CN102736423B - 承物台、误差补偿测量装置及误差补偿方法 - Google Patents

Abstract

本发明涉及承物台、误差补偿测量装置及误差补偿方法，所述误差补偿测量装置包括承物台、激光器、第一多轴激光干涉仪、第二多轴激光干涉仪、第一单轴差分激光干涉仪、第二单轴差分激光干涉仪以及光学镜组；所述第一多轴激光干涉仪设置在所述本体靠近所述第二反射面的一侧，所述第二多轴激光干涉仪设置在所述本体靠近所述第一反射面的一侧，所述第一单轴差分激光干涉仪设置在所述本体靠近所述第三反射面的一侧，所述第二单轴差分激光干涉仪设置在所述本体靠近所述第四反射面的一侧；所述光学镜组将所述激光器发射的光束分成多束，并分别射入所述第一多轴激光干涉仪、第二多轴激光干涉仪、第一单轴差分激光干涉仪和第二单轴差分激光干涉仪。

Description

承物台、误差补偿测量装置及误差补偿方法

技术领域

本发明涉及微电子装备，尤其涉及一种承物台、误差补偿测量装置及误差补偿方法。

背景技术

随着半导体集成电路集成度的提高，集成电路的特征尺寸越来越小，而集成电路的特征尺寸将最终由光学投影装置决定，光学投影装置作为集成电路制造工艺中的重要设备，其精度对光刻工艺有着非常重要的影响。实现高精度光刻工艺的关键技术之一是曝光，其精度直接影响光刻机的套刻精度与良率，而实现高精度的曝光必须精确地控制承物台的位置。

通常，光刻机采用平面镜干涉仪测量承物台在水平面内的位置，平面镜干涉仪发出测量光束入射承物台侧壁上的反射面，并经反射面反射回平面镜干涉仪的接收器，由多普勒原理算出承物台的位置变化并实时反馈到运动控制系统，以确保曝光位置的准确。

但是承物台工作在高温环境下，其在工作过程中会发生形变，为精确获得承物台上对准标记的位置变化，需要对平面镜干涉仪测得的承物台的位置变化进行误差补偿，现有技术的误差补偿方法是：第一，承物台选用超低膨胀系数的材料制作；第二，在承物台附近布置高精度温度传感器测出承物台区域的温度变化，然后根据经验公式进行补偿。

现有技术的误差补偿方法有以下缺点：

1、由于光刻机内部空间的限制，温度传感器测量的只是某一点处的温度变化，而不是承物台整个区域的温度变化，这种以点带面的测量结果存在误差；

2、计算承物台热变形使用的是经验公式，膨胀系数为理想值，而不是该材料膨胀系数的真实值，从而引入计算误差；

3、超低膨胀系数的材料非常昂贵，制造成本高。

发明内容

本发明的目的在于提供一种承物台、误差补偿测量装置及误差补偿方法，对承物台因环境变化引起的形变进行精确测量，并根据精确测得的形变对承物台上测量点的位置变化进行误差补偿，大大减小了误差。

为了达到上述的目的，本发明提供一种承物台，包括本体、第一长条反射镜和第二长条反射镜；所述本体设有第一反射面、第二反射面、第三反射面和第四反射面，所述第一反射面、第二反射面、第三反射面和第四反射面依次首尾相连；所述第一长条反射镜设置在所述第一反射面上，靠近所述第一反射面的一边，且突出在所述第一反射面外，所述第二长条反射镜设置在所述第二反射面上，靠近所述第二反射面的一边，且突出在所述第二反射面外，且与所述第一长条反射镜相邻；所述第一长条反射镜的反射面平行于所述第三反射面，且与所述第三反射面的朝向相同；所述第二长条反射镜的反射面平行于所述第四反射面，且与所述第四反射面的朝向相同。

上述承物台，其中，所述第三反射面与所述第一反射面相互平行，所述第四反射面与所述第二反射面相互平行。

上述承物台，其中，所述承物台采用玻璃或者陶瓷材料制成。

上述承物台，其中，所述本体、第一长条反射镜和第二长条反射镜均为长方体。

本发明提供的另一技术方案是一种误差补偿测量装置，包括上述承物台、激光器、第一多轴激光干涉仪、第二多轴激光干涉仪、第一单轴差分激光干涉仪、第二单轴差分激光干涉仪以及用于分光束的光学镜组；所述第一多轴激光干涉仪设置在所述承物台的本体靠近所述第二反射面的一侧，所述第二多轴激光干涉仪设置在所述本体靠近所述第一反射面的一侧，所述第一单轴差分激光干涉仪设置在所述本体靠近所述第三反射面的一侧，所述第二单轴差分激光干涉仪设置在所述本体靠近所述第四反射面的一侧；所述光学镜组将所述所述激光器发射的光束分成多束，并分别射入所述第一多轴激光干涉仪、第二多轴激光干涉仪、第一单轴差分激光干涉仪和第二单轴差分激光干涉仪。

上述误差补偿测量装置，其中，所述光学镜组包括第一分光镜、第二分光镜、第三分光镜、第一反射镜组和第二反射镜组；所述第一分光镜设置在所述激光器的发射口处，将所述激光器发射的光束分成第一光束和第二光束；所述第二分光镜设置在所述第一光束的前行方向上，将所述第一光束分成第三光束和第四光束，所述第三光束入射所述第一多轴激光干涉仪，所述第四光束经所述第一反射镜组后入射所述第二多轴激光干涉仪；所述第三分光镜将所述第二光束分成第五光束和第六光束，所述第五光束入射所述第一单轴差分激光干涉仪，所述第六光束经所述第二反射镜组后入射所述第二单轴差分激光干涉仪。

上述误差补偿测量装置，其中，所述第一多轴激光干涉仪和第二多轴激光干涉仪测量所述承物台的位置变化，所述第一单轴差分激光干涉仪和第二单轴差分激光干涉仪测量所述承物台因环境变化引起的形变。

上述误差补偿测量装置，其中，所述第一多轴激光干涉仪发出第一测量光束，所述第一测量光束入射到所述第二反射面上，经所述第二反射面反射回所述第一多轴激光干涉仪，由所述第一多轴激光干涉仪测量出所述承物台在第一方向上的位移量；所述所述第二多轴激光干涉仪发出第二测量光束，所述第二测量光束入射到所述第一反射面上，经所述第一反射面反射回所述第二多轴激光干涉仪，由所述第二多轴激光干涉仪测量出所述承物台在第二方向上的位移量；所述第一单轴差分激光干涉仪发出第一参考光束和第三测量光束，所述第一参考光束入射到所述第三反面上，经所述第三反面反射回所述第一单轴差分激光干涉仪，所述第三测量光束入射到所述第一长条反射镜的反射面上，经所述第一长条反射镜的反射面反射回所述第一单轴差分激光干涉仪，由所述第一单轴差分激光干涉仪测量出所述承物台在所述第一方向上的形变量；所述第二单轴差分激光干涉仪发出第二参考光束和第四测量光束，所述第二参考光束入射到所述第四反面上，经所述第四反面反射回所述第二单轴差分激光干涉仪，所述第四测量光束入射到所述第二长条反射镜的反射面上，经所述第二长条反射镜的反射面反射回所述第二单轴差分激光干涉仪，由所述第二单轴差分激光干涉仪测量出所述承物台在所述第二方向上的形变量；所述第二方向垂直于所述第一方向。

本发明还提供一种技术方案：一种确定承物台上测量点的位置变化的误差补偿方法，使用上述误差补偿测量装置，所述承物台位于光刻机的物镜下，所述误差补偿方法包括以下步骤：测量所述承物台在第一方向及第二方向上的长度L_x和L_y，其中，L_x表示所述承物台在第一方向上的长度，L_y表示所述承物台在第二方向上的长度，所述第二方向垂直于所述第一方向；测量所述承物台上的测量点在初位置处与O点之间的距离，其中，所述O点是光刻机的物镜的光轴在所述承物台上的投影；所述承物台移动至末位置，由所述第一多轴激光干涉仪和第二多轴激光干涉仪测量出所述承物台的位置变化，由所述第一单轴差分激光干涉仪和第二单轴差分激光干涉仪测量出所述承物台因环境变化引起的形变量；采用公式 $L_{\mathrm{Ax}}=L_{2x}-\frac{\left({2\mathrm{\ΔL}}_x\right)}{L_x}\×L_{1x}$ 和 $L_{\mathrm{Ay}}=L_{2y}-\frac{\left({2\mathrm{\ΔL}}_y\right)}{L_y}\×L_{1y}$ 计算所述测量点从初位置到末位置的位置变化，其中，L_Ax表示所述测量点在所述第一方向上的位移量，L_2x表示所述承物台在所述第一方向上的位移量，(2ΔL_x)表示所述承物台因环境变化引起的、在所述第一方向上的形变量，L_1x表示所述测量点与所述O点之间的距离在所述第一方向上的分量，L_Ay表示所述测量点在所述第二方向上的位移量，L_2y表示所述承物台在所述第二方向上的位移量，(2ΔL_y)表示所述承物台因环境变化引起的、在所述第二方向上的形变量，L_1y表示所述测量点与所述O点之间的距离在所述第二方向上的分量。

本发明的承物台、误差补偿测量装置及误差补偿方法，在承物台上增设第三反射面和第五反射面、以及第四反射面和第六反射面，采用精密测量仪器第一单轴差分激光干涉仪和第二单轴差分激光干涉仪测量出承物台因环境变化引起的形变量，用精密测量出的形变量进行误差补偿，因此，本发明与现有技术相比，误差大大减小了，计算精确度大大提高了；

本发明的承物台、误差补偿测量装置及误差补偿方法，由于可精确测量出承物台因环境变化引起的形变量，承物台可采用玻璃或陶瓷材料制作，节约了制造成本。

附图说明

本发明的承物台、误差补偿测量装置及误差补偿方法由以下的实施例及附图给出。

图1是本发明承物台的结构示意图。

图2是图1中的承物台翻转180度后的示意图。

图3是本发明误差补偿测量装置的示意图。

图4是图3中的误差补偿测量装置翻转180度后的示意图。

图5是对承物台上测量点的位置变化进行误差补偿计算的理想模型示意图。

具体实施方式

以下将结合图1～图5对本发明的承物台、误差补偿测量装置及误差补偿方法作进一步的详细描述。

参见图1和图2，本发明的承物台包括本体110、第一长条反射镜120和第二长条反射镜130；

所述本体110设有第一反射面111、第二反射面112、第三反射面113和第四反射面114；

所述第一反射面111、第二反射面112、第三反射面113和第四反射面114依次首尾相连，形成所述本体110的四个侧面，即所述第二反射面112与所述第一反射面111相邻，所述第三反射面113与所述第二反射面112相邻，所述第四反射面114分别与所述第三反射面113、所述第一反射面111相邻；

所述第三反射面113与所述第一反射面111相互平行，所述第四反射面114与所述第二反射面112相互平行；

所述第一长条反射镜120设置在所述第一反射面111上，靠近所述第一反射面111的一边，且突出在所述第一反射面111外，所述第二长条反射镜130设置在所述第二反射面112上，靠近所述第二反射面112的一边，且突出在所述第二反射面112外，且与所述第一长条反射镜120相邻；

所述第一长条反射镜120的反射面121为本发明承物台的第五反射面，所述第五反射面121平行于所述第三反射面113，且所述第五反射面121的朝向与所述第三反射面113的朝向相同，即所述第五反射面121的法线方向与所述第三反射面113的法线方向相同；

所述第二长条反射镜130的反射面131为本发明承物台的第六反射面，所述第六反射面131平行于所述第四反射面114，且所述第六反射面131的朝向与所述第四反射面114的朝向相同，即所述第六反射面131的法线方向与所述第四反射面114的法线方向相同。

本发明一较佳实施例中，所述本体110为长方体，所述第一反射面111、第二反射面112、第三反射面113和第四反射面114为所述长发体的四个侧表面，所述第一长条反射镜120和第二长条反射镜130均为有一个表面为反射面的长方体。

本发明承物台中，所述第一反射面111和第二反射面112用于测量本发明承物台的位置变化，所述第三反射面113、第四反射面114、第五反射面121和第六反射面131用于测量本发明承物台因环境变化引起的形变，测得的形变用于误差补偿，以精确获得承物台上测量点的位置变化。

如图3所示，以与所述第一反射面111、第二反射面112、第三反射面113和第四反射面114均垂直的平面为XY平面，建立三维坐标系，将右手拇指指向Z轴正方向，其余四指握拳，其余四指握拳的方向定义为Rz方向，将右手拇指指向Y轴正方向，其余四指握拳，其余四指握拳的方向定义为Ry方向，将右手拇指指向X轴正方向，其余四指握拳，其余四指握拳的方向定义为Rx方向；

所述承物台的本体110的第一反射面111、第三反射面113和第五反射面121均平行于X轴，所述第二反射面112、第四反射面114和第六反射面131均平行于Y轴。

参见图3和图4，一种误差补偿测量装置，用于精确测量承物台上测量点的位置变化，所述误差补偿测量装置包括：上述承物台100、激光器200、第一分光镜310、第二分光镜320、第三分光镜330、第一反射镜410、第二反射镜420、第三反射镜430、第一多轴激光干涉仪510、第二多轴激光干涉仪520、第一单轴差分激光干涉仪610和第二单轴差分激光干涉仪620；

所述第一多轴激光干涉仪510设置在所述承物台100的本体110靠近所述第二反射面112的一侧，所述第二多轴激光干涉仪520设置在所述本体110靠近所述第一反射面111的一侧，所述第一单轴差分激光干涉仪610设置在所述本体110靠近所述第三反射面113的一侧，所述第二单轴差分激光干涉仪620设置在所述本体110靠近所述第四反射面114的一侧；

所述第一分光镜310设置在所述激光器200的发射口处，所述第一分光镜310将所述激光器200发射的光束分成两束，即第一光束710和第二光束720，所述第一光束710与所述第二光束720相互垂直，且所述第一光束710平行于Y轴，所述第二光束720平行于X轴；

所述第二分光镜320和第一反射镜410依次设置在所述第一光束710的前行方向上，所述第二分光镜320将所述第一光束710分成两束，即第三光束730和第四光束740，所述第三光束730与所述第四光束740相互垂直，且所述第三光束730平行于Y轴，所述第四光束740平行于X轴；

所述第四光束740入射所述第一多轴激光干涉仪510，由所述第一多轴激光干涉仪510发出第一测量光束，所述第一测量光束入射到所述本体110的第二反射面112上，经所述第二反射面112反射回所述第一多轴激光干涉仪510，如图3所示；

所述第一多轴激光干涉仪510可测量出所述承物台100在X轴方向、Ry方向及Rz方向的位置变化；

而所述第三光束730入射到所述第一反射镜410上，所述第一反射镜410用于改变所述第三光束730的传播方向，使所述第三光束730的传播方向由平行于Y轴的方向改变为平行于X轴的方向；

所述第三光束730经所述第一反射镜410作用后入射所述第二多轴激光干涉仪520，由所述第二多轴激光干涉仪520发出第二测量光束，所述第二测量光束入射到所述本体110的第一反射面111上，经所述第一反射面111反射回所述第二多轴激光干涉仪520，如图3所示；

所述第二多轴激光干涉仪520可测量出所述承物台100在Y轴方向、Rx方向及Rz方向上的位置变化；

所述第三分光镜330和第二反射镜420依次设置在所述第二光束720的前行方向上，所述第三分光镜330将所述第二光束720分成两束，即第五光束750和第六光束760，所述第五光束750与所述第六光束760相互垂直，且所述第五光束750平行于Y轴，所述第六光束760平行于X轴；

所述第五光束750入射所述第一单轴差分激光干涉仪610，由所述第一单轴差分激光干涉仪610发出第一参考光束和第三测量光束，所述第一参考光束入射到所述本体110的第三反面113上，经所述第三反面113反射回所述第一单轴差分激光干涉仪610，所述第三测量光束入射到所述第一长条反射镜120的反射面121(即所述第五反射面121)上，经所述第五反射面121反射回所述第一单轴差分激光干涉仪610，如图4所示；

所述第一单轴差分激光干涉仪610可测量出所述承物台在Y轴方向上的形变量；

而所述第六光束760入射到所述第二反射镜420上，经所述第二反射镜420反射后入射到所述第三反射镜430上，所述第二反射镜420和第三反射镜430均用于改变所述第六光束760的传播方向，所述第二反射镜420使所述第六光束760的传播方向由平行于X轴的方向改变为平行于Y轴的方向，所述第三反射镜430再使第六光束760的传播方向由平行于Y轴的方向改变为平行于X轴的方向；

所述第六光束760经所述第二反射镜420和第三反射镜430的作用后入射所述第二单轴差分激光干涉仪620，由所述第二单轴差分激光干涉仪620发出第二参考光束和第四测量光束，所述第二参考光束入射到所述本体110的第四反面114上，经所述第四反面114反射回所述第二单轴差分激光干涉仪620，所述第四测量光束入射到所述第二长条反射镜130的反射面131(即所述第六反射面131)上，经所述第六反射面131反射回所述第二单轴差分激光干涉仪620，如图4所示；

所述第二单轴差分激光干涉仪620可测量出所述承物台在X轴方向上的形变量。

本发明误差补偿测量装置在承物台上增设第三反射面113和第五反射面121、以及第四反射面114和第六反射面131，采用精密测量仪器第一单轴差分激光干涉仪610和第二单轴差分激光干涉仪620测量出承物台因环境变化引起的形变量，用精密测量出的形变量进行误差补偿，而现有技术中，用承物台某一点处的温度变化代替承物台整个区域的温度变化，用经验公式计算形变量，用经验公式计算得到的形变量进行误差补偿，因此，本发明与现有技术相比，误差大大减小了，计算精确度大大提高了；

由于本发明误差补偿测量装置可精确测量出承物台因环境变化引起的形变量，承物台可采用玻璃或陶瓷材料制作，节约了制造成本。

如图5所示，所述承物台100位于光刻机的物镜下，光刻机的物镜的光轴在所述承物台100上的投影为O点，设所述承物台100上的A点为测量点，以精确测量出的所述承物台100的形变量进行误差补偿的方法包括以下步骤：

步骤1，测量所述承物台100在X轴及Y轴方向上的长度L_x和L_y；

步骤2，测量所述测量点A在初位置处与所述O点之间的距离；

步骤3，所述承物台100移动至末位置，由所述第一多轴激光干涉仪510和第二多轴激光干涉仪520测量出所述承物台100的位置变化，由所述第一单轴差分激光干涉仪610和第二单轴差分激光干涉仪620测量出所述承物台100因环境变化引起的形变量；

所述第一多轴激光干涉仪510测量所述承物台100在X轴方向上的位移量L_2x，所述第二多轴激光干涉仪520测量所述承物台100在Y轴方向上的位移量L_2y，所述第一单轴差分激光干涉仪610测量所述承物台100因环境变化引起的、在Y轴方向上的形变量(2ΔL_y)，所述第二单轴差分激光干涉仪620测量所述承物台100因环境变化引起的、在X轴方向上的形变量(2ΔL_x)；

步骤4，计算所述测量点A从初位置到末位置的位置变化；

即获得所述测量点A从初位置到末位置的位置变化，其中，L_1x表示所述测量点A与O点之间的距离在X轴上的分量，L_1y表示所述测量点A与O点之间的距离在Y轴上的分量。

所述承物台100因环境变化引起的形变由精密测量仪器测得，利用精确测得的形变量对测量点的位置变化进行误差补偿，误差小，计算精度高，据此可对承物台的位置进行精确控制，有利于提高光刻机曝光精度。

Claims (9)

1.一种承物台，其特征在于，包括本体、第一长条反射镜和第二长条反射镜；

所述本体设有第一反射面、第二反射面、第三反射面和第四反射面，所述第一反射面、第二反射面、第三反射面和第四反射面依次首尾相连；

所述第一长条反射镜设置在所述第一反射面上，靠近所述第一反射面的一边，且突出在所述第一反射面外，所述第二长条反射镜设置在所述第二反射面上，靠近所述第二反射面的一边，且突出在所述第二反射面外，且与所述第一长条反射镜相邻；

所述第一长条反射镜的反射面平行于所述第三反射面，且与所述第三反射面的朝向相同；

所述第二长条反射镜的反射面平行于所述第四反射面，且与所述第四反射面的朝向相同。

2.如权利要求1所述的承物台，其特征在于，所述第三反射面与所述第一反射面相互平行，所述第四反射面与所述第二反射面相互平行。

3.如权利要求1所述的承物台，其特征在于，所述承物台采用玻璃或者陶瓷材料制成。

4.如权利要求1所述的承物台，其特征在于，所述本体、第一长条反射镜和第二长条反射镜均为长方体。

5.一种误差补偿测量装置，其特征在于，包括如权利要求1～4中任一权利要求所述的承物台、激光器、第一多轴激光干涉仪、第二多轴激光干涉仪、第一单轴差分激光干涉仪、第二单轴差分激光干涉仪以及用于分光束的光学镜组；

所述第一多轴激光干涉仪设置在所述承物台的本体靠近所述第二反射面的一侧，所述第二多轴激光干涉仪设置在所述本体靠近所述第一反射面的一侧，所述第一单轴差分激光干涉仪设置在所述本体靠近所述第三反射面的一侧，所述第二单轴差分激光干涉仪设置在所述本体靠近所述第四反射面的一侧；

所述光学镜组将所述激光器发射的光束分成多束，并分别射入所述第一多轴激光干涉仪、第二多轴激光干涉仪、第一单轴差分激光干涉仪和第二单轴差分激光干涉仪。

6.如权利要求5所述的误差补偿测量装置，其特征在于，所述光学镜组包括第一分光镜、第二分光镜、第三分光镜、第一反射镜组和第二反射镜组；

所述第一分光镜设置在所述激光器的发射口处，将所述激光器发射的光束分成第一光束和第二光束；

所述第二分光镜设置在所述第一光束的前行方向上，将所述第一光束分成第三光束和第四光束，所述第三光束入射所述第一多轴激光干涉仪，所述第四光束经所述第一反射镜组后入射所述第二多轴激光干涉仪；

所述第三分光镜将所述第二光束分成第五光束和第六光束，所述第五光束入射所述第一单轴差分激光干涉仪，所述第六光束经所述第二反射镜组后入射所述第二单轴差分激光干涉仪。

7.如权利要求6所述的误差补偿测量装置，其特征在于，所述第一多轴激光干涉仪和第二多轴激光干涉仪测量所述承物台的位置变化，所述第一单轴差分激光干涉仪和第二单轴差分激光干涉仪测量所述承物台因环境变化引起的形变。

8.如权利要求6所述的误差补偿测量装置，其特征在于，所述第一多轴激光干涉仪发出第一测量光束，所述第一测量光束入射到所述第二反射面上，经所述第二反射面反射回所述第一多轴激光干涉仪，由所述第一多轴激光干涉仪测量出所述承物台在第一方向上的位移量；

所述第二多轴激光干涉仪发出第二测量光束，所述第二测量光束入射到所述第一反射面上，经所述第一反射面反射回所述第二多轴激光干涉仪，由所述第二多轴激光干涉仪测量出所述承物台在第二方向上的位移量；

所述第一单轴差分激光干涉仪发出第一参考光束和第三测量光束，所述第一参考光束入射到所述第三反射面上，经所述第三反射面反射回所述第一单轴差分激光干涉仪，所述第三测量光束入射到所述第一长条反射镜的反射面上，经所述第一长条反射镜的反射面反射回所述第一单轴差分激光干涉仪，由所述第一单轴差分激光干涉仪测量出所述承物台在所述第一方向上的形变量；

所述第二单轴差分激光干涉仪发出第二参考光束和第四测量光束，所述第二参考光束入射到所述第四反射面上，经所述第四反射面反射回所述第二单轴差分激光干涉仪，所述第四测量光束入射到所述第二长条反射镜的反射面上，经所述第二长条反射镜的反射面反射回所述第二单轴差分激光干涉仪，由所述 第二单轴差分激光干涉仪测量出所述承物台在所述第二方向上的形变量；

所述第二方向垂直于所述第一方向。

9.一种确定承物台上测量点的位置变化的误差补偿方法，使用如权利要求5所述的误差补偿测量装置，所述承物台位于光刻机的物镜下，其特征在于，所述误差补偿方法包括以下步骤：

测量所述承物台在第一方向及第二方向上的长度L_x和L_y，其中，L_x表示所述承物台在第一方向上的长度，L_y表示所述承物台在第二方向上的长度，所述第二方向垂直于所述第一方向；

测量所述承物台上的测量点在初位置处与O点之间的距离，其中，所述O点是光刻机的物镜的光轴在所述承物台上的投影；

所述承物台移动至末位置，由所述第一多轴激光干涉仪和第二多轴激光干涉仪测量出所述承物台的位置变化，由所述第一单轴差分激光干涉仪和第二单轴差分激光干涉仪测量出所述承物台因环境变化引起的形变量；

采用公式和计算所述测量点从初位置到末位置的位置变化，其中，L_Ax表示所述测量点在所述第一方向上的位移量，L_2x表示所述承物台在所述第一方向上的位移量，(2ΔL_x)表示所述承物台因环境变化引起的、在所述第一方向上的形变量，L_1x表示所述测量点与所述O点之间的距离在所述第一方向上的分量，L_Ay表示所述测量点在所述第二方向上的位移量，L_2y表示所述承物台在所述第二方向上的位移量，(2ΔL_y)表示所述承物台因环境变化引起的、在所述第二方向上的形变量，L_1y表示所述测量点与所述O点之间的距离在所述第二方向上的分量。