JP2006269952A - 近接露光装置 - Google Patents
近接露光装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2006269952A JP2006269952A JP2005089086A JP2005089086A JP2006269952A JP 2006269952 A JP2006269952 A JP 2006269952A JP 2005089086 A JP2005089086 A JP 2005089086A JP 2005089086 A JP2005089086 A JP 2005089086A JP 2006269952 A JP2006269952 A JP 2006269952A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- substrate
- mask
- alignment
- alignment mark
- stage
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Images
Landscapes
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
Abstract
【解決手段】 プリアライメント装置50から基板ステージ2に搬送されて該基板ステージ2上に保持された基板Wについて、該基板Wに一層目の露光で焼き付けられたアライメントマーク40のアライメントカメラ30の視野中心からのずれ量を求め、該ずれ量に基づいてプリアライメント装置50側で次回の基板Wの位置を補正する。
【選択図】 図2
Description
ここで、各色のパターンを露光する工程においては、既に形成されているパターンと、これから露光するパターンとの位置合わせを精密に行う必要がある。
基板をプリアライメント装置から露光装置の基板ステージ上に搬送する搬送装置は、例えば、基板を吸着・保持するアームを備え、該アームをX、Y、Zの3軸方向位置決め及び垂直軸(Z軸)周りの旋回位置決めを行えるものである。
近接露光装置では、プリアライメント装置側でプリアライメントがなされた基板を基板ステージ上に搬送して露光位置に保持し、次に、制御装置が基板ステージの上下動を行う装置及びギャップセンサを用い、基板上方に対向配置されたマスクの下面と基板の上面とのすき間量が予め定められた目標値となるよう基板ステージを上下動させる所謂ギャップ制御を行う。
なお、露光後、ステップ式の露光装置の場合は、基板ステージを下方に微動させてマスクの下面と基板の上面とのすき間量を一定量拡大し、この状態で、基板ステージをマスクに対して1ステップ量だけ送る、所謂ステップ送りを行い、ギャップ調整、アライメント調整、露光転写を行う。複数段のステップ露光の場合は、以降同様の工程を繰り返す。
本発明はこのような不都合を解消するためになされたものであり、それぞれに設けられたアライメントマークを使用する基板とマスクとのアライメント精度の向上を図ることができる近接露光装置を提供することを目的とする。
前記基板ステージに保持された前記基板側のアライメントマークの前記撮像手段の視野中心からのずれ量を求め、該ずれ量に基づいて前記プリアライメント装置側で次回の基板の位置を補正することを特徴とする。
また、次回の基板を基板ステージ上に搬送した際に該基板のアライメントマークを撮像手段の視野の略中心に位置させることができことから、前記視野平面内で上下左右均等にアライメント可能範囲を得ることができる。
図1は本発明の実施の形態の一例である近接露光装置を説明するための一部を破断した説明図、図2は近接露光装置とプリアライメント装置の平面配置図、図3は図1の矢印A方向から見た図、図4はカメラ視野内の基板側のアライメントマークとマスク側のアライメントマークと示す図である。
搬送装置51は、例えば、基板Wを吸着・保持するアームを備え、該アームをX,Y,Zの3軸方向位置決め及び垂直軸(Z軸)周りの旋回位置決めを行えるものである。
Y軸ステージ送り機構6と基板ステージ2の間には、基板ステージ2の単純な上下動作を行う上下粗動装置7と、基板ステージ2を上下に微動させるとともに傾きの微調整機能も備え、マスクMと基板Wとの対向面間のすき間を所定量に微調整する上下微動装置(進退移動手段)8が設置されている。上下粗動装置7は、後述の微動ステージ6bに対し、基板ステージ2を上下動させる。
そして、固定台9に取り付けられたモータ17によってボールねじのねじ軸を回転駆動させると、ナット、スライダ11及びスライド体12が一体となって案内レール10に沿って斜め方向に移動し、これにより、フランジ12aが上下微動する。このような上下微動運動は、板ばね15の弾性変形によりにより許容される。一方、このとき、フランジ12aの水平方向の変位は板ばね15によって規制される。
なお、Y軸レーザ干渉計18は、X軸方向に離間して2台設けられており、2つのY軸レーザ干渉計18によるデータに基づき、ヨーイング誤差が得られる。
Y軸レーザ干渉計18のバーミラー19はY軸送り台6aの一側でX軸方向に沿って延びており、X軸レーザ干渉計のバーミラーはY軸送り台6aの一端側でY軸方向に沿って延びている。Y軸レーザ干渉計及びX軸レーザ干渉計はそれぞれバーミラーに対向配置されて装置ベース4に支持されている。
マスクステージ1は、略長方形状の枠体からなるマスクフレーム24と、該マスクフレーム24の中央部開口にすき間を介して挿入されてX,Y,θ方向(X,Y平面内)に移動可能に支持されたマスク保持枠25とを備えており、マスクフレーム24は装置ベース4から突設された支柱4aによって基板ステージ2の上方の定位置に保持されている。
また、フランジ26の上方には、マスクMの下面と基板Wの上面との対向面間のすき間量を測定する手段としてのギャップセンサ31、及びマスクMの露光領域に設けられた四角状のアライメントマーク41(図4参照)と、基板W側に一層目の露光で焼付けられた十字状のアライメントマーク40とを撮像する手段としてのアライメントカメラ30がそれぞれ移動可能にマスクステージ1に支持されている。
これらの少なくとも3個のギャップセンサ31による測定結果に基づいて図示しない制御装置で演算処理を行うことで、マスクMの下面と基板Wの上面とのすき間量をそれぞれの箇所について求めることができ、この結果に応じて上述した3台の上下微動装置8による傾斜調整機能も兼ねた上下微動機能が制御されてマスクMと基板Wとの対向面間の平行度が確保され、かつ、すき間量を所定の値にするようになっている。
なお、図1において符号28は、マスク保持枠25に保持されたマスクM上の任意の範囲の露光光を必要に応じて遮光することで露光範囲を制限する遮光ブレードを有するマスキングアパーチャ機構である。
次に、この状態で制御装置が上下粗動装置7により基板WをマスクMに接近させ、上下微動装置8及びギャップセンサ31によってマスクMの下面と基板Wの上面とのすき間量が前記目標値となるように制御して基板ステージ2を上下微動させるギャップ制御を行う。
このようにして一枚目の基板Wの露光が終了した後、二枚目の基板Wを基板ステージ2上に搬送して露光位置に保持し、上記同様の工程で2枚目の基板Wに対してステップ露光を行う。
すなわち、プリアライメント装置50による3箇所のセンサによる検出値に基づいて定まるX方向、Y方向及びθ方向のそれぞれの調整移動量に対し、前記ずれ量に対応するX方向成分、Y方向成分及びθ方向成分を補正値として加味して前記ずれが解消するようにしているので、次回の基板Wをプリアライメント装置50から搬送装置51によって基板ステージ2上に搬送した際に、該基板Wのアライメントマーク40をアライメントカメラ30のカメラ視野の略中心に位置させることができる。
更に、基板ステージ2をマスクMに対してX軸方向とY軸方向の二軸方向にステップ移動させて各ステップ毎にパターン露光用の光を照射することにより、マスクMの複数のパターンを基板W上に露光転写するようにしているので、より小さなマスクMで大きな基板Wへの露光を可能して低コスト化及びパターン精度の高精度化を図ることができ、更には、基板W上により多彩なパターンの作成を可能にすることができる。
例えば、上記実施の形態では、ずれ量(補正値)取得は、1枚目の基板の露光時に行い、その補正値を2枚目以降のプリアライメント時に使用するようにしたが、定期的に或いは毎回補正値を取得するようにしてもよい。
また、上記実施の形態では、各ステージ送り機構の送り手段として、リニアガイドとボールねじを組合せたものを用いているが、必ずしもこれに限定する必要はなく、例えば、送り手段として、リニアモータ等を用いてもよい。
更に、上記実施の形態では、基板ステージ2をX軸及びY軸方向にステップ移動可能な構成としたが、これに代えて、マスクステージ1を照射手段と共にX軸及びY軸方向にステップ移動可能な構成としても良い。
2 基板ステージ
3 照射手段
W 基板
M マスク
25 マスク保持枠
30 アライメントカメラ(撮像手段)
40 基板側のアライメントマーク
41 マスク側のアライメントマーク
50 プリアライメント装置
Claims (1)
- プリアライメント装置から搬送された被露光材としての基板を保持する基板ステージと、露光すべきパターンを有するマスクをマスク保持枠を介して保持するマスクステージと、前記基板に一層目の露光で焼付けられたアライメントマークと前記マスク側のアライメントマークとを撮像する撮像手段と、前記基板側のアライメントマークと前記マスク側のアライメントマークとが整合するように前記マスクの位置を前記マスク保持枠を介して調整するマスク位置調整手段と、前記マスクのパターンを前記基板に露光転写すべく露光用の光を前記マスクに向けて照射する照射手段と備えた近接露光装置において、
前記基板ステージに保持された前記基板側のアライメントマークの前記撮像手段の視野中心からのずれ量を求め、該ずれ量に基づいて前記プリアライメント装置側で次回の基板の位置を補正することを特徴とする近接露光装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005089086A JP4631497B2 (ja) | 2005-03-25 | 2005-03-25 | 近接露光装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005089086A JP4631497B2 (ja) | 2005-03-25 | 2005-03-25 | 近接露光装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2006269952A true JP2006269952A (ja) | 2006-10-05 |
JP4631497B2 JP4631497B2 (ja) | 2011-02-16 |
Family
ID=37205548
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2005089086A Active JP4631497B2 (ja) | 2005-03-25 | 2005-03-25 | 近接露光装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4631497B2 (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2012047965A (ja) * | 2010-08-26 | 2012-03-08 | Nsk Technology Co Ltd | 露光システム及びその制御方法 |
JP2016100365A (ja) * | 2014-11-18 | 2016-05-30 | キヤノン株式会社 | リソグラフィ装置および物品製造方法 |
JP2017116868A (ja) * | 2015-12-25 | 2017-06-29 | キヤノン株式会社 | リソグラフィ装置、物品の製造方法、ステージ装置及び計測装置 |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS60242621A (ja) * | 1984-05-17 | 1985-12-02 | Canon Inc | 位置合わせ装置 |
JPH07221010A (ja) * | 1994-02-04 | 1995-08-18 | Canon Inc | 位置合わせ方法及びそれを用いた位置合わせ装置 |
JPH10321691A (ja) * | 1997-05-15 | 1998-12-04 | Nikon Corp | 基板搬送方法及び該方法を使用する露光装置 |
JP2000323388A (ja) * | 1999-05-11 | 2000-11-24 | Canon Inc | 位置合わせ方法及び位置合わせ装置 |
-
2005
- 2005-03-25 JP JP2005089086A patent/JP4631497B2/ja active Active
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS60242621A (ja) * | 1984-05-17 | 1985-12-02 | Canon Inc | 位置合わせ装置 |
JPH07221010A (ja) * | 1994-02-04 | 1995-08-18 | Canon Inc | 位置合わせ方法及びそれを用いた位置合わせ装置 |
JPH10321691A (ja) * | 1997-05-15 | 1998-12-04 | Nikon Corp | 基板搬送方法及び該方法を使用する露光装置 |
JP2000323388A (ja) * | 1999-05-11 | 2000-11-24 | Canon Inc | 位置合わせ方法及び位置合わせ装置 |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2012047965A (ja) * | 2010-08-26 | 2012-03-08 | Nsk Technology Co Ltd | 露光システム及びその制御方法 |
JP2016100365A (ja) * | 2014-11-18 | 2016-05-30 | キヤノン株式会社 | リソグラフィ装置および物品製造方法 |
JP2017116868A (ja) * | 2015-12-25 | 2017-06-29 | キヤノン株式会社 | リソグラフィ装置、物品の製造方法、ステージ装置及び計測装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP4631497B2 (ja) | 2011-02-16 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP3757430B2 (ja) | 基板の位置決め装置及び露光装置 | |
US20020113218A1 (en) | Method and apparatus for positioning substrate and the like | |
TWI442193B (zh) | Exposure device | |
JP4932352B2 (ja) | 露光装置及び露光方法 | |
JP2008233638A (ja) | 描画装置および描画方法 | |
JP4289961B2 (ja) | 位置決め装置 | |
JP2002365810A (ja) | 分割逐次近接露光装置 | |
JP4631497B2 (ja) | 近接露光装置 | |
JP2008065034A (ja) | 描画装置およびアライメント方法 | |
KR101243354B1 (ko) | 롤투롤 타입의 얼라인먼트 스테이지 장치 | |
JP3276477B2 (ja) | 基板処理装置 | |
JP2004146776A (ja) | フリップチップ実装装置及びフリップチップ実装方法 | |
JP2007193197A (ja) | 物品位置決め装置及び方法 | |
JP2006100590A (ja) | 近接露光装置 | |
JP4487700B2 (ja) | 近接露光装置 | |
JP2006093604A (ja) | 近接露光装置 | |
JP2008209632A (ja) | マスク装着方法及び露光装置ユニット | |
JP4487688B2 (ja) | ステップ式近接露光装置 | |
JP4960266B2 (ja) | 透明基板のエッジ位置検出方法及びエッジ位置検出装置 | |
JP2006098774A (ja) | 近接露光装置 | |
JP2015023233A (ja) | マーク検出方法及び装置、並びに露光方法及び装置 | |
JP2006210803A (ja) | ステップ式近接露光装置 | |
JP2007086684A (ja) | 露光装置 | |
JP2012002893A (ja) | プロキシミティ露光装置、及びプロキシミティ露光装置のギャップ制御方法 | |
JPH10177942A (ja) | 露光装置および露光装置における感光基板の受け渡し方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20080305 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20100720 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20100727 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20100924 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20101019 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20101101 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 4631497 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20131126 Year of fee payment: 3 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20131126 Year of fee payment: 3 |
|
S111 | Request for change of ownership or part of ownership |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313111 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20131126 Year of fee payment: 3 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
S111 | Request for change of ownership or part of ownership |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313113 |
|
S531 | Written request for registration of change of domicile |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531 |
|
S533 | Written request for registration of change of name |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |