JP2007116143A - リソグラフィ装置およびデバイス製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】本発明のリソグラフィ装置は、パターンが付与された放射線ビームを基板のターゲット部分に投影するように構成された投影システムPSと、移動可能な1つの物体1の位置を少なくとも一方向において求めるように構成された、移動可能な物体1の一方の側から離して配置された少なくとも1つの第1のセンサ3および移動可能な物体1の反対側から離して配置された少なくとも1つの第2のセンサ4を備える位置測定システムと、第1のセンサ3と移動可能な物体1との間の距離および第2のセンサ4と移動可能な物体1との間の距離に基づき、移動可能な物体の前記方向における位置を計算するように構成されている。
【選択図】図2
Description
1.ステップモードでは、マスクテーブルMTまたは「マスク支持体」と、基板テーブルWTまたは「基板支持体」とが基本的に静止状態に保持されている間に、パターン全体が付与された放射線ビームがターゲット部分Cに一度に(すなわち単一静止露光)投影される。次に、別のターゲット部分Cが露光されるように、基板テーブルWTまたは「基板支持体」がXおよび/またはY方向に移動される。ステップモードでは、露光フィールドの最大サイズによって、単一の静止露光で結像されるターゲット部分Cのサイズが制限される。
2.スキャンモードでは、マスクテーブルMTまたは「マスク支持体」と、基板テーブルWTまたは「基板支持体」とが同期して走査されている間に、パターンが付与された放射線ビームがターゲット部分Cに投影される(すなわち単一の動的露光)。マスクテーブルMTまたは「マスク支持体」に対する基板テーブルWTまたは「基板支持体」の方向および速度は、投影システムPSの拡大(縮小)および像反転特性によって決めうる。スキャンモードでは、露光フィールドの最大サイズによって単一の動的露光時のターゲット部分の幅(非スキャン方向)が制限される一方で、走査動作の長さによってターゲット部分の高さ(スキャン方向)が決まる。
3.別のモードでは、マスクテーブルMTまたは「マスク支持体」が基本的に静止状態でプログラマブルパターニングデバイスを保持し、基板テーブルWTまたは「基板支持体」が移動または走査されている間に、パターンが付与された放射線ビームがターゲット部分Cに投影される。このモードでは、通常、パルス光源が使用され、基板テーブルWTまたは「基板支持体」の各移動後、または走査中の連続する放射光パルスの間に、必要に応じてプログラマブルパターニングデバイスが更新される。この作動モードは、上で言及した形式のプログラマブルミラー配列などのプログラマブルパターニングデバイスを使用するマスクレスリソグラフィにも容易に適用できる。
xは、x=0に対するステージ(MB)の移動量である(例えば±0.15)。
E=EMF−EST
EMFは、メトロロジーフレーム(MF)の膨張量である。
ESTは、基板テーブル(ST)の膨張量である。
Pは、ビーム長あたりの屈折率のグローバルな変化の影響である。
L0は、ビームの公称距離である(例えば、ステージx=0、すなわち中心位置においては、0.32)。
εは、ビーム長あたりの屈折率のローカルな変化の影響のh乗である。
hは、ローカル変動とビーム長との間の関係である。経験的実験は、例えば0.5〜1.0を示し、典型的には〜0.7である。
xmax=L0
であり、この測定値は、屈折率のグローバルな変化の影響を全く受けなくなる。ただし、測定値には膨張(E)が含まれている。特に、基板テーブル1が遠い位置(すなわち、中心位置から離れた位置)にあるときに顕著である。ただし、この例では、膨張による誤差も2分の1(0.15/0.32)に減っている。さらに、フレーム5および基板テーブル1の膨張は、フレームおよび基板テーブルの調整によって制御することができる。この調整は、干渉計の信号が通過する気体/空気の調整に比べ、比較的簡単である。
Claims (14)
- パターンが付与された放射線ビームを基板のターゲット部分に投影するように構成された投影システムと、
移動可能な物体の少なくとも一方向における位置を求めるように構成されたており、前記移動可能な物体の一方の側から離して配置された少なくとも第1のセンサと、前記移動可能な物体の反対の側から離して配置された少なくとも第2のセンサとを備える位置測定システムと、
前記第1のセンサおよび前記第2のセンサによって測定された距離に基づき、前記移動可能な物体の前記方向における位置を計算するように構成されている計算デバイスと
を備えるリソグラフィ装置。 - 前記計算デバイスが前記測定されたそれぞれの距離から共通の測定線上の対応距離を計算するように構成されている請求項1記載のリソグラフィ装置。
- 前記第1および第2のセンサの少なくとも1つが前記測定線上に実質的に配置されている請求項2記載のリソグラフィ装置。
- 前記位置測定システムが、前記移動可能な物体の少なくとも一方の側から離して配置され、それぞれ測定した距離を提供するように構成された2つまたはそれ以上のセンサを備え、
前記計算デバイスが、前記2つまたはそれ以上のセンサの測定距離に基づき、前記移動可能な物体の一方の側の前記測定線上における位置を求めるように構成されている
請求項2記載のリソグラフィ装置。 - 前記少なくとも2つのセンサが光学センサである請求項1記載のリソグラフィ装置。
- 前記少なくとも2つのセンサが干渉計である請求項1記載のリソグラフィ装置。
- 前記移動可能な物体が、基板を支持するように構成されている基板テーブル、パターニングデバイスを支持するように構成されているパターニングデバイス支持体、および前記投影システムのレンズコラムのうちの1つである請求項1記載のリソグラフィ装置。
- 前記位置測定システムが、前記移動可能な物体の第2の方向における位置を求めるために、前記移動可能な物体の対向する他の2つの側に配置された少なくとも2つの更なるセンサを備え、
前記計算デバイスが、前記少なくとも2つの更なるセンサによって測定された距離に基づき、前記移動可能な物体の前記第2の方向における位置を計算するように構成されている
請求項1記載のリソグラフィ装置。 - パターニングデバイスから基板にパターンを転写するステップを含むデバイス製造方法であって、
移動可能な物体の一方の側から離して配置された少なくとも第1のセンサと、移動可能な物体の反対の側から離して配置された少なくとも第2のセンサとを備える位置測定システムを用いて、移動可能な物体のある方向における位置を求め、
前記移動可能な物体と前記第1のセンサとの間の第1の測定距離を前記第1のセンサによって測定するステップと、
前記移動可能な物体と前記第2のセンサとの間の第2の測定距離を前記第2のセンサによって測定するステップと、
前記第1および第2の測定距離に基づき、前記移動可能な物体の前記方向における計算位置を計算するステップと、を含む方法。 - 前記位置測定システムのキャリブレーションに基づき、前記測定距離のそれぞれを、対応する測定線に投影された距離に再計算する請求項9記載の方法。
- 前記計算位置が、前記少なくとも第1のセンサと前記移動可能な物体との間の測定距離と、前記少なくとも第2のセンサと前記移動可能な物体との間の測定距離の差に基づく請求項9記載の方法。
- 前記計算位置が、前記少なくとも第1のセンサと前記移動可能な物体との間の測定距離と、前記少なくとも第2のセンサと前記移動可能な物体との間の測定距離の重み付けされた差に基づく請求項9記載の方法。
- 前記重み付けされた差が、前記移動可能な物体の位置に基づき重み付けされている請求項12記載の方法。
- 前記移動可能な物体の中心位置を前記方向において求めるために、前記移動可能な物体の両側で測定された位置を表す信号を用いて、前記少なくとも第1および第2のセンサが取り付けられているフレームおよび/または前記移動可能な物体の膨張を求める請求項9記載の方法。
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