JPH1083954A

JPH1083954A - 露光装置

Info

Publication number: JPH1083954A
Application number: JP8260345A
Authority: JP
Inventors: Takashi Masuyuki; 崇舛行; Hirotaka Tateno; 博貴立野
Original assignee: Nikon Corp
Current assignee: Nikon Corp
Priority date: 1996-09-09
Filing date: 1996-09-09
Publication date: 1998-03-31

Abstract

(57)【要約】【課題】固定鏡等の材質、形状の工夫、温度安定化に
よらずに、固定鏡の回転誤差に起因する重ねあわせ精度
の劣化を抑制する。【解決手段】干渉計システム５０では移動鏡３４及び
固定鏡３６の相対位置関係から基板ステージ１６の２次
元座標位置と回転量とを計測する。温度センサ４０は固
定鏡３６又は取付け部材３８の温度を計測し、主制御装
置２４ではこの温度センサ４０の出力に基づいて予め定
めた基準に従って固定鏡３６の回転量を予測する。この
ため、固定鏡３６等の熱変形に起因して固定鏡３６の回
転誤差が生じていた場合に、装置２４によりこの回転量
が予測され、これに応じて干渉計システム５０の計測結
果を補正したり、リセットしたりすることが可能にな
り、結果的に、固定鏡等の材質、形状の工夫、温度安定
化によらず、固定鏡の回転に起因する重ね合わせ誤差を
低減することができる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、露光装置に係り、
更に詳しくは、半導体集積回路，液晶ディスプレイ等の
微細回路パターン等のフォトリソグラフィ工程で使用さ
れる露光装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】半導体素子又は液晶表示素子等をフォト
リソグラフィ工程で製造する際に、フォトマスク又はレ
チクル等（以下、「レチクル」と総称する）のパターン
像を投影光学系を介して感光材が塗布されたウエハ又は
ガラスプレート等の基板（以下、「ウエハ」と総称す
る）上の各ショット領域に投影する投影露光装置が使用
されている。この種の投影露光装置として近年は、ウエ
ハを２次元的に移動自在なステージ上に載置し、このス
テージによりウエハを歩進（ステッピング）させて、レ
チクルのパターン像をウエハ上の各ショット領域に順次
露光する動作を繰り返す、所謂ステップ・アンド・リピ
ート方式の露光装置、特に、縮小投影型の露光装置（ス
テッパー）が比較的多く用いられている。

【０００３】例えば、半導体素子はウエハ上に多数層の
回路パターンを重ねて露光することにより形成される。
そして、２層目以降の回路パターンをウエハ上に投影露
光する際には、ウエハ上の既に形成された回路パターン
とレチクルのパターン像との位置合わせ、即ちウエハと
レチクルとの位置合わせ（アライメント）を精確に行う
必要がある。このアライメントのためにウエハ上には既
存の回路パターンと共に位置検出用のマーク（アライメ
ントマーク）が形成されており、このマークをアライメ
ントセンサにより位置検出することで回路パターンの位
置を正確に認識することができる。

【０００４】ウエハが載置されるステージ（以下、「ウ
エハステージ」と称する）の位置は、レーザ干渉計を用
いて精密に計測され、アライメント時のステージの位置
を正確に計測すると共に、ウエハ上の各ショット領域を
正しく露光位置に合わせるようにステージの位置を合わ
せ込んで、重ね合わせ露光が行われる。一般にレーザ干
渉計は、ウエハへの露光位置の中心を交点とする直交す
る２軸の計測システムにより構成される。このように、
露光位置と干渉計計測軸が同一直線上であると、ウエハ
ステージが微小回転しても、その回転誤差はレーザ干渉
計によるステージ座標計測値には影響せず、正確な位置
計測及び位置決めが可能である。

【０００５】ところで、現在使用されているアライメン
トセンサの方式としては、露光波長以外の光束でウエハ
上のマークの位置を検出する方式が一般的であり、ウエ
ハマーク検出光学系（アライメントセンサ）の一部とし
て投影光学系を使用する方式（以下「ＴＴＬ方式」と称
する）や、専用の位置検出光学系を使用する方式（以下
「オフ・アクシス（off-Axis）方式」と称する）があ
る。これらの方式では、レチクルとウエハとを直接位置
合わせするのではなく、投影露光装置内（一般にはウエ
ハステージ上）に設けた基準マークを介して間接的に位
置合わせを行う。

【０００６】一例として、オフ・アクシス方式について
具体的に説明する。先ず、重ね合わせ露光に先立ってレ
チクル上の位置合わせマークのウエハステージ上への投
影像の位置に上記基準マークを位置合わせし、その時の
ウエハステージの位置を計測する。続いて、基準マーク
をウエハマーク検出光学系の下に移動し、ウエハマーク
検出光学系（アライメントセンサ）の検出基準に対して
位置合わせをし、この時にもウエハステージの位置を計
測する。これら２つのステージ位置の差をベースライン
量と呼び、上記のシーケンスをベースライン計測と呼
ぶ。

【０００７】ウエハへの重ね合わせ露光時には、ウエハ
上のアライメントマークをウエハマーク検出光学系に対
して位置合わせし、ウエハステージを、そのときのウエ
ハステージの位置からベースライン量だけずれた位置に
移動して露光を行うことで、ウエハ上の既存の回路パタ
ーンとレチクルパターンの像とを重ね合わせることがで
きる。

【０００８】しかしながら、露光装置の構成によっては
アライメントセンサによるマークの検出位置と露光位置
とが大きく（例えば数十ミリ）離れる場合もある。この
乖離の方向が、アライメントセンサの計測方向と一致し
ていれば特に問題はないが、計測方向と直交する方向に
乖離している場合には、マーク位置計測時にステージの
微小回転に伴う計測誤差が生じてしまう恐れがある。

【０００９】このためこのような構成の装置のレーザ干
渉計システムは、直交する２次元のステージ座標を計測
するのみでなく、ステージの回転量も計測できるよう、
３軸以上の計測システムを有する構成となっている。そ
して、このうち２軸は互いに平行な計測軸であり、この
２軸の計測値の差からステージの回転を計測できる。

【００１０】アライメント時のステージ回転が計測でき
れば、ステージ回転があっても、アライメント計測値に
そのステージ回転量を補正することで、誤差のない正確
な位置計測が可能となる。

【００１１】また、ウエハの搭載されるステージは一般
に極めて高精度なものではあるが、上記２次元の移動に
伴って、僅かながらではあるがその回転量も変化（一般
に「ヨーイング」と呼ばれる）する。これに対して、前
述のレチクルを固定のままとすると回転したウエハステ
ージ上のウエハに対してレチクルの投影像は回転したも
のとなってしまい位置ずれが生じてしまう。これを防止
するために、上述のレーザ干渉計で計測されたウエハス
テージの回転量に基づいてレチクル（レチクルの載置さ
れるレチクルステージ）を回転補正し、常に正確な位置
合わせを行っている装置もある。

【００１２】

【発明が解決しようとする課題】上記の如き従来の装置
においては、ステージの位置または回転量の計測は、可
動なるステージ上に具備される反射鏡（一般に「移動
鏡」と呼ばれる）と、装置内のステージ以外の部分に具
備される反射鏡（一般に「固定鏡」と呼ばれる）との相
対位置、または相対回転量の変化として計測される。従
って、もしこれらの反射鏡の位置が、例えば熱膨張等に
よってズレてしまうと、重ね合わせ結果も大きくズレて
しまい、即ち生産される半導体集積回路が不良品となる
恐れがある。

【００１３】一般に露光装置では、露光動作の開始に伴
って、ウエハステージが高速で移動（ステッピング）を
繰り返し、ウエハに対して高いエネルギ（露光光）が照
射されるので、これらのエネルギによって装置本体の温
度は上昇していく傾向にあり、移動鏡や固定鏡の温度、
またはその取付け部材（保持部材）の温度も上昇するこ
ととなる。

【００１４】このため、それらの部分の熱変形により、
上記重ね合わせズレが生じる恐れがあった。特に、固定
鏡の回転変動は、前述したウエハステージの回転測定に
も大きく影響を与え、結果的にレチクル上のパターンと
ウエハ上のパターンとの重ね合わせ精度が劣化するとい
う不都合があった。

【００１５】これに対する対策として、従来は固定鏡の
保持部材の材質を熱膨張係数の低いものとするか、固定
鏡保持部材の形状を変形しにくい（特に回転方向）設計
を行ったり、固定鏡付近の温度を一定に保つ等の方法に
より回転誤差を低減させる工夫がなされていた。

【００１６】しかしながら、上記のような手法は、従来
の露光装置の要求精度は満たすことができたが、現在若
しくは今後必要となってくる精度に関しては、満たすこ
とが困難となってきた。すなわち、更に熱膨張係数の低
い材料で、変形しにくい形状で、温度も安定させるとい
う方法は、既に限界が見えており、材質、形状、温度安
定化によらない別の方法を開発することが急務となって
きた。

【００１７】本発明は、かかる事情の下になされたもの
で、請求項１ないし６に記載の発明の目的は、固定鏡の
材質、形状の工夫、温度安定化によらずに、固定鏡の回
転誤差に起因するマスクのパターンと感光基板との重ね
あわせ精度の劣化を抑制ないしは防止することができる
露光装置を提供することにある。

【００１８】

【課題を解決するための手段】請求項１に記載の発明
は、マスク（Ｒ）に形成されたパターン（ＰＡ）の像を
感光基板（Ｗ）上に転写する露光装置であって、前記感
光基板（Ｗ）を保持して２次元移動及び回転が可能な基
板ステージ（１６）と；前記基板ステージ（１６）に設
けられた移動鏡（３４）と前記基板ステージ外の装置固
定部に設けられた固定鏡（３６）とを含み、前記移動鏡
（３４）及び固定鏡（３６）の相対位置関係から前記基
板ステージ（１６）の２次元座標位置と回転量とを計測
するレーザ干渉計システム（５０）と；前記固定鏡又は
その取付け部材の温度を計測する１又は２以上の温度セ
ンサ（４０）と；前記温度センサ（４０）の出力に基づ
いて予め定めた基準に従って前記固定鏡の回転量を予測
する予測手段（２４）とを有する。

【００１９】ここで、温度センサ（４０）の出力に基づ
いて予め定めた基準に従って予測される固定鏡（３６）
の回転とは、固定鏡（３６）そのものの回転のみを意味
するのではなく、結果的に固定鏡（３６）が回転したの
と同様に、レーザ干渉計システム（５０）により基板ス
テージ（１６）が回転したと計測されるような固定鏡
（３６）、あるいはその取付け部材の変形による計測部
位の位置変動を含む広い概念をいい、回転量とは上記の
レーザ干渉計システムにより計測される見かけ上の基板
ステージの回転量（現実の基板ステージの回転量を含ま
ない）をいう。

【００２０】本請求項１に記載の発明によれば、レーザ
干渉計システムでは移動鏡及び固定鏡の相対位置関係か
ら基板ステージの２次元座標位置と回転量とを計測す
る。一方、１又は２以上の温度センサは固定鏡又はその
取付け部材の温度を計測し、予測手段ではこの温度セン
サの出力に基づいて予め定めた基準に従って固定鏡の回
転量を予測する。このため、固定鏡あるいはその取付け
部材の熱変形に起因して固定鏡の回転誤差が生じていた
場合に、予測手段によりこの回転量が予測され、この回
転量に応じてレーザ干渉計システムの計測結果を補正し
たり、レーザ干渉計システムをリセットしたりすること
が可能になり、これにより、固定鏡の材質、形状の工
夫、温度安定化によらず、固定鏡の回転に起因する基板
ステージの位置計測（回転を含む）の誤差、及びこれに
起因する重ね合わせ誤差を低減することができる。

【００２１】ここで、予測手段により予測された回転量
は、例えばその大きさが許容範囲を超えている場合には
いわゆるベースライン計測をやり直したり、干渉計シス
テムをリセットする基準として用いたりすることができ
るが、この他、例えば請求項２に記載の発明の如く、予
測手段(２４）の予測結果に基づいてレーザ干渉計シス
テム（５０）による計測結果を補正する補正手段（２
４）を更に設けてもよい。このようにした場合には、固
定鏡の回転誤差が生じ、これによりレーザ干渉計システ
ムの計測誤差が生じていても、この計測誤差が補正手段
により補正されるので、結果的にレーザ干渉計システム
は計測誤差（固定鏡の回転誤差による）が生じていない
ような計測を行なうことができるようになる。これによ
り、固定鏡の回転誤差に起因するマスクのパターンと感
光基板との重ねあわせ精度の劣化を未然に防ぎ、安定し
て高い重ねあわせ精度を得ることができる。

【００２２】あるいは、請求項３に記載の発明の如く、
予測手段の予測結果とレーザ干渉計システムによる計測
結果とに基づいて、少なくともマスクと感光基板との相
対回転を補正する第２の補正手段（２２、２４）を更に
設けても良い。このようにする場合には、第２の補正手
段では予測手段の予測結果とレーザ干渉計システムによ
る計測結果とに基づいて、より具体的にはレーザ干渉計
システムによる計測結果から予測手段の予測結果を減じ
ることにより、真の基板ステージの回転を算出し、この
算出結果に基づいてマスクと感光基板との相対回転を補
正する。この場合も、固定鏡の回転誤差に起因するマス
クのパターンと感光基板との重ねあわせ精度の劣化を未
然に防ぎ、安定して高い重ねあわせ精度を得ることがで
きる。

【００２３】また、上記の予測手段による固定鏡の回転
量を予測する基準は、この目的を実現できる基準であれ
ば、どのような基準でも良い。例えば、請求項４に記載
の発明の如く、予測手段による固定鏡の回転量を予測す
る基準は、有限要素法シミュレーションに基づいて予め
求めた温度と回転誤差量との関係を示すデータであって
も良く、請求項５に記載の発明の如く、実際に温度セン
サとレーザ干渉計システムを用いて温度変化と固定鏡の
回転量の変化とを計測した計測結果に基づいて得られた
温度と回転誤差量との関係を示すデータであっても良
い。

【００２４】この他、請求項６に記載の発明の如く、予
測手段による固定鏡の回転量を予測する基準は、温度セ
ンサを用いてテスト露光時に固定鏡の温度変化を計測し
た結果と、その露光結果とに基づいて定めた温度と回転
誤差量との関係を示すデータであっても良い。

【００２５】これら請求項４ないし６に記載の発明によ
れば、固定鏡の回転誤差が温度測定の結果よりある程度
正確に予測可能となるため、固定鏡取付け部材等の材
質、形状、温度変化に対する許容値が大きくなり、設計
する自由度が大きくなり、結果的にコストダウンを図る
ことが可能になる。

【００２６】

【発明の実施の形態】以下、本発明の一実施形態を図１
ないし図４に基づいて説明する。

【００２７】図１には、一実施形態に係る投影露光装置
１０の概略構成が示されている。この投影露光装置１０
は、ステップ・アンド・リピート方式の縮小投影型露光
装置（いわゆるステッパー）である。

【００２８】この投影露光装置１０は、マスクとしての
レチクルＲを露光用照明光で照明する照明系１２、レチ
クルＲを保持するレチクルステージ１４、レチクルＲに
形成されたパターン（原版）ＰＡの像を感光基板として
のウエハＷ上に投影する投影光学系ＰＬ、ウエハＷを保
持して基準平面内を２次元移動するとともに所定角度範
囲内で回転可能な基板ステージとしてのウエハステージ
１６、ウエハＷに形成された位置検出用マークとしての
アライメントマーク（ウエハマーク）を検出するオフ・
アクシス方式のアライメント顕微鏡１８、ウエハステー
ジ１６の位置及び回転を計測するレーザ干渉計システム
５０、ウエハステージ１６を駆動する駆動系２２、装置
全体を統括的に制御するミニコンピュータ（又はマイク
ロコンピュータ）から成る主制御装置２４等を備えてい
る。

【００２９】照明系１２は、光源（水銀ランプ又はエキ
シマレーザ等）、シャッタ、ブラインド、インプットレ
ンズ、フライアイレンズ、リレーレンズ、メインコンデ
ンサレンズ（いずれも図示せず）等を含んで構成されて
いる。

【００３０】この照明系１２は、光源からの露光用の照
明光によってレチクルＲの下面（パターン形成面）のパ
ターンＰＡを均一な照度分布で照明する。ここで、露光
用照明光は、単色光（又は準単色光）であり、その波長
（露光波長）は例えば水銀輝線（ｉ線）の３６５ｎｍで
あり、ＫｒＦエキシマーレーザの２４８ｎｍ等である。

【００３１】レチクルステージ１４上にはレチクルＲが
真空吸着等によって固定されており、このレチクルステ
ージ１４は、不図示の駆動系によってＸ方向（図１にお
ける紙面左右方向）、Ｙ方向（図１における紙面直交方
向）及びθ方向（ＸＹ面内の回転方向）に微小駆動可能
とされている。

【００３２】前記投影光学系ＰＬは、その光軸ＡＸがレ
チクルステージ１４の移動面に直交するＺ軸方向とさ
れ、ここでは両側テレセントリックで、所定の縮小倍率
β（βは例えば１／５）を有するものが使用されてい
る。このため、後述するようにレチクルＲのパターンと
ウエハＷ上のショット領域との位置合わせ（アライメン
ト）が行われた状態で、照明光によりレチクルＲが均一
な照度で照明されると、パターン形成面のパターンが投
影光学系ＰＬにより縮小倍率βで縮小されて、フォトレ
ジストが塗布されたウエハＷ上に投影され、ウエハＷ上
の各ショット領域（例えば各ＬＳＩチップの領域）にパ
ターンの縮小像が形成される。

【００３３】ウエハＷはウエハホルダ１５を介してウエ
ハステージ１６上に固定されている。ウエハステージ１
６は、実際には、ベース３０上をＹ方向（図１の紙面直
交方向）に移動するＹステージ、このＹステージ上をＸ
方向（図１の紙面左右方向）に移動するＸステージ及び
このＸステージ上に搭載され、前記ウエハホルダ１５と
一体的にＺ軸回りに微小角度範囲内で回転可能なθステ
ージ等から構成されているが、図１では、これらが代表
してウエハステージ１６として図示されている。

【００３４】また、このウエハステージ１６上には、そ
の表面がウエハＷの表面と同じ高さになるように基準板
ＦＰが固定されている。この基準板ＦＰの表面には、後
述するベースライン計測等に用いられる基準マークを含
む各種の基準マークが形成されている。

【００３５】前記アライメント顕微鏡１８は、投影光学
系ＰＬのＹ軸方向の一側面（図１ににおける紙面手前側
の面）に固定されており、本実施形態では画像処理方式
のものが用いられている。このアライメント顕微鏡１８
は、ハロゲンランプ等のブロードバンドな照明光を発す
る光源、対物レンズ、指標板、ＣＣＤ等の撮像素子及び
信号処理回路、演算回路等（いずれも図示省略）を含ん
で構成されている。このアライメント顕微鏡１８を構成
する光源から発せられた照明光がアライメント顕微鏡１
８内部の対物レンズを通過した後ウエハＷ（又は基準板
ＦＰ)上に照射され、そのウエハＷ表面の不図示のウエ
ハマーク領域からの反射光がアライメント顕微鏡１８内
部に戻り、対物レンズ、指標板を順次透過してＣＣＤ等
の撮像面上にウエハマークの像、及び指標板上の指標の
像が結像される。これらの像の光電変換信号が信号処理
回路により処理され、演算回路によってウエハマークと
指標との相対位置が算出される。

【００３６】次に、レーザ干渉計システム５０について
説明する。このレーザ干渉計システム５０は、ウエハス
テージ１６の上面に固定された移動鏡３４、投影光学系
ＰＬの側面に固定された固定鏡３６及びこれらの移動鏡
３４、固定鏡３６に測長ビーム（レーザビーム）をそれ
ぞれ投射して、それぞれの反射光を受光することによ
り、ウエハステージ１６の位置及び回転を移動鏡３４と
固定鏡３６との相対的な位置関係として計測するレーザ
干渉計２０とから構成されている。本実施形態では、実
際には、Ｘ軸にほぼ直交する反射面を有するＸ移動鏡３
４Ｘと、Ｙ軸にほぼ直交する反射面を有するＹ移動鏡３
４Ｙとが設けられ、また、固定鏡もＸ軸にほぼ直交する
反射面を有する２つのＸ固定鏡３６Ｘ₁、３６Ｘ₂と、
Ｙ軸にほぼ直交する反射面を有するＹ固定鏡３６Ｙとが
設けられ、これらに対応してレーザ干渉計もＸ軸方向位
置計測用のものが２つ、Ｙ軸方向位置計測用のものが１
つ設けられているが、図１では、これらが移動鏡３４、
固定鏡３６、レーザ干渉計２０として代表的に示されて
いる（図２（Ａ）参照）。

【００３７】ここで、図２（Ａ）に基づいて、上記レー
ザ干渉計システム５０を構成する移動鏡、固定鏡、レー
ザ干渉計の構成及び配置等について説明する。

【００３８】図２（Ａ）には、固定鏡及びその周辺部の
概略平面図が拡大して示されている。図２（Ａ）におい
て、ウエハステージ１６のＸ軸方向の一端（図２（Ａ）
における左端）には、Ｘ移動鏡３４ＸがＹ軸方向に延設
され、Ｙ軸方向の一端（図２（Ａ）における上端）には
Ｙ移動鏡３４ＹがＸ軸方向に延設されている。

【００３９】また、投影光学系ＰＬのＸ軸方向の一側面
には、Ｘ軸にほぼ直交する反射面を有する２つのＸ固定
鏡３６Ｘ₁、３６Ｘ₂が固定鏡取付け部材としての固定
鏡保持部材３８Ｘを介して取り付けられ、投影光学系Ｐ
ＬのＹ軸方向の一側面には、Ｙ軸にほぼ直交する反射面
を有するＹ固定鏡３６Ｙが固定鏡取付け部材としての固
定鏡保持部材３８Ｙを介して取り付けられている。

【００４０】Ｘ固定鏡３６Ｘ₁、３６Ｘ₂、Ｘ移動鏡３
４Ｘに対向してＸ軸方向位置計測用の２つのレーザ干渉
計２０Ｘ₁、２０Ｘ₂が設けられ、Ｙ固定鏡３６Ｙ、Ｙ
移動鏡３４Ｙに対向してＹ軸方向位置計測用のレーザ干
渉計２０Ｙが設けられている。以下の説明において、Ｘ
軸方向位置計測用の２つのレーザ干渉計２０Ｘ₁、２０
Ｘ₂の計測軸をそれぞれＸ₁軸、Ｘ₂軸と呼び、Ｙ軸方
向位置計測用のレーザ干渉計２０Ｙの計測軸をＹ軸（ウ
エハステージの移動軸であるＹ軸と一致）と呼ぶものと
する。

【００４１】Ｘ軸方向位置計測用の一方のレーザ干渉計
２０Ｘ₁は、固定鏡３６Ｘ₁、移動鏡３４Ｘに対してＸ
軸に平行な方向の測長ビームＢｒＸ₁、ＢｍＸ₁をそれ
ぞれ投射して、それぞれの反射光を受光して固定鏡３６
Ｘ₁と移動鏡３６ＹとのＸ₁軸方向の相対位置を計測す
る。また、Ｘ軸方向位置計測用の他方のレーザ干渉計２
０Ｘ₂は、固定鏡３６Ｘ₂、移動鏡３４Ｘに対してＸ軸
に平行な方向の測長ビームＢｒＸ₂、ＢｍＸ₂をそれぞ
れ投射して、それぞれの反射光を受光して固定鏡３６Ｘ
₂と移動鏡３４ＸとのＸ₂軸方向の相対位置を計測す
る。

【００４２】ここで、Ｘ₂軸のビームは、露光位置（投
影光学系ＰＬの中心Ｃ₁、すなわちウエハステージ座標
系の原点）と同軸上にはなく、露光位置Ｃ₁からＹ方向
にＤだけ離れて設置された後述するアライメント顕微鏡
１８の中心（検出位置）Ｃ₂と同軸にある。これは、後
述するようにアライメント計測時にアッベ誤差が生じな
いようにしたものである。一方、Ｘ₂軸のビームは、露
光位置（投影光学系ＰＬの中心Ｃ₁、すなわちウエハス
テージ座標系の原点）と同軸にあるので、レーザ干渉計
２０Ｘ₁の計測値によりウエハステージ１６のＸ座標位
置を計測することができる。

【００４３】また、これらのレーザ干渉計２０Ｘ₁、２
０Ｙ₂の計測軸であるＸ₁軸とＸ₂軸は、前述の如く、
距離Ｄだけ離れて、かつ平行に設定されているので、２
つのレーザ干渉計２０Ｘ₁、２０Ｙ₂の計測値の差をＤ
で割った値によりウエハステージ１６の回転角（回転
量）を計測することができる。

【００４４】Ｙ軸方向位置計測用のレーザ干渉計２０Ｙ
は、固定鏡３６Ｙ、移動鏡３４Ｙに対して測長ビームＢ
ｒＹ、ＢｍＹをそれぞれ投射して、それぞれの反射光を
受光して固定鏡３６Ｙと移動鏡３４ＹとのＹ軸方向の相
対位置を計測する。

【００４５】すなわち、固定鏡３６Ｘ₁、３６Ｘ₂、３
６Ｙとウエハステージ１６上の移動鏡３４Ｘ、３４Ｙと
の相対位置関係が、Ｙ軸の干渉計ビーム（ＢｍＹとＢｒ
Ｙ）と、Ｘ₁軸の干渉計ビーム（ＢｍＸ₁とＢｒＸ₁）
とＸ₂軸の干渉計ビーム（ＢｍＸ₂とＢｒＸ₂）とによ
って計測される。

【００４６】前記レーザ干渉計２０（２０Ｘ₁、２０Ｘ
₂、２０Ｙ）の計測値が主制御装置２４に供給されてお
り、主制御装置２４ではレーザ干渉計２０の計測値に基
づいて前述したようにしてウエハステージ１６の位置及
び回転量を固定鏡と移動鏡の相対位置関係として計測す
る。また、主制御装置２４では、ウエハステージ１６の
位置決めの際等には、レーザ干渉計２０の計測値をモニ
タしつつ駆動系２２を介してウエハステージ１６、すな
わちウエハＷを位置決めする。

【００４７】前記アライメント顕微鏡１８は、上述の如
く、その中心（検出位置）Ｃ₂が、投影光学系ＰＬの露
光位置（中心）Ｃ₁に対して、Ｙ方向にＤだけ離れて設
置されている。このアライメント顕微鏡１８は、Ｘ方
向、Ｙ方向の両方向についてウエハＷ上のマークの位置
計測を行うためのものである。図２（Ａ）からも明らか
なように、このアライメント顕微鏡の計測位置は、Ｘ₂
軸、Ｙ軸上にあり、いずれの方向についてもウエハステ
ージの回転の影響により計測誤差（アッベ誤差）が生じ
難いようになっている。

【００４８】更に本実施形態では、図１ないし図２に示
されるように、固定鏡保持部材３８Ｘ上面の固定鏡３６
Ｘ₁、３６Ｘ₂のそれぞれの近傍に温度センサ４０ａ、
４０ｂが設けられている（但し、図１においては、これ
らの温度センサ４０ａ、４０ｂが代表的に温度センサ４
０として示されている）。これらの温度センサ４０ａ、
４０ｂによって固定鏡保持部材３８Ｘの少なくとも２点
の温度を検出できるようになっており、これらの温度セ
ンサ４０ａ、４０ｂの計測値が主制御装置２４に供給さ
れるようになっている。

【００４９】前記主制御装置２４は、ＣＰＵ、ＲＯＭ、
ＲＡＭ、Ｉ／Ｏインタフェース等を含むマイクロコンピ
ュータ（又はミニコンピュータ）から成り、装置全体を
統括的に制御するものであるが、本実施形態の特徴とし
て、この主制御装置２４は、次に述べるように、上記の
温度センサ４０ａ、４０ｂの計測値を用い、予めＲＡＭ
内に記憶された温度と回転誤差量との関係を示すデータ
に基づいて、固定鏡保持部材３８Ｘの熱変形に起因する
固定鏡の回転誤差量を演算し、補正する機能をも備えて
いる。

【００５０】ここで、上記主制御装置２４による回転誤
差量の演算及びその補正機能について、図２（Ａ）、
（Ｂ）、図３、図４に基づいて詳述する。

【００５１】まず、最初に固定鏡の回転誤差の生ずる理
由、回転誤差の意義及びそれに起因する不都合について
説明する。

【００５２】図２（Ａ）に示されるように、通常の状態
（イニシャル状態）では固定鏡３６Ｘ₁と固定鏡３６Ｘ
₂は固定鏡保持部材３８Ｘによって平行に保持されてい
る。

【００５３】しかしながら、ウエハＷの露光を行った場
合、露光光によりウエハＷ及びウエハホルダ１５の温度
が上昇し、その近くにある固定鏡３６Ｘ₁、３６Ｘ₂が
そのウエハＷ及びホルダ１５の熱を対流もしくは不図示
の空調機からの空気の流れにより受けてしまう。また、
ウエハ交換、露光等の際に、ウエハステージ１６が位置
を変えることにより、ウエハステージ１６の回りの空気
の流れが変わり、これによっても固定鏡３６Ｘ₁、３６
Ｘ₂及び固定鏡保持部材３８Ｘの温度が変動する。

【００５４】固定鏡３６Ｘ₁、３６Ｘ₂は固定鏡保持部
材３８Ｘによって投影光学系ＰＬに固定されているが、
この投影光学系ＰＬは十分に大きい質量を持ち、通常温
調がなされていることから、固定鏡３８Ｘ及び固定鏡保
持部材３８Ｘの雰囲気温度が変動しても、投影光学系Ｐ
Ｌに温度変化は殆ど生じないため、固定鏡保持部材３８
Ｘの投影光学系ＰＬ寄りの部分（根元）とこれから離れ
た部分（先端）に温度差ができ、固定鏡保持部材３８Ｘ
内に温度勾配が生じる。

【００５５】本実施形態のように、いずれかの固定鏡
（ここでは、固定鏡３６Ｘ₂）がオフ・アクシス方式の
アライメント顕微鏡１８の検出中心と同軸上に設置され
ている場合、必然的に固定鏡保持部材３８Ｘの形状が投
影光学系ＰＬとの接合部に関して非対称形となるため、
この固定鏡保持部材３８Ｘが熱変形し、前述した温度勾
配が生じた場合には、図２（Ｂ）に示されるように、当
該固定鏡保持部材３８Ｘの上記温度勾配に起因する非対
称変形が生じ、このため固定鏡３６Ｘ₁と３６Ｘ₂にＸ
方向の位置誤差Δｄが生じる。この位置誤差Δｄが生じ
ると、ウエハステージ１６が回転していないにもかかわ
らず、固定鏡保持部材３８Ｘの熱変形に起因する上記回
転誤差Δｄ、すなわちリファレンスビームＢｒＸ₁、Ｂ
ｒＸ₂との計測誤差Δｄにより、Ｘレーザ干渉計Ｘ₁、
Ｘ₂の計測結果には、あたかもウエハステージ１６が回
転したように計測されてしまうので、この意味で上記計
測誤差Δｄを固定鏡の回転誤差（あるいは回転誤差量）
と呼ぶのである。従って、この回転誤差が生じた状態の
レーザ干渉計システム５０の計測結果を基に、露光若し
くは種々の計測を行った場合、回転誤差によるショット
回転ずれ、若しくは計測オフセット（回転誤差による）
が発生する。換言すれば、ウエハステージ１６の位置あ
るいは回転量の検出には、固定鏡３６Ｘ₁、３６Ｘ₂、
３６Ｙの位置及び回転が基準として使用されている。そ
のため、固定鏡３６Ｘ₁、３６Ｘ₂、３６Ｙが環境変化
等の要因により温度変化し、熱変形してしまうと、露光
時のステージ位置の決定に関する誤差、ステージ回転量
補正に関する誤差及びレチクルの回転補正に関する誤差
などのさまざまな誤差要因を生じせしめ、投影像の重ね
合わせ精度を劣化させてしまう。

【００５６】この様な不都合を改善すべく、本実施形態
では、予め、例えば固定鏡３６Ｘ₁、３６Ｘ₂及び固定
鏡保持部材３８Ｘの設計段階での構造解析の際に、固定
鏡３６Ｘ₁、３６Ｘ₂及び固定鏡保持部材３８Ｘの温度
変動をパラメータとして、有限要素法シミュレーション
により固定鏡保持部材３８Ｘの変形を計算し、固定鏡の
回転誤差量を各部（例えば固定鏡３６Ｘ₁、３６Ｘ₂の
それぞれの近傍部分）の温度変化量（若しくは２点間の
温度差等）と対応させたグラフ（図３参照）を求め、そ
の関係式を予め計算し、その関係式が主制御装置２４の
ＲＡＭ内に記憶されている。図３において、●は温度セ
ンサ４０ａが設置された固定鏡保持部材３８Ｘの固定鏡
３６Ｘ₁近傍部分の変形量を示し、■は固定鏡保持部材
３８Ｘの固定鏡３６Ｘ₂近傍部分の変形量を示す。ま
た、△は参考までに示したもので、仮に固定鏡保持部材
３８Ｘの固定鏡３６Ｘ₁近傍と固定鏡３６Ｘ₂近傍部分
の温度変化量（基準温度からの変化量）が同一であった
場合の固定鏡回転誤差を示す。

【００５７】なお、上記の固定鏡保持部材３８Ｘの変形
を求めるための有限要素法シミュレーションについて
は、汎用プログラムが使用されるので、ここでは詳細な
説明は省略する。また、温度と回転誤差量（変形量）と
の関係を求める式は、１次もしくはそれ以上の最少二乗
近似式等により求めることができる。なお、上記の有限
要素法の代わりに差分法を用いることもできる。

【００５８】ＲＡＭ内に記憶する上記温度変化による回
転誤差予測式は、上記有限要素法シミュレーションを用
いる場合の他に、実際に固定鏡３６Ｘ₁、３６Ｘ₂及び
保持部材３８Ｘの雰囲気温度を何等かの方法で変化させ
たときの干渉計２０Ｘ₁、２０Ｘ₂の計測結果の差を計
測し、その時の温度と回転誤差（干渉計による回転量計
測値）の関係式（近似式）を求め、この関係式をＲＡＭ
内に記憶しても良い。

【００５９】あるいは、図４に示されるように、実際の
ウエハＷの露光結果（テスト露光）と前記固定鏡３６Ｘ
₁、３６Ｘ₂および固定鏡保持部材３８Ｘの温度変化に
基づいて前記同様の関係式を求め、この式をＲＡＭ内に
記憶しておいても良い。

【００６０】そして、実際の露光及び計測（例えば後述
するベースライン計測時等）に固定鏡保持部材３８Ｘに
設置した温度センサ４０ａ、４０ｂの計測結果を用い、
ＲＡＭ内の温度と回転誤差量との関係式に従って回転誤
差量を求め、干渉計２０Ｘ₁、２０Ｘ₂の計測値を補正
する。

【００６１】次に、上述のようにして構成された露光装
置１０の露光時の動作について説明する。前提として不
図示のレチクル顕微鏡を用いて行われるレチクルＲの投
影光学系ＰＬに対する位置合わせ（レチクルアライメン
ト）は終了しているものとする。

【００６２】まず、重ね合わせ露光に先立って、ウエハ
Ｗ上の位置検出マークを検出するアライメント顕微鏡１
８の位置（検出中心）Ｃ₂と投影光学系ＰＬの中心Ｃ₁
（通常は、レチクルパターンの中心であるレチクルセン
タに一致）との位置関係を計測するベースライン計測が
行われる。具体的には、次の通りである。

【００６３】ウエハステージ１６上に設けられた基
準板ＦＰを、投影光学系ＰＬを介したレチクルアライメ
ントマーク（図示省略）の投影像位置へ移動する。この
移動は、主制御装置２４により駆動系２２を介して行わ
れる。前述の如く、基準板ＦＰの表面はウエハＷの表面
とほぼ同じ高さ（光軸方向）となっており、その表面に
は基準マーク（不図示）が形成されている。このとき、
例えば、不図示のレチクル顕微鏡により投影光学系ＰＬ
を介してレチクルアライメントマークと基準マークの相
対位置が検出される。

【００６４】また、このときのウエハステージ１６の位
置は、ウエハステージ１６上に設けられた移動鏡３４を
介してレーザ干渉計２０により計測され、この計測結果
は主制御装置２４に送られる。主制御装置２４はレーザ
干渉計２０の計測結果とレチクル顕微鏡から出力される
相対位置との和を、レチクル位置としてＲＡＭに記憶す
る。

【００６５】次に、主制御装置２４は駆動系２２を
介してウエハステージ１６を駆動し、基準板ＦＰをアラ
イメント顕微鏡１８の検出基準位置近傍に移動させる。
そして、アライメント顕微鏡１８に内蔵された指標板上
の指標の中心（検出中心）Ｃ₂と基準板ＦＰ上の基準マ
ークとの相対位置関係を検出する。この相対位置関係検
出値と、このときのレーザ干渉計２０の出力値（ウエハ
ステージ１６の位置）は、主制御装置２４に送られ、当
該主制御装置２４ではその和をアライメント顕微鏡１８
の位置とし、さらに、上記レチクル位置とアライメント
顕微鏡位置との差を「ベースライン計測値」としてＲＡ
Ｍに記憶する。なお、このベースライン計測時には、露
光が行われていないので、固定鏡保持部材は図２（Ａ）
の通常状態にあり、従って固定鏡の回転誤差量Δｄは零
である。

【００６６】本実施形態の投影露光装置１０では、以上
のベースライン計測シーケンスの後に、ウエハＷへの重
ね合わせ露光を開始する。すなわち、ウエハＷ上の不図
示のウエハアライメントマークを、アライメント顕微鏡
１８により位置検出する。そして、主制御装置２４では
このときのウエハアライメントマークと前述のアライメ
ント顕微鏡１８内の指標マーク中心との相対位置関係
と、ウエハステージ１６の位置（レーザ干渉計２０の出
力値）との和を、マーク位置として認識する。

【００６７】続いて、主制御装置２４ではこのマーク位
置からベースライン量とウエハアライメントマークの設
計座標の和だけウエハＷ（即ちウエハステージ１６）
を、レーザ干渉計２０の計測値に基づいて移動する。

【００６８】これにより、レチクルＲ上のパターンの投
影像と、ウエハＷ上の既存のパターンとは正確に位置合
わせされるので、この状態で露光を行いウエハＷにレチ
クルＲ上のパターンを投影転写する。

【００６９】このようにして、ウエハＷ上の各ショット
領域を順次レチクルパターンの像の投影位置に移動させ
つつ、露光（投影転写）を繰り返しおこなうことによ
り、ステップ・アンド・リピート方式の露光が行われ
る。

【００７０】そして、このような露光動作の継続中も前
述した温度センサ４０ａ、４０ｂの計測値に基づく固定
鏡３６Ｘ₁、３６Ｘ₂の回転量計測を続行し、計測され
る固定鏡回転誤差量の分だけレーザ干渉計の計測値を補
正する、あるいは計測された固定鏡回転誤差量に基づい
て、主制御装置２４はレチクルＲを保持するレチクルス
テージ１４を駆動して固定鏡回転誤差を補正してパター
ン投影像をより正確にウエハＷ上に重ね合わせるように
する。前者の計測された固定鏡回転誤差量の分だけレー
ザ干渉計の計測値を補正する手法によれば、実際にウエ
ハステージ１６が所望の回転状態にある場合に、レチク
ルＲの不用意な回転を防止する効果がある。また、後者
の計測された固定鏡回転誤差量に基づいてレチクルＲを
保持するレチクルステージ１４を駆動する手法では、固
定鏡回転誤差によりウエハステージ１６に回転誤差が生
じたように計測され、これに追随すべくレチクルステー
ジ１４が回転された場合に、これを元に戻す効果があ
る。

【００７１】なお、実際にウエハステージ１６に回転が
生じた場合には、レーザ干渉計２０Ｘ₁、２０Ｘ₂の計
測値に基づいて見かけ上のウエハステージ１６の回転量
を計測し、これから温度センサ４０ａ、４０ｂの計測値
に基づいて演算されるΔｄ／Ｄを減ずることにより、真
のウエハステージ１６の回転量を求めることができるの
で、この回転量に基づいてウエハステージ１６の回転分
だけレチクルＲも回転することにより、パターン投影像
をより正確にウエハＷ上に重ね合わせるようにすること
が望ましい。

【００７２】なお、上記ステップ・アンド・リピート方
式の露光動作は、ウエハＷ上の各ショット領域内のアラ
イメントマークを逐次検出してそのショットに重ね合わ
せ露光を行ういわゆるダイ・バイ・ダイ方式で行っても
よく、露光に先立って複数のショット内の各アライメン
トマークを検出し、それらの検出値を統計処理して露光
ショットの配列を決め、その配列に基づいて全ショット
の露光を行ういわゆるＥＧＡ（エンハンスト・グローバ
ル・アライメント）方式で行っても良い。

【００７３】これまでの説明から明らかなように、本実
施形態では、主制御装置２４の機能によって、予測手段
及び補正手段が実現され、主制御装置２４と駆動系２２
又はレチクルステージ１４の不図示の駆動系とによって
第２の補正手段が構成される。

【００７４】以上説明したように本実施形態の露光装置
１０によると、主制御装置２４では、固定鏡保持部材３
８Ｘに設けられた２つの温度センサ４０ａ、４０ｂの計
測値に基づいて固定鏡保持部材３８Ｘの熱変形に起因す
る固定鏡３６Ｘ₁、３６Ｘ₂の回転誤差を算出すること
ができるので、露光時の露光ショット回転誤差、および
アライメントマーク計測時の計測誤差を低減できるだけ
でなく、ベースライン計測時と実際の露光時にアライメ
ント顕微鏡１８によりアライメントマークを計測する時
点とでそれぞれの計測時の温度をモニターすることによ
り、固定鏡３６及び固定鏡保持部材３８の温度差による
固定鏡回転誤差に起因して発生する重ね合わせ露光時の
位置ずれオフセットを補正することが可能となる。従っ
て、本実施形態の投影露光装置１０によると、露光結果
に対する露光ショット焼付時の回転誤差、露光ショット
位置の計測誤差、ベースラインドリフト等が低減され
る。

【００７５】また、固定鏡回転誤差が温度測定の結果よ
り予測可能となるため、固定鏡保持部材等の材質、形
状、温度変化に対する許容値が大きくなり、設計する自
由度が大きくなり、結果的にコストダウンにつながる。

【００７６】なお、固定鏡が許容量以上回転した場合に
は、ベースライン計測をやり直すようにしても良く、こ
のようにしても固定鏡３６Ｘ₁、３６Ｘ₂の回転変動に
殆ど影響されず、高い重ね合わせ精度を、極めて安定的
に得ることができる。

【００７７】また、上記実施形態では、固定鏡の回転誤
差計測を行なうＸ軸方向について比較的短い２つの固定
鏡３６Ｘ₁、３６Ｘ₂が設けられ、純粋な意味で固定鏡
の回転を検出するのではなく、固定鏡保持部材３８Ｘの
熱変形に起因するＸ₁軸の計測ビーム（レファレンスビ
ーム）、Ｘ₂軸の計測ビーム（レファレンスビーム）に
よりそれぞれの軸に関する固定鏡反射面の位置の変化の
差を検出する場合について説明したが、本発明がこれに
限定されることはなく、例えばＸ軸方向の計測用として
比較的長い固定鏡を用い、この固定鏡に２軸のレーザビ
ームを投射するようにすれば、上記実施形態と同様にし
てこの固定鏡の反射面のそれぞれのビームの照射点の位
置変化を算出することにより、この位置変化の差（上記
Δｄに相当）を距離Ｄで除すことにより、固定鏡そのも
のの純粋な意味での回転誤差を検出することができるよ
うになる。

【００７８】さらに上記実施形態では、温度センサを２
つ設ける場合を例示したが、これに限らず、１つあるい
は３つ以上温度センサを設けても良い。温度センサを１
つだけ設ける場合には、例えば代表的な点として図２に
示される温度センサの中間点当たりに設け、この点の温
度をパラメータとして固定鏡保持部材の熱変形による固
定鏡反射面のそれぞれのレーザビームの照射位置の位置
変動を予めシミュレーション等により求めて置くことが
望ましい。また、３つ以上温度センサを設ける場合に
は、例えばＹ軸方向に所定間隔を隔ててセンサを配置す
るとともに、これらの点の温度変動と固定鏡保持部材の
熱変形による固定鏡反射面のそれぞれのレーザビームの
照射位置の位置変動の関係を予めシミュレーション等に
より求めて置くことが望ましい。温度センサの数は、多
ければ多いほど固定鏡の回転誤差をより高精度に算出す
ることが可能であるが、温度センサの数に応じて部品点
数の増加とコストアップを招くのでこれらの兼ね合いを
考えて温度センサの個数を定めることが望ましい。

【００７９】また、上記実施形態では、主制御装置のＲ
ＡＭ内に、有限要素法シミュレーション、実際の計測、
あるいはテスト露光により求めた温度と回転誤差量の関
係式を記憶する場合について説明したが、本発明がこれ
に限定されることはなく、予め求めた温度と回転誤差量
との関係を示すデータであれば、固定鏡の回転量を予測
する基準として用いることができ、例えば、温度と回転
誤差量の関係を示すテーブル形式のデータをＲＡＭ内に
記憶しておいても勿論良い。

【００８０】なお、上記実施形態では、固定鏡は投影光
学系ＰＬに固定するものとしたが、固定鏡の設置場所は
これに限らず、移動鏡の設けられるステージ（可動部）
以外の部分であれば、どのような場所に設置しても構わ
ない。このような場合も上記実施形態例と同等の効果を
得ることができる。

【００８１】また、上記実施形態では本発明が投影露光
装置に適用された場合について説明したが、本発明の適
用範囲がこれに限定されるものではなく、Ｘ線プロキシ
ミティー露光装置や電子線露光装置に対しても好適に適
用可能である。

【００８２】また、温度の計測結果に基づいて基準参照
面の計測方向の変位を推測し、この推測結果に基づいて
基準参照面と被計測物体面との相対位置の計測結果を補
正するという技術的思想は、露光装置のウエハステージ
の回転誤差の補正のみならず、その他の装置にも適用が
可能である。

【００８３】

【発明の効果】以上説明したように、請求項１ないし６
に記載の発明によれば、固定鏡及びその取付け部材の材
質、形状の工夫、温度安定化によらずに、固定鏡の回転
誤差に起因するマスクのパターンと感光基板との重ねあ
わせ精度の劣化を抑制ないしは防止することができると
いう従来にない優れた効果がある。

【図面の簡単な説明】

【図１】一実施形態に係る露光装置の構成を概略的に示
す図である。

【図２】図１の主制御装置による回転誤差量の演算及び
その補正機能について説明するための図であって、
（Ａ）は通常状態の固定鏡及びその周辺部の概略平面
図、（Ｂ）は回転誤差が生じた状態の固定鏡及びその周
辺部の概略平面図である。

【図３】固定鏡の回転誤差量を各部の温度変化量（若し
くは２点間の温度差等）と対応させたグラフの一例を示
す図である。

【図４】実際のウエハＷの露光結果（テスト露光）と固
定鏡３６及び固定鏡保持部材の温度変化との関係の一例
を示す図である。

【符号の説明】

１０露光装置１６ウエハステージ１８アライメント顕微鏡２２駆動系２４主制御装置３４移動鏡３６固定鏡３８固定鏡保持部材５０レーザ干渉計システムＰＬ投影光学系ＷウエハＲレチクル

フロントページの続き (51)Int.Cl.⁶ 識別記号庁内整理番号ＦＩ技術表示箇所Ｈ０１Ｌ 21/30 ５２５Ｒ５２５Ｗ

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】マスクに形成されたパターンの像を感光
基板上に転写する露光装置であって、前記感光基板を保持して２次元移動及び回転が可能な基
板ステージと；前記基板ステージに設けられた移動鏡と
前記基板ステージ外の装置固定部に設けられた固定鏡と
を含み、前記移動鏡及び固定鏡の相対位置関係から前記
基板ステージの２次元座標位置と回転量とを計測するレ
ーザ干渉計システムと；前記固定鏡又はその取付け部材
の温度を計測する１又は２以上の温度センサと；前記温
度センサの出力に基づいて予め定めた基準に従って前記
固定鏡の回転量を予測する予測手段とを有する露光装
置。
【請求項２】前記予測手段の予測結果に基づいて前記
レーザ干渉計システムによる計測結果を補正する補正手
段を更に有することを特徴とする請求項１に記載の露光
装置。
【請求項３】前記予測手段の予測結果と前記レーザ干
渉計システムによる計測結果とに基づいて、少なくとも
前記マスクと感光基板との相対回転を補正する第２の補
正手段を更に有することを特徴とする請求項１に記載の
露光装置。
【請求項４】前記予測手段による前記固定鏡の回転量
を予測する基準は、有限要素法シミュレーションに基づ
いて予め求めた温度と回転誤差量との関係を示すデータ
であることを特徴とする請求項１ないし３のいずれか一
項に記載の露光装置。
【請求項５】前記予測手段による前記固定鏡の回転量
を予測する基準は、実際に前記温度センサと前記レーザ
干渉計システムを用いて温度変化と前記固定鏡の回転量
の変化とを計測した計測結果に基づいて得られた温度と
回転誤差量との関係を示すデータであることを特徴とす
る請求項１ないし３のいずれか一項に記載の露光装置。
【請求項６】前記予測手段による前記固定鏡の回転量
を予測する基準は、前記温度センサを用いてテスト露光
時に固定鏡の温度変化を計測した結果と、その露光結果
とに基づいて定めた温度と回転誤差量との関係を示すデ
ータであることを特徴とする請求項１ないし３のいずれ
か一項に記載の露光装置。