JPH0469939B2 - - Google Patents

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JPH0469939B2
JPH0469939B2 JP61055708A JP5570886A JPH0469939B2 JP H0469939 B2 JPH0469939 B2 JP H0469939B2 JP 61055708 A JP61055708 A JP 61055708A JP 5570886 A JP5570886 A JP 5570886A JP H0469939 B2 JPH0469939 B2 JP H0469939B2
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circuit board
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mask
displacement
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Naoshi Kozu
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OKU SEISAKUSHO CO Ltd
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OKU SEISAKUSHO CO Ltd
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    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/20Exposure; Apparatus therefor

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  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
  • Manufacturing Of Printed Circuit Boards (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 「産業上の利用分野」 本発明は、プリント基板の焼付け方法に関する
ものであつて、さらに詳言すれば、プリント基板
の両面に対する焼付けを同時に行うと共に、両面
に対するマスクフイルムの位置合せを自動的に達
成できるようにしたものである。
「従来の技術」 プリント基板に対する所定のパターンの焼付け
は、プリント基板にマスクフイルムを近接配置
し、平行光をマスクフイルムを透過してプリント
基板に照射することによつて達成している。
この場合の従来の焼付け手段は、プリント基板
の一方片面にマスクフイルムを自動的に位置合せ
して配置するものであり、一方片面の焼付け後に
裏返して他方片面の焼付けを行う。
周知のように、プリント基板の両面に対するマ
スクフイルムの位置合せは極めて微妙な作業を必
要とし、高度の精密性が要求される。
しかしながら、上記した手段では、一方片面の
自動的な位置合せに際して機械的なズレによる誤
差が生じた場合、他方片面の位置合せに際しても
同様の誤差が生じ、結果的に二倍の誤差となつて
しまう。
「発明が解決しようとする問題点」 この点よりして、プリント基板の両面に対する
一対のマスクフイルムの位置合せを同時に行い、
かつ両面を同時に露光焼付けする手段も考えられ
るが、この一対のマスクフイルムの位置合せを自
動的に達成する手段は開発されていないために、
この位置合せに極めて多くの労力を払わざるを得
ない。
上記した一方片面のための自動的な位置合せ装
置を、そのまま両面に利用することは不可能であ
り、プリント基板の両面に対する一対のマスクフ
イルムの位置合せを自動的に同時に行える手段が
開発されれば、プリント基板の露光過程の生産性
の向上が見込まれ、処理現場の環境保全スペース
を小さくすることができ、生産原価の低減が期待
できよう。
本発明は、上述した従来の欠点、不都合を解消
し、要請に鑑みて発明されたプリント基板の焼付
方法であつて、プリント基板の両面に対する一対
のマスクフイルムの位置合せを自動的に同時に行
えるようにすることを目的とする。
「問題点を解決するための手段および作用」 以下、本発明を、本発明の一実施例を示す図面
を参照しながら説明する。
本発明は、水平姿勢のプリント基板14の上下
に水平姿勢となつた一対のマスクフイルム22を
配置し、露光光源5によつて前記したマスクフイ
ルム22のパターンをプリント基板14の両面に
焼付けるプリント基板の焼付け方法であつて、こ
こにおける装置は、基板支持枠15と、支持体2
4と、光学装置35と、制禦値設定装置42と、
変位装置29とから構成されている。
対向配置される一対の支持体24は、それぞれ
マスクフイルム22を水平姿勢を維持して保持
し、この一対の支持体24の間に、プリント基板
14を保持する基板支持体15が、水平姿勢での
移動が自在に配置される。
支持体24は、マスクフイルム22を保持し、
かつその水平姿勢を維持したまま所定方向に変位
させることができる。
ここでの所定方法とは、X方向がマスクフイル
ム22の水平一方向、Y方向がこのX方向に直交
する水平方向、θ方向がマスクフイルム22の中
心を軸とする回転方向であり、所定の信号指令を
受けて変位する。
次に光学装置35は、複数組のテレビカメラ3
6により構成され、マスクフイルム22、或いは
プリント基板14の一部に設けられた位置合せ用
の基準マークを撮影するものである。
光学装置35による撮像信号は、制禦値設定装
置42に送られ、ここでは、この撮像信号に従つ
て前記した基準マーク同志のズレを算出すると共
に、このズレを零とする前記のX方向、Y方向、
θ回転方向への変位量を演算し、さらにこの演算
した変位信号を出力する。
そして、この制禦値設定装置42の変位信号を
受けて、前記した支持体24に装着された変位装
置29を作動させ、支持体24をX方向、Y方向
に移動させ、或いは、θ方向に回動させるのであ
る。
上述した構成にあつて、先ず、前記した上下一
対のマスクフイルム22を近接させた姿勢で、光
学装置35におけるそれぞれのテレビカメラ36
を所定位置に配し、上下の各マスクフイルム22
の一部に設けられた位置合せ用の基準マークにを
同時に撮影する(第2図a参照)。
複数の光学装置35は、それぞれ上下の各マス
クフイルム22の各基準マークを撮影するが、マ
スクフイルム22の伸び変形等によつて各基準マ
ークの重なりにズレが生じているので、このズレ
を最小限に止めるように、光学装置35による撮
像信号を制禦値設定装置42に送り、基準マーク
同志のズレを算出し、このズレを零とする前記所
定方向への変位量を演算し、この制禦値設定装置
42の変位信号を受けて、支持体24を変位装置
29を介して移動させ、或いは、回動させるので
ある。
このようにして、上下のマスクフイルム22を
位置せした後、両マスクフイルム22を離反さ
せ、その間にプリント基板14を保持する基板支
持枠15を、相互に平行水平姿勢を維持した状態
で配置し(第2図b参照)、前記と同時に、光学
装置35、制禦値設定装置42、変位装置29を
介して一方のマスクフイルム22をプリント基板
14に位置合せする(第2図c参照)。
そして、このプリント基板14に対する一方の
マスクフイルム22の位置合せに際し、同時に、
他方のマスクフイルム22を一方のマスクフイル
ム22の移動に同期させて変位させて位置合せす
る。
つまり、一方のマスクフイルム22を保持する
支持体24におけるX方向、Y方向、θ方向に変
位させる際に、同時に同期して他方のマスクフイ
ルム22を保持する支持体24も変位させるので
ある。
上下のマスクフイルム22は、前述したように
予め位置合せが達成されており(第2図a)、従
つて一方のマスクフイルム22をプリント基板1
4に位置合せする際に同時に他方のマスクフイル
ム22を変位させれば、上下のマスクフイルム2
2とプリント基板14との三者の位置合せが同時
に、しかも正確かつ簡単に達成されることにな
り、この位置合せがなされた後に、各マスクフイ
ルム22のパターンをプリント基板14の両面に
露光光源5によつて焼付ければ良いことになる
(第2図d参照)。
「実施例」 図示実施例にあつて、本発明のプリント基板1
4の焼付け装置は、露光機本体1と作業台2とか
ら構成されるハウジング内に設置される。
露光機本体1は、ランプハウス3と露光室4と
に分割され、この露光室に連続して前記作業台2
が突設される(第3図参照)。
ランプハウス3内には、シヨートアーク水銀ラ
ンプである一対の露光光源5が配置され、この露
光光源5の光は、それぞれの反射境6、ミラー
7、光のコリメーシヨンを最良にするためのフラ
イアイレンズ8を介して前記露光室4内に送ら
れ、さらに露光室4内では、放物面鏡9によつて
平行光となつて、上部用マスクフイルム22aま
たは下部用マスクフイルム22bを透過し、プリ
ント基板14に照射される。
露光室4内には、ベース枠体10が設置され、
前記した基板支持枠15、上下の支持体24、光
学装置35、変位装置29等が組み込まれる。
すなわち、ベース枠体10上には、プリント基
板14用の四本の第一の支柱11、マスクフイル
ム22用の四本の第二の支柱12、光学装置35
用の四本の第三の支柱13が、それぞれ別個に一
定の間隔を保つて所定位置に立設されるている
(第4図参照)。
プリント基板14は、両面にフオトレジスト膜
を塗布し、或いは、ドライフイルムをラミネート
したものであつて、基板支持体15によつて保持
されるが、この基板支持枠15は、露光室4内で
は基板ガイド枠16に組付けられる。
そして、この基板ガイド枠16は、前記した第
一の支柱11に組付けられ、基板ガイド枠16の
一部に装着された第一のエアシリンダ17によつ
て、基板支持枠15をプリント基板14と共に、
その水平姿勢を保持しながら、昇降変位させるの
である(第1図、第6図参照)。
ところで、前記した作業台2内には、待機用基
板ガイド枠18が装備されて、この部分でプリン
ト基板14を基板支持枠15に組付け、さらにこ
の基板支持枠15を待機用基板ガイド枠18に組
付ける。
しかる後、露光室4内の基板ガイド枠16と作
業台2の待機用基板ガイド枠18とを位置合せ
し、プリント基板14を保持した基板支持枠15
を待機用基板ガイド枠18から基板ガイド枠16
に送り込むのである。
この送り込み手段は、図示実施例では、基板支
持枠15に固定されたチエーン19、及びチエー
ン車20、基板移動用モータ21を介して達成す
る。勿論、焼付けが終了したならば、基板ガイド
枠16から待機用基板ガイド枠18に逆送するこ
とになる。
次に支持体24は、ベース枠25、X方向枠2
6、Y方向枠27、θ方向枠28を順次下方から
積み重ねて構成されており、ベース枠25に対し
てX方向枠26はX方向、Y方向枠27はY方向
に移動自在であり、θ方向枠28はθ回転方向に
回動自在であつて、そのそれぞれは、前記した変
位装置29によつて変位方向が制禦される。
図示実施例では、変位装置29として、それぞ
れにステツピングモータ、サーボモータ等のX方
向枠用モータ30、Y方向枠用モータ31、θ方
向枠用モータ32が取付けられ、ギア装置34を
介して変位するものである(第4図、第5図、第
6図、第7図参照)。
支持体24は、上部支持体24aと下部支持体
24bとから成り、前記した四本の第二の支柱1
2に組付けられる。
上部支持体24aにあつてのベース枠25は、
第二の支柱12の上端部に水平姿勢を維持して固
定されており、下部支持体24bのベース枠25
は、第二の支柱12に昇降変位自在に組付けら
れ、その一部に装着された第二のエアリンダ33
によつて、下部用マスクフイルム22bを、その
水平姿勢を保持しながら、昇降させるのである
(第1図、第6図参照)。
また、マスクフイルム22はフイルム保持枠2
3に保持されており、このフイルム保持枠23が
支持体24に組付けられる。
次に光学装置35は、四組配置されていて、そ
れぞれが前記した四本の第三の支柱13の支持ア
ーム38を介して装着され、最上位の支持アーム
38の先端にはテレビカメラ36、以下の二本の
支持アーム38の先端には、テレビカメラ36の
光軸線上に発光体37が配備され、第三の支柱1
3に基端が装着された支持アーム38は、所定の
操作モータ39を介して回動し或いは昇降変位動
する。
従つて、テレビカメラ36と発光体37との間
に位置するプリント基板14、或いはマスクフイ
ルム22の一部に設けられた位置合せ用基準マー
クを透過する発光体37の光を、テレビカメラ3
6によつて同時に撮影する。
テレビカメラ36と発光体37とは、不使用の
際には、支持アーム38を回動させて、支持体2
4の昇降動時、露光時に邪魔とならないようにす
る。
そして、露光光源5は、上部用マスクフイルム
22aと下部用マスクフイルム22bとの後方に
それぞれ位置して、マスクフイルム22を透過し
かつプリント基板14に平行照射することによ
り、マスクフイルム22の所定パターンをプリン
ト基板14に焼付けるのである。
上部用マスクフイルム22aと下部用マスクフ
イルム22bとの位置合せ、或いは上部用マスク
フイルム22aとプリント基板14との位置合せ
の具体的な手段としては、それぞれ4つの基準マ
ークの重心位置を光学装置35、制禦値設定装置
42により求めて、その重心位置の差を算出し、
これが一致するようにX方向とY方向とに移動さ
せ、さらに4つの基準マークを結ぶ2組の対角線
の等分線が、上下のマスクフイルム22或いはプ
リント基板14について一致するように、θ方向
に回動させるのである。
この修正値が制禦値設定装置42内で画像処理
プログラムにより算出され、パルス信号として変
位装置29に送られる。
なお、前記した基板ガイド板16を昇降変位さ
せる第一のエアシリンダ17、下部支持体24b
を昇降変位させる第二のエアシリンダ33は、電
磁弁40によつて作動し、この電磁弁40の作動
は、マイクロコンピユータ41の指令による。
マイクロコンピユータ41は、この電磁弁40
の制禦の他、露光光源5、光学装置35、制禦値
設定装置42、基板移動用モータ21等の制禦を
達成し、制禦値設定装置42は光学装置35と接
続している他、信号処理装置43とも接続してお
り、この信号処理装置43は、上部支持体24a
をプリント基板14に対して位置合せし、かつ下
部支持体24bを同期変位させる際に機能するも
のである。
制禦値制定装置42は、デイスプレー44、キ
イボード45とも接続しており、光学装置35の
画像処理を可能にしている。
「発明の効果」 以上の説明から明らかなように、本発明のプリ
ント基板の焼付け方法によれば、プリント基板の
両面に対する一対のマスクフイルムの位置合せを
自動的に、かつ正確に同時に行うことができ、プ
リント基板の露光過程の生産性の向上が見込ま
れ、処理現場の環境保全スペースを小さくするこ
とができて、生産原価の低減が達成されて経済的
であり、プリント基板とマスクフイルムとが接触
しないので両者が傷突くこともなく、マスクフイ
ルムの使用寿命が延び、製品の歩止まりが向上す
る等、多くの優れた作用効果を奏する。
【図面の簡単な説明】
第1図は、本発明におけるプリント基板の焼付
け方法の装置の機能ブロツク図である。第2図
は、操作手順と作用を示す断面図である。第3図
は、本発明の一実施例を示す正面図である。第4
図は、第3図における−線断面平面図であ
る。第5図は、第3図におけるV−V線断面平面
図である。第6図は、第3図における−線断
面平面図である。第7図は、第3図における−
線断面平面図である。 符号の説明、5;露光光源、14;プリント基
板、15;基板支持枠、22;マスクフイルム、
24;支持体、29;変位装置、35;光学装
置、36;テレビカメラ、42;制禦値設定装
置、43;信号処理装置。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 水平姿勢のプリント基板の上下に水平姿勢と
    なつた一対のマスクフイルムを配置し、露光光源
    によつて前記マスクフイルムのパターンを前記プ
    リント基板の両面に焼付けるプリント基板の焼付
    け方法であつて、 前記プリント基板を保持して水平移動自在に配
    置される基板支持枠と、前記マスクフイルムを、
    水平姿勢を維持したまま、X方向、該X方向に直
    交するY方向にそれぞれ移動自在に保持すると共
    に、前記マスクフイルムの幾何学的中心を軸とす
    るθ回転方向に回動自在に保持する支持体と、前
    記プリント基板、マスクフイルムの一部に設けら
    れた位置合せ用の基準マークを撮影するテレビカ
    メラを複数組装備した光学装置と、該光学装置か
    らの撮像信号に従つて前記基準マーク同志のズレ
    を算出すると共に、このズレを零とする前記X方
    向、Y方向、θ回転方向への変位量を演算し、こ
    の演算した変位信号を出力する制禦値設定装置
    と、該制禦値設定装置からの変位信号に従つて前
    記支持体を変位させる変位装置とを設け、 前記上下のマスクフイルムを近接させた姿勢
    で、前記制禦値設定装置の光学的処理により、一
    方のマスクフイルムを前記変位装置を介して、X
    方向、Y方向、θ回転方向にそれぞれ移動、回動
    させて他方のマスクフイルムに位置合せした後、
    前記両マスクフイルムを離反させ、該両マスクフ
    イルムの間に前記基板支持枠を配置し、該基板支
    持枠のプリント基板に前記一方のマスクフイルム
    を、前記制禦値設定装置、および前記変位装置を
    介して前記X方向、Y方向、θ回転方向にそれぞ
    れ移動、回動させて位置合せすると同時に、他方
    のマスクフイルムを一方のマスクフイルムに同期
    させて移動させて位置合せし、しかる後、前記両
    マスクフイルムのパターンを前記プリント基板の
    両面に焼付けるプリント基板の焼付け方法。
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Families Citing this family (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0778630B2 (ja) * 1986-07-15 1995-08-23 サンエ−技研株式会社 露光装置
US5288729A (en) * 1989-10-07 1994-02-22 Kabushiki Kaisha Toshiba Exposing method and apparatus
JP3034273B2 (ja) * 1989-10-07 2000-04-17 株式会社東芝 露光方法及び露光装置
FR2703558B1 (fr) * 1993-03-31 1995-06-30 Automa Tech Sa Installation d'exposition à la lumière d'une plaque de circuit imprimé double face à travers les clichés.
US6215548B1 (en) 1999-03-11 2001-04-10 Olec Corporation Nested glass exposure tool registration device
CN100454141C (zh) * 2002-08-27 2009-01-21 奥博杜卡特股份公司 用于将图案转印到物体的设备
JP2005197441A (ja) * 2004-01-07 2005-07-21 Dainippon Kaken:Kk 露光装置および露光方法
CN102938974A (zh) * 2012-11-23 2013-02-20 大连运明自动化技术有限公司 不良品取出机模块的主体装置
CN110196533B (zh) * 2019-04-12 2021-07-16 深圳市大族数控科技股份有限公司 一种对位曝光装置

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5080122A (ja) * 1973-11-14 1975-06-30
JPS53143877A (en) * 1977-05-21 1978-12-14 Mitsubishi Electric Corp Automatic positioning device of pattern

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5080122A (ja) * 1973-11-14 1975-06-30
JPS53143877A (en) * 1977-05-21 1978-12-14 Mitsubishi Electric Corp Automatic positioning device of pattern

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JPS62211657A (ja) 1987-09-17

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