JP2010161344A - 露光装置およびデバイス製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】露光装置は、チャンバーの内部で原版のパターンを投影光学系によって基板に投影し該基板を露光する。露光装置は、前記原版の変形量を求めるための計測を行う計測部と、前記チャンバーの内部の温度における前記原版の形状を基準とする前記原版の変形量と前記原版が露光光を受ける時間との関係を示す情報と、前記チャンバーに搬入され露光に使用される前の状態において前記計測部が計測を行うことによって得られた計測値に基づいて決定される前記原版の露光前の変形量と、前記原版が露光光を受ける時間とに基づいて、前記原版の予測変形量を演算し、前記予測変形量を補正するように前記投影光学系の投影倍率を補正する制御部とを備える。
【選択図】図3
Description
一方、ステップS506で得られた物体側基準プレート13の物体側基準マーク42の計測値は、投影光学系3に起因する倍率誤差のみを含む。なお、厳密には、この倍率誤差には、物体側基準マーク42の描画誤差および像側基準マーク43の描画誤差が含まれうるが、これは固定成分であるため、予め校正することができる。
ステップS507では、制御部30は、(3)式に従って原版1の描画誤差βf[ppm]を演算し、これを記憶する。
ここで、チャンバー20に搬入された原版1の露光に使用される前の状態における変形量(以下、露光前の変形量)β0は、原版1の温度がチャンバー20の内部の温度に一致しているので、ゼロである。制御部30は、β0の値として”0”を記憶する。
一方、ステップS510の計測で得られた左基準マークのずれ量がOfsLs’[nm]であり、右基準マークのずれ量がOfsRs’[nm]であるとする。制御部30は、倍率誤差βs’[ppm]を(5)式に従って演算する。
更に、制御部30は、原版1の露光前の変形量β0[ppm]を(6)式に従って演算する。
ここで、描画誤差βfを無視可能な場合には、(6)式は、(7)式のように書き換えられうる。この場合は、制御部30は、原版1の露光前の変形量β0[ppm]を(7)式に従って演算することができる。
また、投影光学系3に起因する倍率誤差βs、βs’を無視可能な場合には、(6)式は、(8)式のように書き換えられうる。この場合は、制御部30は、原版1の露光前の変形量β0[ppm]を(8)式に従って演算することができる。
ステップS508では、制御部30は、図1に例示される曲線と、ステップS507またはS511で演算された原版1の露光前の変形量と、原版が露光光を受ける時間とに基づいて原版1の予測変形量を演算する。ここで、図1に例示される曲線は、チャンバー20の内部の温度における原版1の形状を基準とする原版の変形量と原版1が露光光を受ける時間との関係を示す情報に含まれうる。
なお、ここでは、原板の変形量を表す際の基準をチャンバー20の内部の温度における原板1の形状を基準としている。しかしながら、他の任意の温度条件(例えば、23.0℃)における原板1の形状を基準としてもよい。例えば、チャンバー20の内部の温度が局所的あるいは時間的に変動する場合において、温度条件を定数として扱った方が演算処理や温度制御処理を簡便に行うことができる。
ここで、係数a〜dは、最小自乗近似によって求めることができる。
(a)所定の温度における原版の形状を基準とする該原版の変形量と該原版に蓄積される露光エネルギーの総量と相関のあるパラメータとの関係を示す情報と、
(b)前記チャンバーに搬入され露光に使用される前の状態において前記計測部が計測を行うことによって得られた計測値に基づいて決定される前記原版の露光前の変形量と、
(c)前記パラメータと、
に基づいて、前記原版の予測変形量を演算することができる。
Claims (12)
- チャンバーの内部で原版のパターンを投影光学系によって基板に投影し該基板を露光する露光装置であって、
前記原版の変形量を求めるための計測を行う計測部と、
所定の温度における前記原版の形状を基準とする前記原版の変形量と前記原版が露光光を受ける時間との関係を示す情報と、前記チャンバーに搬入され露光に使用される前の状態において前記計測部が計測を行うことによって得られた計測値に基づいて決定される前記原版の露光前の変形量と、前記原版が露光光を受ける時間とに基づいて、前記原版の予測変形量を演算し、前記予測変形量を補正するように前記投影光学系の投影倍率を補正する制御部と、
を備えることを特徴とする露光装置。 - 前記所定の温度は、前記チャンバーの内部の温度である、
ことを特徴とする請求項1に記載の露光装置。 - 前記原版が露光光を受ける時間をt、前記チャンバーの内部の温度における前記原版の形状を基準とする前記原版の変形量をβrとしたときに、前記情報は、前記変形量βrを示す時間tの関数βr(t)を含み、
前記露光前の変形量をβr0、前記関数βr(t)の値が前記露光前の変形量βr0となるまでの時間をt0、前記予測変形量をβreとしたときに、前記制御部は、
βre=βr(t+t0)
に従って前記予測変形量を演算する、
ことを特徴とする特徴とする請求項1又は2に記載の露光装置。 - 前記計測部は、前記原版に描画されたマークの位置を計測し、
前記制御部は、前記計測部による計測値に含まれる前記マークの描画誤差を補正して前記露光前の変形量を決定する、
ことを特徴とする請求項1乃至3のいずれか1項に記載の露光装置。 - 前記描画誤差は、前記チャンバーに前記原版が搬入されてから前記原版が前記チャンバーの内部の温度になるために十分な時間が経過した後に前記計測部が計測を行うことによって決定される、
ことを特徴とする請求項4に記載の露光装置。 - 前記チャンバーに搬入された前記原版の温度を前記チャンバーの内部の温度に近づけることを促進するための温度制御部を更に備えることを特徴とする請求項5に記載の露光装置。
- 前記描画誤差を示す情報を外部装置から受信する受信部を更に備える、
ことを特徴とする請求項4に記載の露光装置。 - 前記制御部は、前記原版に描画されたマークの位置および前記原版を保持する原版ステージに設けられたマークの位置を前記計測部に計測させ、前記計測部による計測値に基づいて前記予測変形量を演算する、
ことを特徴とすることを特徴とする請求項1乃至7のいずれか1項に記載の露光装置。 - 前記計測部は、前記原版の温度を計測するセンサを含む、
ことを特徴とする請求項1乃至3のいずれか1項に記載の露光装置。 - 前記制御部は、前記予測変形量を補正するように、前記投影光学系の投影倍率のほか、前記原版および前記基板の少なくとも一方の走査速度を補正する、
ことを特徴とする請求項1乃至9のいずれか1項に記載の露光装置。 - デバイスを製造するデバイス製造方法であって、
請求項1乃至10のいずれか1項に記載の露光装置を用いて基板を露光する工程と、
該基板を現像する工程と、
を含むことを特徴とするデバイス製造方法。 - チャンバーの内部で原版のパターンを投影光学系によって基板に投影し該基板を露光する露光装置であって、
前記原版の変形量を求めるための計測を行う計測部と、
所定の温度における前記原版の形状を基準とする前記原版の変形量と前記原版に蓄積される露光エネルギーの総量と相関のあるパラメータとの関係を示す情報と、前記チャンバーに搬入され露光に使用される前の状態において前記計測部が計測を行うことによって得られた計測値に基づいて決定される前記原版の露光前の変形量と、前記パラメータとに基づいて、前記原版の予測変形量を演算し、前記予測変形量を補正するように前記投影光学系の投影倍率を補正する制御部と、
を備えることを特徴とする露光装置。
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