 A JP H1063012A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- work
- alignment
- film mask
- stage
- film
- Prior art date
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- Granted
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- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 アライメント不能による稼働率低下のない露
光装置を提供する。 【解決手段】 ベルトコンベア７により搬送されるワー
クＫをプラテン１上で位置決め装置５により予め位置決
めし、その後フィルムマスクＦとワークＫ間の位置決め
を行う。
光装置を提供する。 【解決手段】 ベルトコンベア７により搬送されるワー
クＫをプラテン１上で位置決め装置５により予め位置決
めし、その後フィルムマスクＦとワークＫ間の位置決め
を行う。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】この発明は、露光装置に関す
る。
る。
【０００２】
【従来の技術】プリント配線ワーク等の製造には、形成
すべき回路パターンを描いた原版を用いて光を投影露光
することによりワークにパターンを焼き付けし、フォト
エッチングにより回路を形成するフォトリソグラフィー
法が近年用いられるようになってきている。露光の際に
はフィルムマスクとワークとを正確に位置合わせする必
要があるが、最初にワークをベルトコンベアやコロ等に
よりアライメント基台に搬送し、ここに真空吸着等によ
り固定して、フィルムマスクをワークと０．５ｍｍ程度
隙間をあけて接近させ、この状態で両者を相対的に移動
させて画像処理により位置合わせを行うのが普通であ
る。
すべき回路パターンを描いた原版を用いて光を投影露光
することによりワークにパターンを焼き付けし、フォト
エッチングにより回路を形成するフォトリソグラフィー
法が近年用いられるようになってきている。露光の際に
はフィルムマスクとワークとを正確に位置合わせする必
要があるが、最初にワークをベルトコンベアやコロ等に
よりアライメント基台に搬送し、ここに真空吸着等によ
り固定して、フィルムマスクをワークと０．５ｍｍ程度
隙間をあけて接近させ、この状態で両者を相対的に移動
させて画像処理により位置合わせを行うのが普通であ
る。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかし、搬送されたワ
ークの基台上の停止位置がばらつくと、画像処理を行う
ためのカメラ等の視野に入らない不具合がしばしば発生
する問題があった。この場合、フィルムマスクとワーク
との位置調整が不能となり、ワークを系外に排出しなけ
らばならなくなり、露光装置の稼働率の低下を招く欠点
があった。本発明は上記従来技術の欠点を改善すること
を目的とする。
ークの基台上の停止位置がばらつくと、画像処理を行う
ためのカメラ等の視野に入らない不具合がしばしば発生
する問題があった。この場合、フィルムマスクとワーク
との位置調整が不能となり、ワークを系外に排出しなけ
らばならなくなり、露光装置の稼働率の低下を招く欠点
があった。本発明は上記従来技術の欠点を改善すること
を目的とする。
【０００４】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明の露光装置は、搬送されたきたワークを所定
の位置に位置合わせするためのプリアライメント手段
と、該所定の位置に位置合わせされたワークとフィルム
マスクとを相対的に移動させて、ワークとフィルムマス
ク間の位置合わせを行うための手段と、を備えたことを
特徴とする。上記構成においては、搬送されたきたワー
クを、最初に所定の位置に位置合わせし、その後フィル
ムマスクとワークとの間の位置合わせを行うため、画像
処理による位置合わせが不能となることがなく、露光装
置の稼働率を向上できる。また、前記ワークの所定の位
置への位置合わせと、前記ワークとフィルムマスク間の
位置合わせとを露光基台上で行わうことにより、工程の
効率化と位置合わせの精度の向上を図ることが可能にな
る。
に、本発明の露光装置は、搬送されたきたワークを所定
の位置に位置合わせするためのプリアライメント手段
と、該所定の位置に位置合わせされたワークとフィルム
マスクとを相対的に移動させて、ワークとフィルムマス
ク間の位置合わせを行うための手段と、を備えたことを
特徴とする。上記構成においては、搬送されたきたワー
クを、最初に所定の位置に位置合わせし、その後フィル
ムマスクとワークとの間の位置合わせを行うため、画像
処理による位置合わせが不能となることがなく、露光装
置の稼働率を向上できる。また、前記ワークの所定の位
置への位置合わせと、前記ワークとフィルムマスク間の
位置合わせとを露光基台上で行わうことにより、工程の
効率化と位置合わせの精度の向上を図ることが可能にな
る。
【０００５】
【発明の実施の形態】以下本発明の実施の形態を図面に
基づいて説明する。図１において、露光基台であるプラ
テン１はワークＫをその上に載置し、吸引装置（図示せ
ず）によりワークＫを真空吸着するように構成されてい
る。プラテン１はＺステージ１５、Ｘステージ１６、Ｙ
ステージ１７及びθステージ１８によりｘｙｚ方向及び
θ方向に可動になっている。これらは制御装置１０によ
り制御され、ワークＫを移動させるように構成されてい
る。
基づいて説明する。図１において、露光基台であるプラ
テン１はワークＫをその上に載置し、吸引装置（図示せ
ず）によりワークＫを真空吸着するように構成されてい
る。プラテン１はＺステージ１５、Ｘステージ１６、Ｙ
ステージ１７及びθステージ１８によりｘｙｚ方向及び
θ方向に可動になっている。これらは制御装置１０によ
り制御され、ワークＫを移動させるように構成されてい
る。
【０００６】ワークＫはベルトコンベア７により前工程
から搬送され、プラテン１上に載置されるようになって
いる。プラテン１上には図２に示すようにベルトコンベ
ア用溝９が設けられており、プラテン１を下げた状態で
ベルトコンベア７によりワークＫを搬送し、プラテン１
を上昇させてワークＫをプラテン１上に載置するように
なっている。
から搬送され、プラテン１上に載置されるようになって
いる。プラテン１上には図２に示すようにベルトコンベ
ア用溝９が設けられており、プラテン１を下げた状態で
ベルトコンベア７によりワークＫを搬送し、プラテン１
を上昇させてワークＫをプラテン１上に載置するように
なっている。
【０００７】プラテン１上には図２に示すように各辺に
２ヶ所、合計８ヶ所に位置決め装置５が設けられてお
り、ベルトコンベア７から搬送されてきたワークＫをプ
ラテン１上の所定の位置に位置決めするようになってい
る。各位置決め装置５はプラテン１に設けられた位置決
め装置用溝８内に設けられており、図４に示すように起
倒式のアライメント用つめ５０を備え、このアライメン
ト用つめ５０によりワークＫの端部を規制するようにな
っている。
２ヶ所、合計８ヶ所に位置決め装置５が設けられてお
り、ベルトコンベア７から搬送されてきたワークＫをプ
ラテン１上の所定の位置に位置決めするようになってい
る。各位置決め装置５はプラテン１に設けられた位置決
め装置用溝８内に設けられており、図４に示すように起
倒式のアライメント用つめ５０を備え、このアライメン
ト用つめ５０によりワークＫの端部を規制するようにな
っている。
【０００８】アライメント用つめ５０はエアシリンダ５
１により起倒可能になっており、該エアシリンダ５１は
制御装置１０に制御されるようになっている。アライメ
ント用つめ５０は起倒式でなく、上下に移動する構成と
しても良い。またアライメント用つめ５０はボールネジ
５２上に装着され、モータ５３の稼働によりプラテン１
の中央方向に進退できるようになっている。このモータ
５３の稼働も制御装置１０に制御されている。図２にお
いて、右側の位置決め装置５Ａ１にはセンサ６が設けら
れており、ここでワークＫの到来を検知し、制御装置１
０にその旨の信号を送るように構成されている。そして
ワークＫのサイズに対応するアライメント用つめ５０の
位置の制御、アライメント動作等をモータ５３の稼動に
より行うように構成されている。
１により起倒可能になっており、該エアシリンダ５１は
制御装置１０に制御されるようになっている。アライメ
ント用つめ５０は起倒式でなく、上下に移動する構成と
しても良い。またアライメント用つめ５０はボールネジ
５２上に装着され、モータ５３の稼働によりプラテン１
の中央方向に進退できるようになっている。このモータ
５３の稼働も制御装置１０に制御されている。図２にお
いて、右側の位置決め装置５Ａ１にはセンサ６が設けら
れており、ここでワークＫの到来を検知し、制御装置１
０にその旨の信号を送るように構成されている。そして
ワークＫのサイズに対応するアライメント用つめ５０の
位置の制御、アライメント動作等をモータ５３の稼動に
より行うように構成されている。
【０００９】以上の構成において、図において左側から
ベルトコンベア７によりワークＫが搬送され、位置決め
装置５Ａ１，Ａ２に突き当たり、同時にセンサ６により
ワークＫが検出され、ベルトコンベア７が停止する。そ
して、プラテン１が上昇して、ワークＫをプラテン１上
に載置するようになっている。更に、位置決め装置５Ｂ
１、Ｂ２、５Ｃ１、Ｃ２、５Ｄ１、Ｄ２によりワークＫ
はプラテン１上で所定の位置に位置決めされ、前記吸引
装置（図示せず）により吸引され固定される。そして、
各アライメント用つめ５０を倒してワークＫのアライメ
ント用つめ５０による拘束を解放し、プリアライメント
を終了し、次の工程に移行するようになっている。
ベルトコンベア７によりワークＫが搬送され、位置決め
装置５Ａ１，Ａ２に突き当たり、同時にセンサ６により
ワークＫが検出され、ベルトコンベア７が停止する。そ
して、プラテン１が上昇して、ワークＫをプラテン１上
に載置するようになっている。更に、位置決め装置５Ｂ
１、Ｂ２、５Ｃ１、Ｃ２、５Ｄ１、Ｄ２によりワークＫ
はプラテン１上で所定の位置に位置決めされ、前記吸引
装置（図示せず）により吸引され固定される。そして、
各アライメント用つめ５０を倒してワークＫのアライメ
ント用つめ５０による拘束を解放し、プリアライメント
を終了し、次の工程に移行するようになっている。
【００１０】プラテン１の上方にはフィルムマスク保持
装置２０に保持されたフィルムマスクＦが設けられてお
り、その上には加圧フィルムＰと透明ガラス２１及び光
源２３が設けられている。透明ガラス２１の上方には一
対のＣＣＤカメラ２が設けられており、このＣＣＤカメ
ラ２によりフィルムマスクＦ上の位置合せマーク３と位
置決めされたワークＫ上の位置合せマーク４の位置合わ
せを行うようになっている。即ち、制御装置１０はＣＣ
Ｄカメラ２からの情報により、位置合せマーク３と位置
合せマーク４が一致するようにＸステージ１６、Ｙステ
ージ１７及びθステージ１８を動かしてフィルムマスク
ＦとワークＫの位置合わせを行うように構成されてい
る。この際、ワークＫは前記プリアライメント工程によ
り所定の位置に位置決めされているから、ＣＣＤカメラ
２の視野から外れることなく、確実に画像処理が行え
る。
装置２０に保持されたフィルムマスクＦが設けられてお
り、その上には加圧フィルムＰと透明ガラス２１及び光
源２３が設けられている。透明ガラス２１の上方には一
対のＣＣＤカメラ２が設けられており、このＣＣＤカメ
ラ２によりフィルムマスクＦ上の位置合せマーク３と位
置決めされたワークＫ上の位置合せマーク４の位置合わ
せを行うようになっている。即ち、制御装置１０はＣＣ
Ｄカメラ２からの情報により、位置合せマーク３と位置
合せマーク４が一致するようにＸステージ１６、Ｙステ
ージ１７及びθステージ１８を動かしてフィルムマスク
ＦとワークＫの位置合わせを行うように構成されてい
る。この際、ワークＫは前記プリアライメント工程によ
り所定の位置に位置決めされているから、ＣＣＤカメラ
２の視野から外れることなく、確実に画像処理が行え
る。
【００１１】制御装置１０は最初に、Ｚステージ１５に
よりワークＫを上昇させ、フィルムマスクＦとの間に所
定の距離を保って、Ｘステージ１６、Ｙステージ１７、
θステージ１８によりプラテン１を移動させつつ、ＣＣ
Ｄカメラ２により位置合せマーク３と位置合せマーク４
の位置合わせを行うようになっている。
よりワークＫを上昇させ、フィルムマスクＦとの間に所
定の距離を保って、Ｘステージ１６、Ｙステージ１７、
θステージ１８によりプラテン１を移動させつつ、ＣＣ
Ｄカメラ２により位置合せマーク３と位置合せマーク４
の位置合わせを行うようになっている。
【００１２】位置合わせが終了したら、制御装置１０は
プラテン１を上昇させて、同時に加圧フィルムＰの裏面
側に加圧源２２から加圧流体を導入して加圧フィルムＰ
を膨らませ、この加圧フィルムＰによりフィルムマスク
ＦをワークＫに押しつけて密着させるようになってい
る。そして、制御装置１０は再度ＣＣＤカメラ２により
位置合せマーク３と位置合せマーク４の位置のずれ量を
測定し、許容公差範囲であれば光源２３から光を照射し
て露光を行うように構成されている。
プラテン１を上昇させて、同時に加圧フィルムＰの裏面
側に加圧源２２から加圧流体を導入して加圧フィルムＰ
を膨らませ、この加圧フィルムＰによりフィルムマスク
ＦをワークＫに押しつけて密着させるようになってい
る。そして、制御装置１０は再度ＣＣＤカメラ２により
位置合せマーク３と位置合せマーク４の位置のずれ量を
測定し、許容公差範囲であれば光源２３から光を照射し
て露光を行うように構成されている。
【００１３】密着状態で位置合わせマーク３、４の位置
のずれ量が許容公差範囲外であった場合、制御装置１０
はフィルムマスクＦとワークＫとの密着を解放し、再び
ＣＣＤカメラ２からの情報によりＸ、Ｙ、Ｚ、θステー
ジを移動させて位置合わせを行い、再度フィルムマスク
ＦとワークＫを密着させ、再び位置合わせマーク３、４
のずれ量を測定する。このずれ量が許容公差範囲内にな
るまで上記動作を繰り返す様に構成されている。
のずれ量が許容公差範囲外であった場合、制御装置１０
はフィルムマスクＦとワークＫとの密着を解放し、再び
ＣＣＤカメラ２からの情報によりＸ、Ｙ、Ｚ、θステー
ジを移動させて位置合わせを行い、再度フィルムマスク
ＦとワークＫを密着させ、再び位置合わせマーク３、４
のずれ量を測定する。このずれ量が許容公差範囲内にな
るまで上記動作を繰り返す様に構成されている。
【００１４】図５によりこの実施形態の動作を説明す
る。ワークＫが搬入されると（ステップＳ１）、位置決
め装置５によりプラテン１上におけるワークＫのプリア
ライメントを実行し、ワークＫを所定の位置に位置決め
する（ステップＳ２）。次いで前記したように制御装置
１０により位置合わせマーク３、４による画像アライメ
ントを実行する（ステップＳ３）。そして、フィルムマ
スクＦとワークＫとを密着させる（ステップＳ４）。こ
の状態で、位置合わせマーク３、４によりアライメント
の確認を行い（ステップＳ５）、許容公差外の場合には
フィルムマスクＦとワークＫの密着を開放しステップＳ
３に戻る（ステップＳ６）。許容公差内の場合には露光
処理を実行し（ステップＳ７）、ワークＫを搬出する
（ステップＳ８）。
る。ワークＫが搬入されると（ステップＳ１）、位置決
め装置５によりプラテン１上におけるワークＫのプリア
ライメントを実行し、ワークＫを所定の位置に位置決め
する（ステップＳ２）。次いで前記したように制御装置
１０により位置合わせマーク３、４による画像アライメ
ントを実行する（ステップＳ３）。そして、フィルムマ
スクＦとワークＫとを密着させる（ステップＳ４）。こ
の状態で、位置合わせマーク３、４によりアライメント
の確認を行い（ステップＳ５）、許容公差外の場合には
フィルムマスクＦとワークＫの密着を開放しステップＳ
３に戻る（ステップＳ６）。許容公差内の場合には露光
処理を実行し（ステップＳ７）、ワークＫを搬出する
（ステップＳ８）。
【００１５】以上説明した実施形態によれば、位置決め
装置５によりワークＫを所定の位置に位置合わせするた
め、ワークＫとフィルムマスクＦとの間の位置合わせの
際に、ワークＫがＣＣＤカメラ２の視野外に位置する等
の問題が生じない。そのため、アライメント不能が生ず
ることがなく、装置の稼働率を向上できる。また、この
位置決め及びワークＫとフィルムマスクＦ間の位置決め
はプラテン１上で行えるため、効率的であり、且つ位置
決め精度も向上する。更に、フィルムマスクとワークと
を密着させる際に微少な位置ずれが生じても、これを検
出して再度アライメントをやり直すようになっているた
め、アライメント不良による不良品の発生を防止するこ
とが可能になる等の効果がある。
装置５によりワークＫを所定の位置に位置合わせするた
め、ワークＫとフィルムマスクＦとの間の位置合わせの
際に、ワークＫがＣＣＤカメラ２の視野外に位置する等
の問題が生じない。そのため、アライメント不能が生ず
ることがなく、装置の稼働率を向上できる。また、この
位置決め及びワークＫとフィルムマスクＦ間の位置決め
はプラテン１上で行えるため、効率的であり、且つ位置
決め精度も向上する。更に、フィルムマスクとワークと
を密着させる際に微少な位置ずれが生じても、これを検
出して再度アライメントをやり直すようになっているた
め、アライメント不良による不良品の発生を防止するこ
とが可能になる等の効果がある。
【００１６】
【発明の効果】以上説明したように本発明の露光装置に
よれば、搬送されてくるワークを予め所定の位置に位置
決めするため、ワークとフィルムマスクの間の位置決め
を確実に実行でき、アライメント不能を生じることがな
く、露光装置の稼働率を向上できる効果がある。
よれば、搬送されてくるワークを予め所定の位置に位置
決めするため、ワークとフィルムマスクの間の位置決め
を確実に実行でき、アライメント不能を生じることがな
く、露光装置の稼働率を向上できる効果がある。
【図１】本発明の一実施形態を示すブロック図。
【図２】本発明の一実施形態におけるプラテン１の平面
図。
図。
【図３】本発明の一実施形態におけるプラテン１の側面
図。
図。
【図４】本発明の一実施形態における位置決め装置５の
側面図。
側面図。
【図５】本発明の一実施形態の動作を説明するフローチ
ャート図。
ャート図。
１：プラテン、２：ＣＣＤカメラ、３：位置合せマー
ク、４：位置合せマーク、５：位置決め装置、６：セン
サ、７：ベルトコンベア、８：位置決め装置用溝、９：
ベルトコンベア用溝、１０：制御装置、１５：Ｚステー
ジ、１６：Ｘステージ、１７：Ｙステージ、１８：θス
テージ、２０：フィルムマスク保持装置、２１：透明ガ
ラス、２２：加圧源、２３：光源、５０：アライメント
用つめ、５１：エアシリンダ、５２：ボールネジ、５
３：モータ。
ク、４：位置合せマーク、５：位置決め装置、６：セン
サ、７：ベルトコンベア、８：位置決め装置用溝、９：
ベルトコンベア用溝、１０：制御装置、１５：Ｚステー
ジ、１６：Ｘステージ、１７：Ｙステージ、１８：θス
テージ、２０：フィルムマスク保持装置、２１：透明ガ
ラス、２２：加圧源、２３：光源、５０：アライメント
用つめ、５１：エアシリンダ、５２：ボールネジ、５
３：モータ。
Claims (2)
- 【請求項１】 搬送されてきたワークを所定の位置に位
置合わせするためのプリアライメント手段と、 該所定の位置に位置合わせされたワークとフィルムマス
クとを相対的に移動させて、ワークとフィルムマスク間
の位置合わせを行うための手段と、 を備えたことを特徴とする露光装置。 - 【請求項２】 前記ワークの所定の位置への位置合わせ
と、前記ワークとフィルムマスク間の位置合わせとが露
光基台上で行われる、 請求項１に記載の露光装置。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP23149096A JP3231246B2 (ja) | 1996-08-13 | 1996-08-13 | 露光装置 |
| US09/241,902 US6252649B1 (en) | 1996-07-31 | 1999-02-02 | Aligner |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP23149096A JP3231246B2 (ja) | 1996-08-13 | 1996-08-13 | 露光装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH1063012A true JPH1063012A (ja) | 1998-03-06 |
| JP3231246B2 JP3231246B2 (ja) | 2001-11-19 |
Family
ID=16924315
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP23149096A Expired - Fee Related JP3231246B2 (ja) | 1996-07-31 | 1996-08-13 | 露光装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3231246B2 (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002251016A (ja) * | 2001-02-23 | 2002-09-06 | Adtec Engineeng Co Ltd | 露光装置 |
| JP2002341560A (ja) * | 2001-05-14 | 2002-11-27 | Howa Mach Ltd | 露光機における基板材の処理方法及び露光機の制御装置 |
| JP2007225727A (ja) * | 2006-02-21 | 2007-09-06 | Orc Mfg Co Ltd | 基板露光装置および基板露光方法 |
-
1996
- 1996-08-13 JP JP23149096A patent/JP3231246B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002251016A (ja) * | 2001-02-23 | 2002-09-06 | Adtec Engineeng Co Ltd | 露光装置 |
| JP2002341560A (ja) * | 2001-05-14 | 2002-11-27 | Howa Mach Ltd | 露光機における基板材の処理方法及び露光機の制御装置 |
| JP4756432B2 (ja) * | 2001-05-14 | 2011-08-24 | 豊和工業株式会社 | 露光機における基板材の処理方法及び露光機の制御装置 |
| JP2007225727A (ja) * | 2006-02-21 | 2007-09-06 | Orc Mfg Co Ltd | 基板露光装置および基板露光方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3231246B2 (ja) | 2001-11-19 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
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