JPS62212657A - 移送式の両面露光装置 - Google Patents
移送式の両面露光装置Info
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- JPS62212657A JPS62212657A JP61056643A JP5664386A JPS62212657A JP S62212657 A JPS62212657 A JP S62212657A JP 61056643 A JP61056643 A JP 61056643A JP 5664386 A JP5664386 A JP 5664386A JP S62212657 A JPS62212657 A JP S62212657A
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- Japan
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- light sources
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- 238000001514 detection method Methods 0.000 abstract description 2
- 230000032258 transport Effects 0.000 description 12
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 5
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 238000000034 method Methods 0.000 description 2
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 1
- 230000002542 deteriorative effect Effects 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/20—Exposure; Apparatus therefor
- G03F7/2022—Multi-step exposure, e.g. hybrid; backside exposure; blanket exposure, e.g. for image reversal; edge exposure, e.g. for edge bead removal; corrective exposure
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は複数の被露光材を移送手段によって露光室へ移
送し連続的に露光する移送式の両面露光装置に関する。
送し連続的に露光する移送式の両面露光装置に関する。
露光装置には用途、目的に応じて多くの種類があり、精
密な露光焼付を行う場合には、原稿の画線を精密に再生
させなければならず、このためには解像度の優れた平行
露光光線を得ることができるように、露光用光源として
は点光源であることが望ましい。しかしながら、現実に
は完全な点光源を得ることはできず、また点光源に近い
ものを得ることはできても露光に必要とされる充分な光
量を得ることができないものとなっていた。このため、
従来は露光用光源として、充分な露光光量を得ることが
できる高圧水銀灯等の成る程度の長さを持った線光源を
使用していた。
密な露光焼付を行う場合には、原稿の画線を精密に再生
させなければならず、このためには解像度の優れた平行
露光光線を得ることができるように、露光用光源として
は点光源であることが望ましい。しかしながら、現実に
は完全な点光源を得ることはできず、また点光源に近い
ものを得ることはできても露光に必要とされる充分な光
量を得ることができないものとなっていた。このため、
従来は露光用光源として、充分な露光光量を得ることが
できる高圧水銀灯等の成る程度の長さを持った線光源を
使用していた。
上記露光用光源に線光源を採用した露光装置としては本
発明出願人が先に出願した特願昭６０−３４１６２号が
紹介されている。該特願昭６０−３４１６２号の紹介に
よって光源に線光源を用いた時に生じていた不都合な点
はかなり改善されたが、光源に点光源と調光板との組合
わせを用いた露光装置による露光焼付は、上記線光源と
調光板との組合わせによる露光焼付と比較して簡易な構
成の装置で高い解像度が得られる利点があり、不利な点
としては露光に必要な光量を得る為に露光時間が多く必
要となり、生産性が比較的低いことである。父上記露光
装置にはいずれも被露光材への照射光線量を均一にする
為に、被露光材を移送する移送手段が必要である。
発明出願人が先に出願した特願昭６０−３４１６２号が
紹介されている。該特願昭６０−３４１６２号の紹介に
よって光源に線光源を用いた時に生じていた不都合な点
はかなり改善されたが、光源に点光源と調光板との組合
わせを用いた露光装置による露光焼付は、上記線光源と
調光板との組合わせによる露光焼付と比較して簡易な構
成の装置で高い解像度が得られる利点があり、不利な点
としては露光に必要な光量を得る為に露光時間が多く必
要となり、生産性が比較的低いことである。父上記露光
装置にはいずれも被露光材への照射光線量を均一にする
為に、被露光材を移送する移送手段が必要である。
上記のように、点光源を使用した露光装置では、露光時
間を多く必要とする為生産性が低い欠点があった。この
欠点の解決の為に、複数の光源を備えて被露光材に１回
の移送で両面の露光を行う移送式の両面露光装置が開発
されている。しかし該移送式の両面露光装置にも解決す
べき不都合な問題点があった。
間を多く必要とする為生産性が低い欠点があった。この
欠点の解決の為に、複数の光源を備えて被露光材に１回
の移送で両面の露光を行う移送式の両面露光装置が開発
されている。しかし該移送式の両面露光装置にも解決す
べき不都合な問題点があった。
移送式の両面露光装置では通常、露光可能な照射面積の
大小によって装置の大きさが決定されるが、照射面積を
大きくしても装置を小型化して省スペースを図る為、露
光用光源は被露光材を中心に略等距離に上下に相対する
位置に設けられて連続点灯される。被露光材は露光室に
移送されて入室し、露光照射範囲を移動していくので、
該上下の光源の間に被露光材が途切れ、空白になり該光
源が点灯状態で相対する場合が生じる。夫々の光源に配
設されている反射鏡は、光学的に楕円面あるいは放物面
を成す鏡の一つの焦点に光源発光部分を置く構成であり
、この為上記のように点灯状態で光源が直接相対した場
合、平行光に偏光された光は相対する反射鏡に入射して
焦点に位置する光源の発光部分のカソードに集光する為
該カソードを焼損したり、劣化させる等の悪影響が生じ
ていた。
大小によって装置の大きさが決定されるが、照射面積を
大きくしても装置を小型化して省スペースを図る為、露
光用光源は被露光材を中心に略等距離に上下に相対する
位置に設けられて連続点灯される。被露光材は露光室に
移送されて入室し、露光照射範囲を移動していくので、
該上下の光源の間に被露光材が途切れ、空白になり該光
源が点灯状態で相対する場合が生じる。夫々の光源に配
設されている反射鏡は、光学的に楕円面あるいは放物面
を成す鏡の一つの焦点に光源発光部分を置く構成であり
、この為上記のように点灯状態で光源が直接相対した場
合、平行光に偏光された光は相対する反射鏡に入射して
焦点に位置する光源の発光部分のカソードに集光する為
該カソードを焼損したり、劣化させる等の悪影響が生じ
ていた。
本発明は移送式の両面露光装置に生じる相対する光源発
光部分の相互干渉による損傷を防止することを目的とす
る。
光部分の相互干渉による損傷を防止することを目的とす
る。
上記問題点を解決する為の手段は、光源相互の干渉を防
止する例えば遮蔽板から成る遮光手段と該遮蔽板の駆動
を制御する制御手段を備えるか、反射鏡にコールドミラ
ーを備えるか、乃至は光源の夫々の発光部分のカソード
を反射鏡の焦点から僅少距離を移動して配置した光源を
用いることである。
止する例えば遮蔽板から成る遮光手段と該遮蔽板の駆動
を制御する制御手段を備えるか、反射鏡にコールドミラ
ーを備えるか、乃至は光源の夫々の発光部分のカソード
を反射鏡の焦点から僅少距離を移動して配置した光源を
用いることである。
上記手段を用いることにより、上、下書光源の間を移送
される被露光材が空白になった時、それを検出して該光
源間に遮蔽板を駆動し、光源相互の入射干渉を遮蔽板に
よって防止することができるし、あるいは、露光に必要
な特定波長成分の光のみを反射し、他の波長の成分、特
に赤外線や可視光線等の熟成分を多く含む波長の光を透
過するコールドミラーから成る反射鏡を用いることによ
っても防止できるし、あるいは光源の発光部分のカソー
ドを反射鏡の１つの焦点位置から移動して配置した光源
を用いることにより、該光源の結ぶ焦点位置は発光部分
のカソード以外になり光源相互の照射干渉による発光部
分のカソードの損傷を防止することができる。
される被露光材が空白になった時、それを検出して該光
源間に遮蔽板を駆動し、光源相互の入射干渉を遮蔽板に
よって防止することができるし、あるいは、露光に必要
な特定波長成分の光のみを反射し、他の波長の成分、特
に赤外線や可視光線等の熟成分を多く含む波長の光を透
過するコールドミラーから成る反射鏡を用いることによ
っても防止できるし、あるいは光源の発光部分のカソー
ドを反射鏡の１つの焦点位置から移動して配置した光源
を用いることにより、該光源の結ぶ焦点位置は発光部分
のカソード以外になり光源相互の照射干渉による発光部
分のカソードの損傷を防止することができる。
以下本発明を実施例にもとづき図面を参照して詳細に説
明する。
明する。
第１図は該両面露光装置の要部の側面断面図であり第２
図、第３図、第４図は装置の要部の正面断面図である０
点光源ｌは１ａのアノードと１ｂのカソードとの間で放
電を生じることにより発光する。２は該光を反射する楕
円面乃至放物線面を形成した反射鏡で、点光源ｌと反射
鏡２はランプハウス３に収容されている。４は被露光材
への照射を平行光のみに限定するために設ける調光板で
あり、５は移送手段を示し、６は被露光材を示している
。
図、第３図、第４図は装置の要部の正面断面図である０
点光源ｌは１ａのアノードと１ｂのカソードとの間で放
電を生じることにより発光する。２は該光を反射する楕
円面乃至放物線面を形成した反射鏡で、点光源ｌと反射
鏡２はランプハウス３に収容されている。４は被露光材
への照射を平行光のみに限定するために設ける調光板で
あり、５は移送手段を示し、６は被露光材を示している
。
第２図は実施例の１つについて示したもので、上、下書
光源１，１の間を独立した２系統の移送手段５．５によ
って被露光材６が移送されて連続露光が行われている時
、被露光材６に移送間隔が空いて該上、下光源１．１が
直接相対した時を示した図である。当該露光装置は上、
下光源１．１の照射範囲の重複を大きさの許すかぎり小
さくして相対する光源の干渉を少な（抑える為に反射鏡
２．２の半径長だけ光源１．１を移動して配置しである
。移送手段５，５０組付は用露光台に取付けられて移送
された被露光材６ば、制御手段のセンサ９ａ、９ｂによ
って２系統の移送手段５，５夫々に露光照射範囲の上下
重複部分に有るか無いかの監視をされており、センサ９
ａ、９ｂ間に被露光材が無く空白を生じる時は、センサ
９ａ、９ｂの検知信号が９の制御手段に伝えられ、遮蔽
板７゜７に直結しているロータリーソレノイド８．８等
を駆動させて常時は照射光と平行に位置して光を透過さ
せている遮蔽板７．７を照射光と直角になる位置迄回転
して遮光を行って上、下光源１，１の直接相互照射を防
止する。
光源１，１の間を独立した２系統の移送手段５．５によ
って被露光材６が移送されて連続露光が行われている時
、被露光材６に移送間隔が空いて該上、下光源１．１が
直接相対した時を示した図である。当該露光装置は上、
下光源１．１の照射範囲の重複を大きさの許すかぎり小
さくして相対する光源の干渉を少な（抑える為に反射鏡
２．２の半径長だけ光源１．１を移動して配置しである
。移送手段５，５０組付は用露光台に取付けられて移送
された被露光材６ば、制御手段のセンサ９ａ、９ｂによ
って２系統の移送手段５，５夫々に露光照射範囲の上下
重複部分に有るか無いかの監視をされており、センサ９
ａ、９ｂ間に被露光材が無く空白を生じる時は、センサ
９ａ、９ｂの検知信号が９の制御手段に伝えられ、遮蔽
板７゜７に直結しているロータリーソレノイド８．８等
を駆動させて常時は照射光と平行に位置して光を透過さ
せている遮蔽板７．７を照射光と直角になる位置迄回転
して遮光を行って上、下光源１，１の直接相互照射を防
止する。
本実施例では遮蔽板７．７は重複する照射範囲のＡより
若干大の長さのもの２枚を上、下光源１゜１夫々の照射
口に配置して構成したが、重複する照射範囲長より大の
もの１枚で構成してもよくさらに多段で構成してもよい
。又上、下光源１，１の配置を移動して配置しているが
、移動する距離を小さくして、遮光板７，７を大きくし
てもよい。
若干大の長さのもの２枚を上、下光源１゜１夫々の照射
口に配置して構成したが、重複する照射範囲長より大の
もの１枚で構成してもよくさらに多段で構成してもよい
。又上、下光源１，１の配置を移動して配置しているが
、移動する距離を小さくして、遮光板７，７を大きくし
てもよい。
そして上、下光源の配置は完全に垂直に相対向して上記
手段を通用できることはいうまでもない。
手段を通用できることはいうまでもない。
第３図は前記実施例と異なる他の実施例について示した
もので、該露光装置の上、下光源１，１が露光点灯中直
接相対した時を示した図である。
もので、該露光装置の上、下光源１，１が露光点灯中直
接相対した時を示した図である。
第３図において前記実施例と異なる構成は、上。
下光源１，１が垂直に相対しており、反射鏡２ａ。
２ａにコールドミラーを採用したことである。以下上記
構成による本実施例の作用について説明する。相対した
光源の１，１の光はコールドミラーから成る反射鏡２ａ
、２ａによって平行光に偏光されるが、この時露光に必
要な波長成分の光以外の多くの光、特に相対する光源１
に入射して発光部分のカソード１ｂを焼損する虞れのあ
る熱成分を多く含む赤外線等の波長成分の光は、反射鏡
２ａを透過する。また１部反射されて相対する光源１に
入射する熱成分を多（含む波長の光は、相対する光源１
のコールドミラーから成る反射鏡２ａによって透過され
、該光源１の発光部分へとは至らない。
構成による本実施例の作用について説明する。相対した
光源の１，１の光はコールドミラーから成る反射鏡２ａ
、２ａによって平行光に偏光されるが、この時露光に必
要な波長成分の光以外の多くの光、特に相対する光源１
に入射して発光部分のカソード１ｂを焼損する虞れのあ
る熱成分を多く含む赤外線等の波長成分の光は、反射鏡
２ａを透過する。また１部反射されて相対する光源１に
入射する熱成分を多（含む波長の光は、相対する光源１
のコールドミラーから成る反射鏡２ａによって透過され
、該光源１の発光部分へとは至らない。
本実施例で採用したコールドミラー２ａは熱成分の波長
等を透過する機能をもっているが被露光材の材質に応じ
て、反射する有効な光成分を変えることは可能であり当
然である。
等を透過する機能をもっているが被露光材の材質に応じ
て、反射する有効な光成分を変えることは可能であり当
然である。
第４図は上記実施例と異なる他の実施例について示した
もので本実施例の構成は上、下光源ｌ。
もので本実施例の構成は上、下光源ｌ。
１が垂直に相対しており、該光源１は楕円面あるいは放
物面を成す反射鏡２の１つの焦点から僅少の距離を移動
して配置されている。即ち光源１はアノードｌａとカソ
ード１ｂから成っているが、上記反射鏡２の１つの焦点
から発光部分のカソード１ｂを僅少移動し、該焦点が発
光部分のカソード１ｂ以外に位置するよう配設している
。以下本実施例の作用について説明する。相対する光源
１゜１が露光点灯中に直接相対した時、光源１，１より
照射した光は反射鏡２，２に夫々入射し焦点に集光され
るがその焦点には発光部分のカソード１ｂは位置してい
ない為、焦点に集光した光熱でカソード１ｂが焼損する
虞れは生じない。反面平行光を必要とする露光において
は発光部分が焦点に位置していない為若干の斜光成分の
光を含む露光が行われるが、品質に悪影響を及ぼすには
至らない。
物面を成す反射鏡２の１つの焦点から僅少の距離を移動
して配置されている。即ち光源１はアノードｌａとカソ
ード１ｂから成っているが、上記反射鏡２の１つの焦点
から発光部分のカソード１ｂを僅少移動し、該焦点が発
光部分のカソード１ｂ以外に位置するよう配設している
。以下本実施例の作用について説明する。相対する光源
１゜１が露光点灯中に直接相対した時、光源１，１より
照射した光は反射鏡２，２に夫々入射し焦点に集光され
るがその焦点には発光部分のカソード１ｂは位置してい
ない為、焦点に集光した光熱でカソード１ｂが焼損する
虞れは生じない。反面平行光を必要とする露光において
は発光部分が焦点に位置していない為若干の斜光成分の
光を含む露光が行われるが、品質に悪影響を及ぼすには
至らない。
本発明は上記実施例に限定されるものではな（種々の実
施態様をとり得るものである。例えば該装置の光源１．
１は上下に相対して配置されているが、移送手段５，５
を上下ではな（左右に配設し、上、下光源１．１の光を
平面反射鏡を用いて反射させれば被露光材を左右に移送
して露光する事も可能である。文月いる光源は点光源に
限定されず他の形状のものでもよいことは当然である。
施態様をとり得るものである。例えば該装置の光源１．
１は上下に相対して配置されているが、移送手段５，５
を上下ではな（左右に配設し、上、下光源１．１の光を
平面反射鏡を用いて反射させれば被露光材を左右に移送
して露光する事も可能である。文月いる光源は点光源に
限定されず他の形状のものでもよいことは当然である。
以上述べた説明で明らかなように移送式の両面露光装置
において相対する光源相互の照射干渉によって生じる該
光源相互の損傷を防止するには、第１には該光源の間に
相互照射の生じる時だけ遮光する遮蔽板を用いる本発明
の手段で防止できる。
において相対する光源相互の照射干渉によって生じる該
光源相互の損傷を防止するには、第１には該光源の間に
相互照射の生じる時だけ遮光する遮蔽板を用いる本発明
の手段で防止できる。
第２には該光源に配置された反射鏡をコールドミラーで
構成する本発明の手段で防止できる。第３には該光源の
発光部分のカソードを反射鏡の焦点位置から露光精度に
及ぼす影響の小さい僅少の距離だけ移動して配置する本
発明の手段で防止できる。
構成する本発明の手段で防止できる。第３には該光源の
発光部分のカソードを反射鏡の焦点位置から露光精度に
及ぼす影響の小さい僅少の距離だけ移動して配置する本
発明の手段で防止できる。
本発明による光源相互照射による光源の損傷の防止手段
により、移送式の両面露光装置の生産性の向上が図られ
、又該装置の小型・省スペースが実現して、該装置の信
頼性が高められる効果を生じる。
により、移送式の両面露光装置の生産性の向上が図られ
、又該装置の小型・省スペースが実現して、該装置の信
頼性が高められる効果を生じる。
第１図は該移送式の両面露光装置の要部の側面断面図で
あり、第２図は遮蔽板を用いた該装置の要部の正面断面
図であり、第３図はコールドミラーを用いた該装置の要
部の正面断面図であり、第４図は発光部分を移設した光
源を用いた該装置の要部の正面断面図を示している。 ■・・・光源 １ａ・・・アノードｌｂ・
・・カソード ２・・・反射鏡２ａ・・・コー
ルドミラー ３・・・ランプハウス６・・・被露光材
７・・・遮蔽板８・・・駆動ソレノイド
９・・・制御手段９ａ、９ｂ・・・センサ 特許出願人 株式会社オーク製作所 第３図 第４図
あり、第２図は遮蔽板を用いた該装置の要部の正面断面
図であり、第３図はコールドミラーを用いた該装置の要
部の正面断面図であり、第４図は発光部分を移設した光
源を用いた該装置の要部の正面断面図を示している。 ■・・・光源 １ａ・・・アノードｌｂ・
・・カソード ２・・・反射鏡２ａ・・・コー
ルドミラー ３・・・ランプハウス６・・・被露光材
７・・・遮蔽板８・・・駆動ソレノイド
９・・・制御手段９ａ、９ｂ・・・センサ 特許出願人 株式会社オーク製作所 第３図 第４図
Claims (3)
- （１）相対する光源を備え、この中間に被露光材を移動
する移送手段を備えた移送式の露光装置において、該光
源の光を透過または遮光する遮光手段と上記被露光材に
露光する時は透過し、被露光材がない時は遮光する制御
手段とを備えたことを特徴とする移送式の両面露光装置
。 - （２）相対する光源を備え、この中間に被露光材を移動
する移送手段を備えた移送式の露光装置において、コー
ルドミラーから成る反射鏡を備えたことを特徴とする移
送式の両面露光装置。 - （３）相対する光源を備え、この中間に被露光材を移動
する移送手段を備えた移送式の露光装置において、該光
源の夫々の発光部分のカソードを反射鏡の焦点から僅少
距離を移動して配置した光源を備えたことを特徴とする
移送式の両面露光装置。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61056643A JPS62212657A (ja) | 1986-03-14 | 1986-03-14 | 移送式の両面露光装置 |
| US06/870,357 US4721980A (en) | 1986-03-14 | 1986-06-04 | Transfer type each-side exposure apparatus |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61056643A JPS62212657A (ja) | 1986-03-14 | 1986-03-14 | 移送式の両面露光装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62212657A true JPS62212657A (ja) | 1987-09-18 |
Family
ID=13033021
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP61056643A Pending JPS62212657A (ja) | 1986-03-14 | 1986-03-14 | 移送式の両面露光装置 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4721980A (ja) |
| JP (1) | JPS62212657A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2001194801A (ja) * | 2000-01-14 | 2001-07-19 | Toshiba Corp | 露光装置 |
Families Citing this family (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6346466A (ja) * | 1986-08-13 | 1988-02-27 | Oak Seisakusho:Kk | 両面露光用ワ−クアライメント装置 |
| US5083156A (en) * | 1990-03-16 | 1992-01-21 | Dai Nippon Insatsu Kabushiki Kaisha | Vacuum contact printing device and exposure apparatus and original contact device |
| US5063404A (en) * | 1990-12-03 | 1991-11-05 | Xerox Corporation | Document illumination assembly adapted to reduce platen overheating |
| JP2769748B2 (ja) * | 1991-05-13 | 1998-06-25 | 株式会社オーク製作所 | 画像形成用露光装置 |
| US5272502A (en) * | 1991-07-31 | 1993-12-21 | Minoru Saiki | Double-surface concurrent exposure device |
| JP2769753B2 (ja) * | 1991-08-28 | 1998-06-25 | 株式会社オーク製作所 | 画像形成用露光装置 |
| US5627378A (en) * | 1996-02-28 | 1997-05-06 | Orc Electronic Products, A Divison Of Benson Eyecare Corporation | Die set for automatic UV exposure system |
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