JP2012047965A - 露光システム及びその制御方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】制御装置21は、前回のプリアライメント時に検出された基板ステージ16と基板Wとのズレ量E1、E2に基づいて算出した補正値をプリアライメント制御レシピR1に書き込むと共に、露光装置13における前回の基板WとマスクMとのアライメント調整時に検出された基板WとマスクMとのズレ量e1、e2に基づいて算出した補正値を露光制御レシピR2に書き込む。そして、次回のプリアライメント及び露光の際、プリアライメント制御レシピR1及び露光制御レシピR2に基づいてプリアライメント装置12及び露光装置13を制御する。
【選択図】図1
Description
(1) 基板ステージと基板との相対位置を所定の位置精度に位置決めするプリアライメント装置と、前記基板にマスクのパターンを露光転写する露光装置と、前記プリアライメント装置及び前記露光装置を制御する制御装置と、を備える露光システムであって、
前記制御装置は、前記プリアライメント装置において、前回プリアライメントしたとき検出された前記基板ステージと前記基板とのズレ量に基づいて補正値を算出して前記プリアライメント装置を制御するプリアライメント制御レシピに書き込むと共に、前記露光装置において、前回前記基板と前記マスクとのアライメント調整したとき検出された前記基板と前記マスクとのズレ量に基づいて補正値を算出して前記露光装置を制御する露光制御レシピに書き込み、
次回のプリアライメント及び露光に際して、前記プリアライメント制御レシピ及び前記露光制御レシピに基づいて前記プリアライメント装置及び前記露光装置を制御することを特徴とする露光システム。
(2) 前記露光装置は、前記基板と前記マスクとのギャップを検出可能なギャップセンサを更に備え、
前記露光装置において、前回前記基板と前記マスクとのギャップ調整を行ったときのギャップ量から補正値を算出してギャップ制御レシピに書き込み、
次回の露光に際して、前記ギャップ制御レシピに基づいて前記露光装置を制御することを特徴とする(1)の露光システム。
(3) 基板ステージと基板との相対位置を所定の位置精度に位置決めするプリアライメント装置と、前記基板にマスクのパターンを露光転写する露光装置と、前記プリアライメント装置及び前記露光装置を制御する制御装置と、を備える露光システムの制御方法であって、
前記プリアライメント装置において、前回プリアライメントしたとき検出された前記基板ステージと前記基板とのズレ量に基づいて補正値を算出して前記プリアライメント装置を制御するプリアライメント制御レシピに書き込むと共に、前記露光装置において、前回前記基板と前記マスクとのアライメント調整したとき検出された前記基板と前記マスクとのズレ量に基づいて補正値を算出して前記露光装置を制御する露光制御レシピに書き込み、
次回のプリアライメント及び露光に際して、前記プリアライメント制御レシピ及び前記露光制御レシピに基づいて前記プリアライメント装置及び前記露光装置を制御することを特徴とする露光システムの制御方法。
(4) 前記露光装置は、前記基板と前記マスクとのギャップを検出可能なギャップセンサを更に備え、
前記露光装置において、前回前記基板と前記マスクとのギャップ調整を行ったときのギャップ量から補正値を算出してギャップ制御レシピに書き込み、
次回の露光に際して、前記ギャップ制御レシピに基づいて前記露光装置を制御することを特徴とする(3)の露光システムの制御方法。
図1は本発明に係る露光システムの概略構成図、図2は基板ステージとガラス基板、及びガラス基板とマスクとのズレ量を補正する状態を示す概念図である。図1に示すように、本実施形態の露光システム10は、温度調整機構11、プリアライメント装置12、露光装置13、第1ワークローダ14、第2ワークローダ15、及び、各装置11〜13及び第1、第2ワークローダ14、15の各部を制御する制御装置21と、を備えている。
12 プリアライメント装置
13 露光装置
16 基板ステージ
21 制御装置
E1、E2 基板ステージと基板とのズレ量
e1、e2 基板とマスクとのズレ量
M マスク
R1 プリアライメント制御レシピ
R2 露光制御レシピ
W ガラス基板(基板)
Claims (4)
- 基板ステージと基板との相対位置を所定の位置精度に位置決めするプリアライメント装置と、前記基板にマスクのパターンを露光転写する露光装置と、前記プリアライメント装置及び前記露光装置を制御する制御装置と、を備える露光システムであって、
前記制御装置は、前記プリアライメント装置において、前回プリアライメントしたとき検出された前記基板ステージと前記基板とのズレ量に基づいて補正値を算出して前記プリアライメント装置を制御するプリアライメント制御レシピに書き込むと共に、前記露光装置において、前回前記基板と前記マスクとのアライメント調整したとき検出された前記基板と前記マスクとのズレ量に基づいて補正値を算出して前記露光装置を制御する露光制御レシピに書き込み、
次回のプリアライメント及び露光に際して、前記プリアライメント制御レシピ及び前記露光制御レシピに基づいて前記プリアライメント装置及び前記露光装置を制御することを特徴とする露光システム。 - 前記露光装置は、前記基板と前記マスクとのギャップを検出可能なギャップセンサを更に備え、
前記露光装置において、前回前記基板と前記マスクとのギャップ調整を行ったときのギャップ量から補正値を算出してギャップ制御レシピに書き込み、
次回の露光に際して、前記ギャップ制御レシピに基づいて前記露光装置を制御することを特徴とする請求項1に記載の露光システム。 - 基板ステージと基板との相対位置を所定の位置精度に位置決めするプリアライメント装置と、前記基板にマスクのパターンを露光転写する露光装置と、前記プリアライメント装置及び前記露光装置を制御する制御装置と、を備える露光システムの制御方法であって、
前記プリアライメント装置において、前回プリアライメントしたとき検出された前記基板ステージと前記基板とのズレ量に基づいて補正値を算出して前記プリアライメント装置を制御するプリアライメント制御レシピに書き込むと共に、前記露光装置において、前回前記基板と前記マスクとのアライメント調整したとき検出された前記基板と前記マスクとのズレ量に基づいて補正値を算出して前記露光装置を制御する露光制御レシピに書き込み、
次回のプリアライメント及び露光に際して、前記プリアライメント制御レシピ及び前記露光制御レシピに基づいて前記プリアライメント装置及び前記露光装置を制御することを特徴とする露光システムの制御方法。 - 前記露光装置は、前記基板と前記マスクとのギャップを検出可能なギャップセンサを更に備え、
前記露光装置において、前回前記基板と前記マスクとのギャップ調整を行ったときのギャップ量から補正値を算出してギャップ制御レシピに書き込み、
次回の露光に際して、前記ギャップ制御レシピに基づいて前記露光装置を制御することを特徴とする請求項3に記載の露光システムの制御方法。
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