JPH0541981B2 - - Google Patents
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- JPH0541981B2 JPH0541981B2 JP61190341A JP19034186A JPH0541981B2 JP H0541981 B2 JPH0541981 B2 JP H0541981B2 JP 61190341 A JP61190341 A JP 61190341A JP 19034186 A JP19034186 A JP 19034186A JP H0541981 B2 JPH0541981 B2 JP H0541981B2
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- Japan
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- workpiece
- alignment
- exposure
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70425—Imaging strategies, e.g. for increasing throughput or resolution, printing product fields larger than the image field or compensating lithography- or non-lithography errors, e.g. proximity correction, mix-and-match, stitching or double patterning
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B23—MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- B23Q—DETAILS, COMPONENTS, OR ACCESSORIES FOR MACHINE TOOLS, e.g. ARRANGEMENTS FOR COPYING OR CONTROLLING; MACHINE TOOLS IN GENERAL CHARACTERISED BY THE CONSTRUCTION OF PARTICULAR DETAILS OR COMPONENTS; COMBINATIONS OR ASSOCIATIONS OF METAL-WORKING MACHINES, NOT DIRECTED TO A PARTICULAR RESULT
- B23Q3/00—Devices holding, supporting, or positioning work or tools, of a kind normally removable from the machine
- B23Q3/18—Devices holding, supporting, or positioning work or tools, of a kind normally removable from the machine for positioning only
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B23—MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- B23Q—DETAILS, COMPONENTS, OR ACCESSORIES FOR MACHINE TOOLS, e.g. ARRANGEMENTS FOR COPYING OR CONTROLLING; MACHINE TOOLS IN GENERAL CHARACTERISED BY THE CONSTRUCTION OF PARTICULAR DETAILS OR COMPONENTS; COMBINATIONS OR ASSOCIATIONS OF METAL-WORKING MACHINES, NOT DIRECTED TO A PARTICULAR RESULT
- B23Q7/00—Arrangements for handling work specially combined with or arranged in, or specially adapted for use in connection with, machine tools, e.g. for conveying, loading, positioning, discharging, sorting
- B23Q7/04—Arrangements for handling work specially combined with or arranged in, or specially adapted for use in connection with, machine tools, e.g. for conveying, loading, positioning, discharging, sorting by means of grippers
- B23Q7/043—Construction of the grippers
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03B—APPARATUS OR ARRANGEMENTS FOR TAKING PHOTOGRAPHS OR FOR PROJECTING OR VIEWING THEM; APPARATUS OR ARRANGEMENTS EMPLOYING ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ACCESSORIES THEREFOR
- G03B27/00—Photographic printing apparatus
- G03B27/02—Exposure apparatus for contact printing
- G03B27/04—Copying apparatus without a relative movement between the original and the light source during exposure, e.g. printing frame or printing box
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03B—APPARATUS OR ARRANGEMENTS FOR TAKING PHOTOGRAPHS OR FOR PROJECTING OR VIEWING THEM; APPARATUS OR ARRANGEMENTS EMPLOYING ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ACCESSORIES THEREFOR
- G03B27/00—Photographic printing apparatus
- G03B27/02—Exposure apparatus for contact printing
- G03B27/14—Details
- G03B27/18—Maintaining or producing contact pressure between original and light-sensitive material
- G03B27/20—Maintaining or producing contact pressure between original and light-sensitive material by using a vacuum or fluid pressure
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- G—PHYSICS
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- G03F9/00—Registration or positioning of originals, masks, frames, photographic sheets or textured or patterned surfaces, e.g. automatically
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K3/00—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
- H05K3/0073—Masks not provided for in groups H05K3/02 - H05K3/46, e.g. for photomechanical production of patterned surfaces
- H05K3/0082—Masks not provided for in groups H05K3/02 - H05K3/46, e.g. for photomechanical production of patterned surfaces characterised by the exposure method of radiation-sensitive masks
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- General Physics & Mathematics (AREA)
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- Mechanical Engineering (AREA)
- Fluid Mechanics (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、プリント基板等のワークの両面に印
刷配線等の画像を同時露光する際に、画像マスク
とワークとを位置合せする両面露光用ワークアラ
イメント装置に関する。
刷配線等の画像を同時露光する際に、画像マスク
とワークとを位置合せする両面露光用ワークアラ
イメント装置に関する。
プリント基板等のワークに所定の配線パターン
等の画像を露光焼付けするには、ワークにマスク
フイルムを位置合せし近接配置して平行光を透過
照射することにより行なわれる。ワークの両面を
同時露光する際のプリント基板のマスクの位置合
せ方法に関する従来の技術として、本出願人は昭
和61年3月13日付の特許出願「プリント基板の焼
付方法」において開示している。この両面同時露
光におけるワークと上下両面のマスクフイルムと
を位置合せ方法は、まずワークを露光位置にセツ
トする。そして、上面のマスクフイルムを保持す
る焼枠を、前記ワークおよびマスクフイルムの位
置決め用の基準マークを撮影して位置決めする。
続いて、下面のマスクフイルムを保持する焼枠を
上面側の焼枠と同様にして位置決めして行つてい
た。
等の画像を露光焼付けするには、ワークにマスク
フイルムを位置合せし近接配置して平行光を透過
照射することにより行なわれる。ワークの両面を
同時露光する際のプリント基板のマスクの位置合
せ方法に関する従来の技術として、本出願人は昭
和61年3月13日付の特許出願「プリント基板の焼
付方法」において開示している。この両面同時露
光におけるワークと上下両面のマスクフイルムと
を位置合せ方法は、まずワークを露光位置にセツ
トする。そして、上面のマスクフイルムを保持す
る焼枠を、前記ワークおよびマスクフイルムの位
置決め用の基準マークを撮影して位置決めする。
続いて、下面のマスクフイルムを保持する焼枠を
上面側の焼枠と同様にして位置決めして行つてい
た。
しかしながら上記従来の技術における上下両面
の各マスクフイルムの位置合せ機構は、プリント
基板とマスクフイルムとの基準マークの位置ズレ
の量によつて平面上で直交する2方向(X方向、
Y方向)とその平面の回転方向(θ方向)を制御
してマスクフイルムを位置決めし、その後、その
位置合せ機構を含めてプリント基板にマスクフイ
ルムを精度良く接近させなければならなかつたの
で、極めて構成が複雑であるという問題点があつ
た。このためコスト高となり、さらにそれが上面
マスクフイルムと下面マスクフイルムと別個の位
置合せ機構が必要となるので装置が増々複雑にな
つた。
の各マスクフイルムの位置合せ機構は、プリント
基板とマスクフイルムとの基準マークの位置ズレ
の量によつて平面上で直交する2方向(X方向、
Y方向)とその平面の回転方向(θ方向)を制御
してマスクフイルムを位置決めし、その後、その
位置合せ機構を含めてプリント基板にマスクフイ
ルムを精度良く接近させなければならなかつたの
で、極めて構成が複雑であるという問題点があつ
た。このためコスト高となり、さらにそれが上面
マスクフイルムと下面マスクフイルムと別個の位
置合せ機構が必要となるので装置が増々複雑にな
つた。
また、ワークの位置合め作業を露光位置で行つ
ているため、露光処理能力が低いという問題点が
あつた。
ているため、露光処理能力が低いという問題点が
あつた。
本発明は上記問題点を解決するためのものであ
り、ワークの両面を同時露光する際の位置合せ機
構を簡単化し、また、露光位置以外でワークの位
置決め作業を行うことで露光処理能力を高め、さ
らに、装置コストを低減する両面露光用ワークア
ライメント装置を提供することを目的とする。
り、ワークの両面を同時露光する際の位置合せ機
構を簡単化し、また、露光位置以外でワークの位
置決め作業を行うことで露光処理能力を高め、さ
らに、装置コストを低減する両面露光用ワークア
ライメント装置を提供することを目的とする。
本発明は上記目的を達成するため、「位置合わ
せマークを有するワークを保持し、位置合わせす
るアライメントステージと、このアライメントス
テージで位置あわせをしたワークを露光する露光
部と、前記アライメントステージおよび露光部間
をマークを保持して搬送する搬送手段とを備え、
前記アライメントステージは、平面上の一方向に
往復移動するXテーブルと、このXテーブルの移
動方向に直交する方向に往復移動するYテーブル
と、垂直軸線の回りを回動自在に移動するθテー
ブルとを有し、前記各XYθテーブルは、その所
定位置を貫通させ、ワークの位置合わせマークの
位置を読み取る第1の撮像手段を備え、前記露光
部には、ワークの位置合わせマークおよび画像マ
スクの基準マークの位置とを読み取る第2の撮像
手段とを有し、これら両撮像手段から送られてき
たワークの位置合わせマークおよび画像マスクの
基準マークとの位置情報に基づいてワークの位置
ズレ量を算出し、変位信号として出力する確認算
出手段とを有し、前記確認算出手段から出力され
た変位信号に基づいて前記アライメント部では、
各XYθテーブルを必要に応じて移動させワーク
のアライメントを行い、前記露光部では、到来し
たワークの適正位置を確認することを特徴とする
両面露光用ワークアライメント装置。」として構
成した。
せマークを有するワークを保持し、位置合わせす
るアライメントステージと、このアライメントス
テージで位置あわせをしたワークを露光する露光
部と、前記アライメントステージおよび露光部間
をマークを保持して搬送する搬送手段とを備え、
前記アライメントステージは、平面上の一方向に
往復移動するXテーブルと、このXテーブルの移
動方向に直交する方向に往復移動するYテーブル
と、垂直軸線の回りを回動自在に移動するθテー
ブルとを有し、前記各XYθテーブルは、その所
定位置を貫通させ、ワークの位置合わせマークの
位置を読み取る第1の撮像手段を備え、前記露光
部には、ワークの位置合わせマークおよび画像マ
スクの基準マークの位置とを読み取る第2の撮像
手段とを有し、これら両撮像手段から送られてき
たワークの位置合わせマークおよび画像マスクの
基準マークとの位置情報に基づいてワークの位置
ズレ量を算出し、変位信号として出力する確認算
出手段とを有し、前記確認算出手段から出力され
た変位信号に基づいて前記アライメント部では、
各XYθテーブルを必要に応じて移動させワーク
のアライメントを行い、前記露光部では、到来し
たワークの適正位置を確認することを特徴とする
両面露光用ワークアライメント装置。」として構
成した。
搬送手段によりアライメントステージのXテー
ブル上に搬送載置されたワークは、撮像手段によ
り、ワークの位置合わせマークを撮像し、その位
置情報を確認算出手段に送る。確認算出手段に
は、露光部の撮像手段から送られる画像マスクの
基準マークの位置信号が記憶されているため、ワ
ークの位置合わせマークと画像マスクの基準マー
クとを比較し、その位置ズレ量を算出し、その位
置ズレ量が零になるようにアライメントテーブル
に信号を送り、各XYθテーブルを移動させる。
そして、アライメントが終了するとワークを搬送
手段により保持して露光部に搬送する。露光部に
搬送されたワークは、下面マスクの上に載置さ
れ、上下の焼枠で挟着した状態で、露光部の撮像
手段により、ワークの位置合わせマークと画像マ
スクの基準マークの位置が撮像され、その位置情
報を確認算出手段に送る。確認算出手段は、送ら
れてきた各マークの位置が合致しているかどうか
を判断し、位置ズレが有る場合は、ワークのアラ
イメントを再び行うことになる。
ブル上に搬送載置されたワークは、撮像手段によ
り、ワークの位置合わせマークを撮像し、その位
置情報を確認算出手段に送る。確認算出手段に
は、露光部の撮像手段から送られる画像マスクの
基準マークの位置信号が記憶されているため、ワ
ークの位置合わせマークと画像マスクの基準マー
クとを比較し、その位置ズレ量を算出し、その位
置ズレ量が零になるようにアライメントテーブル
に信号を送り、各XYθテーブルを移動させる。
そして、アライメントが終了するとワークを搬送
手段により保持して露光部に搬送する。露光部に
搬送されたワークは、下面マスクの上に載置さ
れ、上下の焼枠で挟着した状態で、露光部の撮像
手段により、ワークの位置合わせマークと画像マ
スクの基準マークの位置が撮像され、その位置情
報を確認算出手段に送る。確認算出手段は、送ら
れてきた各マークの位置が合致しているかどうか
を判断し、位置ズレが有る場合は、ワークのアラ
イメントを再び行うことになる。
露光位置でワークの位置合わせマークと画像マ
スクの基準マークが合致していると、露光が行わ
れる。
スクの基準マークが合致していると、露光が行わ
れる。
また、露光部の載置位置のワークを必要に応じ
て前のワーク露光位置における位置ズレ量を基に
位置合せ修正できるようにすることにより、ワー
クと画像マスク(以下マスクと略記する)の位置
合わせを露光位置以外で行うことが可能となる。
て前のワーク露光位置における位置ズレ量を基に
位置合せ修正できるようにすることにより、ワー
クと画像マスク(以下マスクと略記する)の位置
合わせを露光位置以外で行うことが可能となる。
以下、本発明の一実施例を図面に基づいて詳細
に説明する。
に説明する。
第1図は本発明の一実施例の上面より見た装置
構成と制御系のブロツク構成を示す図であり、第
2図は第1図X−X線断面図である。まず装置の
構成を述べる。
構成と制御系のブロツク構成を示す図であり、第
2図は第1図X−X線断面図である。まず装置の
構成を述べる。
この装置は、搬入されたワーク5を載置してア
ライメントするアライメントステージ8と、アラ
イメントされたワーク5を露光する露光部として
の両面同時露光装置1と、前記アライメントステ
ージ8および両面同時露光装置1間をワークを保
持して搬送する搬送手段13とを備えている。
ライメントするアライメントステージ8と、アラ
イメントされたワーク5を露光する露光部として
の両面同時露光装置1と、前記アライメントステ
ージ8および両面同時露光装置1間をワークを保
持して搬送する搬送手段13とを備えている。
露光前のワーク5を所定位置に載置する前記ア
ライメントステージ8は、平面上で直交する2方
向(X,Y)のうちX方向に移動制御されるXテ
ーブル9と、Y方向に移動制御されるYテーブル
10と、上記平面上においてXテーブル9とYテ
ーブル10とを回動制御するθテーブル11と、
Xテーブル9に載置されるワーク5の位置合わせ
マークを読み取る画像確認手段としてのテレビカ
メラ18を備えている。
ライメントステージ8は、平面上で直交する2方
向(X,Y)のうちX方向に移動制御されるXテ
ーブル9と、Y方向に移動制御されるYテーブル
10と、上記平面上においてXテーブル9とYテ
ーブル10とを回動制御するθテーブル11と、
Xテーブル9に載置されるワーク5の位置合わせ
マークを読み取る画像確認手段としてのテレビカ
メラ18を備えている。
Xテーブル9はYテーブル10上にスライド軸
受9c等によりX方向へ摺動可能に配設されてい
る。また、Xテーブルの上面所定位置には、後述
する搬送手段13からワーク5を一定位置に載置
するための位置決めピン9dを突設させている。
そして、Yテーブル10のX方向の一方の辺部に
は、パルスモータ等によつて指定量だけX方向に
進退するXテーブル押圧手段9aが設けられ、そ
の対向の辺部にはXテーブル付勢部材9bがXテ
ーブル押圧手段9aの進却方向にXテーブルを付
勢するように配設されている。したがつて、上記
の構成によりXテーブルはX方向に往復移動して
位置決め制御される。
受9c等によりX方向へ摺動可能に配設されてい
る。また、Xテーブルの上面所定位置には、後述
する搬送手段13からワーク5を一定位置に載置
するための位置決めピン9dを突設させている。
そして、Yテーブル10のX方向の一方の辺部に
は、パルスモータ等によつて指定量だけX方向に
進退するXテーブル押圧手段9aが設けられ、そ
の対向の辺部にはXテーブル付勢部材9bがXテ
ーブル押圧手段9aの進却方向にXテーブルを付
勢するように配設されている。したがつて、上記
の構成によりXテーブルはX方向に往復移動して
位置決め制御される。
Yテーブル10はθテーブル11上にスライド
軸受10c等によりY方向へ摺動可能に配設され
ている。そして、θテーブル11のY方向の一方
の辺部には、パルスモータ等によつて指定量だけ
Y方向に進退するYテーブル押圧手段10aが設
けられ、その対向の辺部にはYテーブル付勢部材
10bがYテーブル押圧手段10aの進却方向に
Yテーブルを付勢するように配設されている。し
たがつて、上記構成によりYテーブルはY方向に
往復移動して位置決め制御されることになる。
軸受10c等によりY方向へ摺動可能に配設され
ている。そして、θテーブル11のY方向の一方
の辺部には、パルスモータ等によつて指定量だけ
Y方向に進退するYテーブル押圧手段10aが設
けられ、その対向の辺部にはYテーブル付勢部材
10bがYテーブル押圧手段10aの進却方向に
Yテーブルを付勢するように配設されている。し
たがつて、上記構成によりYテーブルはY方向に
往復移動して位置決め制御されることになる。
θテーブル11は、前記Yテーブル10を軸受
け10cを介して載置している。そして、基台1
2上のθテーブル11下方の部分には円形にV溝
12aを設けると共に、θテーブル11の下面に
も同径の円形にV溝11dが設けられて、両者が
重なり合うように配設され、その間にはボールベ
アリング11eが挿入されて、θテーブル11を
回動可能にしている。また、基台12上にはパル
スモータ等によつて指定量だけθテーブル11の
回動方向に進退するθテーブル押圧手段11aが
設けられ、このθテーブル押圧手段11aはθテ
ーブル11の縁部に固着された突起片11を進退
させる。そして、この突起片11bは基台12に
設けられたθテーブル付勢部材11cによつて押
圧手段11aの退却方向へ付勢される。上記構成
によりθテーブルは回動方向に指定角度θだけ回
動制御がなされる。なお、各テーブルの移動機構
は上記に限定するものではなく、例えばスクリユ
ー棒とナツトを使用するものなど他のものでも良
い。
け10cを介して載置している。そして、基台1
2上のθテーブル11下方の部分には円形にV溝
12aを設けると共に、θテーブル11の下面に
も同径の円形にV溝11dが設けられて、両者が
重なり合うように配設され、その間にはボールベ
アリング11eが挿入されて、θテーブル11を
回動可能にしている。また、基台12上にはパル
スモータ等によつて指定量だけθテーブル11の
回動方向に進退するθテーブル押圧手段11aが
設けられ、このθテーブル押圧手段11aはθテ
ーブル11の縁部に固着された突起片11を進退
させる。そして、この突起片11bは基台12に
設けられたθテーブル付勢部材11cによつて押
圧手段11aの退却方向へ付勢される。上記構成
によりθテーブルは回動方向に指定角度θだけ回
動制御がなされる。なお、各テーブルの移動機構
は上記に限定するものではなく、例えばスクリユ
ー棒とナツトを使用するものなど他のものでも良
い。
第1の撮像手段としてのテレビカメラ18は、
前記Xテーブル9上面下の基台12に固定されて
おり、後述する位置制御量算出手段14に接続さ
れている。また、テレビカメラの個数は限定しな
いが、顕微鏡カメラであれば2コ以上設けるのが
好適である。そして、各テーブルがそれぞれの方
向に移動しても、テレビカメラ18に当接しない
ように各テーブルの所定位置に貫通部分を形成し
ている。
前記Xテーブル9上面下の基台12に固定されて
おり、後述する位置制御量算出手段14に接続さ
れている。また、テレビカメラの個数は限定しな
いが、顕微鏡カメラであれば2コ以上設けるのが
好適である。そして、各テーブルがそれぞれの方
向に移動しても、テレビカメラ18に当接しない
ように各テーブルの所定位置に貫通部分を形成し
ている。
次に搬送手段13を説明する。搬送手段13は
ハンドラの例を示し、吸着板13aと、この吸着
板13aの適宜個数配設された真空吸着ノズル1
3bと、前記吸着板13aを保持する保持部13
cと、この保持部13cを支持するアーム13d
と、このアーム13dを保持し、ガイド部19に
沿つて移動する搬送保持部13eとを備えてい
る。そして、前記搬送保持部13eは、吸着ノズ
ル13bがワーク5を保持離脱する際に、上下動
できるように形成されており、また、前記ガイド
部19は、少なくともアライメントステージ8お
よび露光部間に沿つて形成されている。なお、ア
ライメントステージ8にワーク5を搬入する手段
および、露光済ワークを搬出する搬出手段を前記
搬送手段13が兼用しても構わない。その場合ガ
イド部は搬入部、アライメントステージ、露光部
および搬出に渡つて形成されることになる。
ハンドラの例を示し、吸着板13aと、この吸着
板13aの適宜個数配設された真空吸着ノズル1
3bと、前記吸着板13aを保持する保持部13
cと、この保持部13cを支持するアーム13d
と、このアーム13dを保持し、ガイド部19に
沿つて移動する搬送保持部13eとを備えてい
る。そして、前記搬送保持部13eは、吸着ノズ
ル13bがワーク5を保持離脱する際に、上下動
できるように形成されており、また、前記ガイド
部19は、少なくともアライメントステージ8お
よび露光部間に沿つて形成されている。なお、ア
ライメントステージ8にワーク5を搬入する手段
および、露光済ワークを搬出する搬出手段を前記
搬送手段13が兼用しても構わない。その場合ガ
イド部は搬入部、アライメントステージ、露光部
および搬出に渡つて形成されることになる。
そのため、アライメントされたワーク5は、ハ
ンドラが降下して真空吸着し、持ち上げると共に
ガイド部19に沿つて露光部側まで水平移動して
搬送される。そして、露光部側に到達したハンド
ラは降下し、下焼枠2bの下面マスク4の位置に
ワーク5を載置する。このとき後述する上焼枠2
aは、上方へ退避しており、搬送手段13が下降
してワーク5を露光位置へ離し再び上昇して焼枠
外へ移動した後、露光のために下降する。
ンドラが降下して真空吸着し、持ち上げると共に
ガイド部19に沿つて露光部側まで水平移動して
搬送される。そして、露光部側に到達したハンド
ラは降下し、下焼枠2bの下面マスク4の位置に
ワーク5を載置する。このとき後述する上焼枠2
aは、上方へ退避しており、搬送手段13が下降
してワーク5を露光位置へ離し再び上昇して焼枠
外へ移動した後、露光のために下降する。
ワーク5の搬入手段は、他のコンベアやロボツ
ト、ハンドラ等の搬送手段によつても良い。なお
搬送手段13は上記に限定するものではなく、ロ
ボツト、コンベアなどワークの種類に応じて適切
なものが使用できる。
ト、ハンドラ等の搬送手段によつても良い。なお
搬送手段13は上記に限定するものではなく、ロ
ボツト、コンベアなどワークの種類に応じて適切
なものが使用できる。
露光部としての両面同時露光装置1は、上面マ
スク3を保持して上下動機構6により上下動自在
に支持された上焼枠2aと、基台12の露光部側
に下面マスク4を保持して設置される下焼枠2b
と、平行光を照射するランプ、反射鏡(図示せ
ず)等と、第2の撮像手段としてのテレビカメラ
7を備えている。
スク3を保持して上下動機構6により上下動自在
に支持された上焼枠2aと、基台12の露光部側
に下面マスク4を保持して設置される下焼枠2b
と、平行光を照射するランプ、反射鏡(図示せ
ず)等と、第2の撮像手段としてのテレビカメラ
7を備えている。
そして、下面マスク4側には、図示しない真空
吸着手段等を有し、ワーク5を密着ないし近接し
て保持する構成としている。
吸着手段等を有し、ワーク5を密着ないし近接し
て保持する構成としている。
また、前記上下のマスク3,4の設定は、ガラ
スマスクにより、またはガラスやアクリル板等の
樹脂板にマスクフイルムを吸着保持することによ
り構成される。そして、上面マスク3と下面マス
ク4とは、ワーク5を間にして互いに密着または
近接時に夫々位置合せ用の基準マークが合致する
ようセツトされる。合致したかどうかは自動また
は手動介入により前記テレビカメラ7で定期的に
確認し狂いがあれば再セツトする。
スマスクにより、またはガラスやアクリル板等の
樹脂板にマスクフイルムを吸着保持することによ
り構成される。そして、上面マスク3と下面マス
ク4とは、ワーク5を間にして互いに密着または
近接時に夫々位置合せ用の基準マークが合致する
ようセツトされる。合致したかどうかは自動また
は手動介入により前記テレビカメラ7で定期的に
確認し狂いがあれば再セツトする。
前記テレビカメラ7は下焼枠の下方に設置され
ており、後述する位置制御量算出手段14に接続
されている。したがつて、ワーク5の位置合わせ
マークおよび上下のマスク3,4の基準マークと
の位置情報を位置制御量算出手段14に送つてい
る。また、テレビカメラ7は、ワーク5の基準マ
ークと下面マスク4の基準マークの位置ズレ量算
出のためのセンサーとしても使用される。このテ
レビカメラ7の個数は限定しないが、顕微鏡カメ
ラであれば2コ以上設けるのが好適である。
ており、後述する位置制御量算出手段14に接続
されている。したがつて、ワーク5の位置合わせ
マークおよび上下のマスク3,4の基準マークと
の位置情報を位置制御量算出手段14に送つてい
る。また、テレビカメラ7は、ワーク5の基準マ
ークと下面マスク4の基準マークの位置ズレ量算
出のためのセンサーとしても使用される。このテ
レビカメラ7の個数は限定しないが、顕微鏡カメ
ラであれば2コ以上設けるのが好適である。
次に、制御系である確認算出手段の構成を述べ
る。制御系は前記アライメントステージに設けら
れたテレビカメラ7からの情報と、前記露光部に
設けられたテレビカメラからの情報とに基づいて
ワークの位置合わせマークとマスク3,4の基準
マークとの位置ズレ量を算出し、その値に基づい
て各テーブルの位置補正のための指定量、指定角
度を算出する位置制御量算出手段14と、この指
定量、指定角度に基づいて所定パルス数を各押圧
手段9a,10a,11aに与えるX駆動部1
5、Y駆動部16、θ駆動部17から構成されて
いる。
る。制御系は前記アライメントステージに設けら
れたテレビカメラ7からの情報と、前記露光部に
設けられたテレビカメラからの情報とに基づいて
ワークの位置合わせマークとマスク3,4の基準
マークとの位置ズレ量を算出し、その値に基づい
て各テーブルの位置補正のための指定量、指定角
度を算出する位置制御量算出手段14と、この指
定量、指定角度に基づいて所定パルス数を各押圧
手段9a,10a,11aに与えるX駆動部1
5、Y駆動部16、θ駆動部17から構成されて
いる。
以上の構成による実施例の作用を述べる。
最初のワーク5は仮の載置位置から搬送装置1
3等により移送搬入され、露光部の下面マスク4
の上に載置される。そして、テレビカメラ7でワ
ークの位置合わせマークおよびマスクの基準マー
クとの位置情報を位置制御量算出手段14に送
る。送られてきた位置情報を位置制御算出手段1
4は、両者の位置ズレ量を確認して指定量X,Y
と指定角度θが算出される。したがつて、その位
置ズレ量の値に基づいて次のワーク以降がアライ
メントステージで位置合わせされる。
3等により移送搬入され、露光部の下面マスク4
の上に載置される。そして、テレビカメラ7でワ
ークの位置合わせマークおよびマスクの基準マー
クとの位置情報を位置制御量算出手段14に送
る。送られてきた位置情報を位置制御算出手段1
4は、両者の位置ズレ量を確認して指定量X,Y
と指定角度θが算出される。したがつて、その位
置ズレ量の値に基づいて次のワーク以降がアライ
メントステージで位置合わせされる。
アライメントステージ8のXテーブルに載置さ
れるワークは、位置決めピン9dに沿つて搬送手
段13等により載置されるため、常にほぼ同じ位
置にセツトされることになる。
れるワークは、位置決めピン9dに沿つて搬送手
段13等により載置されるため、常にほぼ同じ位
置にセツトされることになる。
ワークを解除した搬送手段13は、上昇して待
機している。そして、前記位置制御算出手段14
からの変位信号が各駆動部15,16,17に送
られ、前記の位置ズレ量を零にするように、駆動
部15,16,17を介して各テーブル9,1
0,11が移動制御される。
機している。そして、前記位置制御算出手段14
からの変位信号が各駆動部15,16,17に送
られ、前記の位置ズレ量を零にするように、駆動
部15,16,17を介して各テーブル9,1
0,11が移動制御される。
制御結果はワークの位置合わせマークをテレビ
カメラ18によつて確認して行ない、合致しなけ
ればさらに位置補正される。
カメラ18によつて確認して行ない、合致しなけ
ればさらに位置補正される。
ワークの位置合わせが終了すると、待機してい
る搬送手段13が降下してワークを真空吸着して
上昇し、ガイド部19に沿つて両面同時露光装置
1側に搬送する。そして、搬送手段13は、下面
マスク4の上にワークを載置する。
る搬送手段13が降下してワークを真空吸着して
上昇し、ガイド部19に沿つて両面同時露光装置
1側に搬送する。そして、搬送手段13は、下面
マスク4の上にワークを載置する。
露光位置に設置されたテレビカメラ7により、
ワークの位置合わせマークの位置情報を位置制御
算出手段14に送り、適正露光位置か否かが確認
される。そして、ワーク5を間にして上下面のマ
スク3,4が近接ないしは密着した状態で上面と
下面とから平行光ないしは近似平行光が照射され
て両面露光がなされ、終了すると焼枠2a,2b
間が開いて搬送手段13により排出される。
ワークの位置合わせマークの位置情報を位置制御
算出手段14に送り、適正露光位置か否かが確認
される。そして、ワーク5を間にして上下面のマ
スク3,4が近接ないしは密着した状態で上面と
下面とから平行光ないしは近似平行光が照射され
て両面露光がなされ、終了すると焼枠2a,2b
間が開いて搬送手段13により排出される。
もし、露光位置でワークの位置ズレが位置制御
量算出手段14により確認された場合は、搬送手
段13により載置位置へ戻して次ワークの替りに
前記の位置補正を行なつても良いし、露光を行な
わず特定場所へ排出しても良い。
量算出手段14により確認された場合は、搬送手
段13により載置位置へ戻して次ワークの替りに
前記の位置補正を行なつても良いし、露光を行な
わず特定場所へ排出しても良い。
ワークの露光作業が行われている時は、次のワ
ークの位置合わせを行ようにすれば、生産能率が
向上する。
ークの位置合わせを行ようにすれば、生産能率が
向上する。
次ワーク以降においても同様に毎回上記の位置
確認補正を行なつても良いし、搬送手段13の精
度の再現性が得られれば一定露光回数毎に行なつ
て生産能率を上げることもできる。
確認補正を行なつても良いし、搬送手段13の精
度の再現性が得られれば一定露光回数毎に行なつ
て生産能率を上げることもできる。
なお本発明は上記実施例に限るものではなく、
本発明の主旨に沿つて種々の応用と実施態様を取
り得るものである。例えばテーブル8は精度が再
現性よく制御できればテレビカメラ18は省略で
き、アライメントステージもX,Y,θ量が制御
できるものであれば良く、特に精度上必要がなけ
ればX,Y,θのいずれかのテーブルは省略して
も良い。
本発明の主旨に沿つて種々の応用と実施態様を取
り得るものである。例えばテーブル8は精度が再
現性よく制御できればテレビカメラ18は省略で
き、アライメントステージもX,Y,θ量が制御
できるものであれば良く、特に精度上必要がなけ
ればX,Y,θのいずれかのテーブルは省略して
も良い。
以上述べたように本発明によれば両面同時露光
装置において、ワークと画像マスクとの位置合せ
機構を露光位置外に設けることによつて位置合せ
機構を一つとして、位置合せ機構を簡単化するこ
とができる。したがつて、装置の製造コストを抑
えることができる。そして、ワークを搬送手段に
より搬送する際に位置ズレが生じても、露光部の
撮像手段により適正位置を確認できるため、位置
ズレを有するワークの露光を防ぐことができる。
また、本発明は、露光位置外にワークの位置合せ
機構を持つため、一つのワークの露光中に次ワー
クのアライメントができ、スループツト(単位時
間当りの処理能力)を大幅に向上させることが可
能である。さらに、露光位置に撮像手段が設置し
てあるため、上下のマスクが機械的作用により位
置がズレたり、熱により膨張しても、ワークの位
置ズレを生じることなく露光することが可能とな
る。
装置において、ワークと画像マスクとの位置合せ
機構を露光位置外に設けることによつて位置合せ
機構を一つとして、位置合せ機構を簡単化するこ
とができる。したがつて、装置の製造コストを抑
えることができる。そして、ワークを搬送手段に
より搬送する際に位置ズレが生じても、露光部の
撮像手段により適正位置を確認できるため、位置
ズレを有するワークの露光を防ぐことができる。
また、本発明は、露光位置外にワークの位置合せ
機構を持つため、一つのワークの露光中に次ワー
クのアライメントができ、スループツト(単位時
間当りの処理能力)を大幅に向上させることが可
能である。さらに、露光位置に撮像手段が設置し
てあるため、上下のマスクが機械的作用により位
置がズレたり、熱により膨張しても、ワークの位
置ズレを生じることなく露光することが可能とな
る。
第1図は本発明の一実施例の上面より見た装置
構成と制御系のブロツク構成を示す図、第2図は
第1図のX−X線断面図である。 1…両面同時露光装置、2a,2b…焼枠、3
…上面マスク(画像マスク)、4…下面マスク
(画像マスク)、5…ワーク、7…テレビカメラ
(撮像手段)、8…アライメントステージ、9…X
テーブル、10…Yテーブル、11…θテーブ
ル、13…搬送手段、14…位置制御量算出手段
(確認算出手段)。
構成と制御系のブロツク構成を示す図、第2図は
第1図のX−X線断面図である。 1…両面同時露光装置、2a,2b…焼枠、3
…上面マスク(画像マスク)、4…下面マスク
(画像マスク)、5…ワーク、7…テレビカメラ
(撮像手段)、8…アライメントステージ、9…X
テーブル、10…Yテーブル、11…θテーブ
ル、13…搬送手段、14…位置制御量算出手段
(確認算出手段)。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 位置合わせマークを有するワークを保持し、
位置合わせするアライメントステージと、このア
ライメントステージで位置あわせをしたワークを
露光する露光部と、前記アライメントステージお
よび露光部間をワークを保持して搬送する搬送手
段とを備え、 前記アライメントステージは、平面上の一方向
に往復移動するXテーブルと、このXテーブルの
移動方向に直交する方向に往復移動するYテーブ
ルと、垂直軸線の回りを回動自在に移動するθテ
ーブルとを有し、 前記各XYθテーブルは、その所定位置を貫通
させ、ワークの位置合わせマークの位置を読み取
る第1の撮像手段を備え、 前記露光部には、ワークの位置合わせマークお
よび画像マスクの基準マークの位置とを読み取る
第2の撮像手段とを有し、 これら両撮像手段から送られてきたワークの位
置合わせマークおよび画像マスクの基準マークと
の位置情報に基づいてワークの位置ズレ量を算出
し、変位信号として出力する確認算出手段とを有
し、 前記確認算出手段から出力された変位信号に基
づいて前記アライメント部では、各XYθテーブ
ルを必要に応じて移動させワークのアライメント
を行い、前記露光部では、到来したワークの適正
位置を確認することを特徴とする両面露光用ワー
クアライメント装置。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP61190341A JPS6346466A (ja) | 1986-08-13 | 1986-08-13 | 両面露光用ワ−クアライメント装置 |
US07/084,872 US4764791A (en) | 1986-08-13 | 1987-08-13 | Work alignment apparatus for double-sided exposure of a work |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP61190341A JPS6346466A (ja) | 1986-08-13 | 1986-08-13 | 両面露光用ワ−クアライメント装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6346466A JPS6346466A (ja) | 1988-02-27 |
JPH0541981B2 true JPH0541981B2 (ja) | 1993-06-25 |
Family
ID=16256583
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP61190341A Granted JPS6346466A (ja) | 1986-08-13 | 1986-08-13 | 両面露光用ワ−クアライメント装置 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4764791A (ja) |
JP (1) | JPS6346466A (ja) |
Families Citing this family (20)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0766192B2 (ja) * | 1988-05-30 | 1995-07-19 | 株式会社オーク製作所 | 自動露光装置におけるワーク位置決め方法 |
CH677082A5 (ja) * | 1988-06-01 | 1991-04-15 | Bobst Sa | |
US4936655A (en) * | 1988-07-07 | 1990-06-26 | Grumman Aerospace Corporation | Alignment fixture for an optical instrument |
US4993809A (en) * | 1988-10-07 | 1991-02-19 | Grumman Aerospace Corporation | Mounting fixture for an optical instrument |
DE3936723A1 (de) * | 1989-11-04 | 1991-05-08 | Loehr & Herrmann Gmbh | Vorrichtung zum selbsttaetigen positionieren von leiterplatten |
US5083156A (en) * | 1990-03-16 | 1992-01-21 | Dai Nippon Insatsu Kabushiki Kaisha | Vacuum contact printing device and exposure apparatus and original contact device |
US5253012A (en) * | 1990-10-05 | 1993-10-12 | Canon Kabushiki Kaisha | Substrate holding apparatus for vertically holding a substrate in an exposure apparatus |
DE4105284A1 (de) * | 1991-02-20 | 1992-11-05 | Bacher Gmbh B | Verfahren und vorrichtung zur videounterstuetzten montage |
JP2769753B2 (ja) * | 1991-08-28 | 1998-06-25 | 株式会社オーク製作所 | 画像形成用露光装置 |
US5337151A (en) * | 1992-07-28 | 1994-08-09 | Optical Radiation Corporation | Double-sided circuit board exposure machine and method with optical registration and material variation compensation |
FR2703558B1 (fr) * | 1993-03-31 | 1995-06-30 | Automa Tech Sa | Installation d'exposition à la lumière d'une plaque de circuit imprimé double face à travers les clichés. |
FR2704660B1 (fr) * | 1993-04-27 | 1995-07-13 | Sgs Thomson Microelectronics | Masques pour une machine d'insolation double face. |
DE69505448T2 (de) * | 1994-03-15 | 1999-04-22 | Canon Kk | Maske und Maskenträger |
US5627378A (en) * | 1996-02-28 | 1997-05-06 | Orc Electronic Products, A Divison Of Benson Eyecare Corporation | Die set for automatic UV exposure system |
JP3322167B2 (ja) * | 1997-05-29 | 2002-09-09 | ウシオ電機株式会社 | マスク保持フレームの支持構造 |
US6215548B1 (en) | 1999-03-11 | 2001-04-10 | Olec Corporation | Nested glass exposure tool registration device |
US6356337B1 (en) * | 2000-03-08 | 2002-03-12 | Anvik Corporation | Two-sided substrate imaging using single-approach projection optics |
US6621553B2 (en) | 2001-03-30 | 2003-09-16 | Perkinelmer, Inc. | Apparatus and method for exposing substrates |
US7888664B2 (en) * | 2008-03-10 | 2011-02-15 | Eastman Kodak Company | Plate pallet alignment system |
WO2016119866A1 (en) | 2015-01-29 | 2016-08-04 | Hewlett-Packard Development Company L.P. | Generating a day/night image |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5080122A (ja) * | 1973-11-14 | 1975-06-30 |
Family Cites Families (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4389115A (en) * | 1981-08-06 | 1983-06-21 | Richter Thomas A | Optical system |
JPS60168148A (ja) * | 1984-02-13 | 1985-08-31 | Oak Seisakusho:Kk | 焼付機 |
US4614425A (en) * | 1984-04-20 | 1986-09-30 | Western Litho Plate & Supply Co. | Photographic printing method and apparatus |
JPS62212657A (ja) * | 1986-03-14 | 1987-09-18 | Oak Seisakusho:Kk | 移送式の両面露光装置 |
-
1986
- 1986-08-13 JP JP61190341A patent/JPS6346466A/ja active Granted
-
1987
- 1987-08-13 US US07/084,872 patent/US4764791A/en not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5080122A (ja) * | 1973-11-14 | 1975-06-30 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS6346466A (ja) | 1988-02-27 |
US4764791A (en) | 1988-08-16 |
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Legal Events
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---|---|---|---|
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