JP2022537718A - ミラー較正方法、位置測定方法、リソグラフィ装置、及びデバイス製造方法 - Google Patents
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Abstract
Description
[0001] 本願は、2019年7月5日出願の欧州出願第19184747.4号の優先権を主張し、その全体が参照により本明細書に組み込まれる。
a.オブジェクトが第1の回転向き及びZ方向の第1の位置にある間、Y方向のオブジェクトの複数の位置の各々についての第1の位置信号及び第2の位置信号を含む第1のデータセットを生成するステップ、
b.X方向に対して垂直な回転軸を中心とする第2の回転向きへとオブジェクトを傾斜させるステップ、
c.オブジェクトが第2の回転向き及びZ方向の第1の位置にある間、Y方向のオブジェクトの複数の位置の各々についての第1の位置信号及び第2の位置信号を含む第2のデータセットを生成するステップ、及び、
d.第1のデータセット及び第2のデータセットに基づいて、Y方向の第1のミラーの形状及び/又は第2のミラーの形状を決定するステップ。
Y方向に対して平行に延在する更なる回転軸を中心にオブジェクトを傾斜させるステップ、及び、
オブジェクトが第1の回転向きにある間、第1のデータセットが、Y方向のオブジェクトの複数の位置の各々についてZ方向の第1の位置に対応する第1の位置信号、及び、Y方向のオブジェクトの複数の位置の各々についてZ方向の第2の位置に対応する第2の位置信号を含むように、また、オブジェクトが第2の回転向きにある間、第2のデータセットが、Y方向のオブジェクトの複数の位置の各々についてZ方向の第1の位置に対応する第1の位置信号、及び、Y方向のオブジェクトの複数の位置の各々についてZ方向の第2の位置に対応する第2の位置信号を含むように、ステップdの前のステップを繰り返すステップ、
を含む。
a.Y方向のオブジェクトの位置を測定するステップ、
b.Z方向に対して平行に延在する軸を中心とするオブジェクトの回転位置を測定するステップであって、Z方向はX方向及びY方向の両方に対して垂直である、
c.Y方向の第1のミラー上の第1の測定ビームの少なくとも2つの別個の測定ロケーションの位置を決定するために、Y方向に測定された位置、及び、Z方向に対して平行な軸を中心とする測定された回転位置を使用するステップ、
d.X方向のオブジェクトの位置を測定するステップ、及び、
e.第1のミラーの形状について、X方向のオブジェクトの測定された位置を調整するために、ミラーマップと少なくとも2つの別個の測定ロケーションの決定された位置とを使用するステップ。
Z方向のオブジェクトの位置を測定するステップ、
Y方向に対して平行に延在する軸を中心とするオブジェクトの回転位置を測定するステップ、及び、
Z方向の第1のミラー上の第1の測定ビームの少なくとも2つの別個の測定ロケーションの位置を決定するために、Z方向の測定された位置、及び、Y方向に対して平行な軸を中心とする測定された回転位置を使用するステップ。
位置決めされるべきオブジェクト、
オブジェクトを位置決めするためのアクチュエータシステム、
干渉計システムを含む測定システムであって、干渉計システムは第1の干渉計及び第2の干渉計を含み、第1の干渉計は、第1のミラー上で第1の測定ビームを誘導することによって、X方向のオブジェクトの位置を表す第1の位置信号を提供するように配置され、第2の干渉計は、第2のミラー上で第2の測定ビームを誘導することによって、X方向のオブジェクトの位置を表す第2の位置信号を提供するように配置され、第1のミラー及び第2のミラーはオブジェクトの対向側に配置され、主にY方向に延在する、測定システム、及び、
測定システムの出力に基づいてアクチュエータシステムを駆動するための制御システム、
を備える、リソグラフィ装置が提供され、
制御システムは、前述のように本発明に従って、干渉計システムのミラーを較正するための方法を実施するように構成される。
放射ビームを調節するように構成された照明システム、
パターニングデバイスを支持するように構築されたサポートであって、パターニングデバイスはパターン付き放射ビームを形成するために放射の断面にパターンを付与することが可能である、サポート、
基板を保持するように構築された基板テーブル、及び、
基板のターゲット部分にパターン付き放射ビームを投影するように構成された投影システム、
を備え、オブジェクトはサポート又は基板テーブルである。
[0094]1.オブジェクトの位置を測定するように構成された干渉計システムのミラーを較正するための方法であって、干渉計システムは第1の干渉計及び第2の干渉計を含み、第1の干渉計は、第1のミラー上で第1の測定ビームを誘導することによって、X方向のオブジェクトの位置を表す第1の位置信号を提供するように配置され、第2の干渉計は、第2のミラー上で第2の測定ビームを誘導することによって、X方向のオブジェクトの位置を表す第2の位置信号を提供するように配置され、第1のミラー及び第2のミラーはオブジェクトの対向側に配置され、主にY方向に延在し、方法は、
a.オブジェクトが第1の回転向き及びZ方向の第1の位置にある間、Y方向のオブジェクトの複数の位置の各々についての第1の位置信号及び第2の位置信号を含む第1のデータセットを生成するステップ、
b.X方向に対して垂直な回転軸を中心とする第2の回転向きへとオブジェクトを傾斜させるステップ、
c.オブジェクトが第2の回転向き及びZ方向の第1の位置にある間、Y方向のオブジェクトの複数の位置の各々についての第1の位置信号及び第2の位置信号を含む第2のデータセットを生成するステップ、及び、
d.第1のデータセット及び第2のデータセットに基づいて、Y方向の第1のミラーの形状及び/又は第2のミラーの形状を決定するステップ、
を含む、方法。
[0095]2.第1及び第2の干渉計のうちの少なくとも1つはマルチパス干渉計である、条項1に記載の方法。
[0096]3.ステップdは、Y方向のオブジェクトの複数の位置のうちの1つにおける第1のデータセットの値を、Y方向のオブジェクトの複数の位置のうちの1つにおける第2のデータセットの値と比較することを含む、条項1又は2に記載の方法。
[0097]4.X方向に対して垂直な回転軸はY方向に対して垂直である、条項1から3のいずれかに記載の方法。
[0098]5.X方向に対して垂直な回転軸はY方向に対して平行である、条項1から3のいずれかに記載の方法。
[0099]6.ステップdの前のステップは、第1のデータセットが、オブジェクトが第1の回転向き及び第2の位置にある間、Y方向のオブジェクトの複数の位置の各々について、第1の位置信号及び第2の位置信号も含むように、及び、第2のデータセットが、オブジェクトが第2の回転向き及び第2の位置にある間、Y方向のオブジェクトの複数の位置の各々について、第1の位置信号及び第2の位置信号も含むように、Z方向のオブジェクトの第2の位置に対して繰り返され、ステップdにおいて、第1のデータセット及び第2のデータセットは更に、Z方向の第1のミラー及び/又は第2のミラーの形状を決定するために使用される、条項4に記載の方法。
[0100]7.方法は更に、
Y方向に対して平行に延在する更なる回転軸を中心にオブジェクトを傾斜させるステップ、及び、
オブジェクトが第1の回転向きにある間、第1のデータセットが、Y方向のオブジェクトの複数の位置の各々について、Z方向の第1の位置に対応する第1の位置信号、及び、Y方向のオブジェクトの複数の位置の各々について、Z方向の第2の位置に対応する第2の位置信号を含むように、オブジェクトが第2の回転向きにある間、第2のデータセットが、Y方向のオブジェクトの複数の位置の各々について、Z方向の第1の位置に対応する第1の位置信号、及び、Y方向のオブジェクトの複数の位置の各々について、Z方向の第2の位置に対応する第2の位置信号を含むように、ステップdの前のステップを繰り返すステップ、
を含む、条項6に記載の方法。
[0101]8.干渉計システムは第3の干渉計を含み、第3の干渉計は、第1のミラー上で第3の測定ビームを誘導することによって、X方向のオブジェクトの位置を表す第3の位置信号を提供するように配置され、第1及び第3の干渉計の組み合わせによって、Z方向に対して平行に延在する軸を中心とするオブジェクトの回転を測定することが可能であり、ステップdの前の方法は、オブジェクトが、第1、第2、及び第3の干渉計以外の他のセンサを使用して、Z方向に対して平行な軸を中心とする一定の回転向きで維持される間、Y方向のオブジェクトの複数の位置の各々についての第1の位置信号及び第3の位置信号を含む第3のデータセットを生成するステップを含み、ステップdにおいて、Y方向の第1のミラーの形状を決定するために第3のデータセットが使用される、条項1から7のいずれかに記載の方法。
[0102]9.第1の干渉計を含む干渉計システムを使用して、オブジェクトの位置を測定するための方法であって、第1の干渉計は、第1の光学システム及び第1のミラーを有するマルチパス干渉計であり、第1の光学システムは、第1の測定ビームが少なくとも2つの別個の測定ロケーションにおいて第1のミラーに入射するように、第1の測定ビームを第1のミラーに向けて誘導するように構成され、第1のミラーは、オブジェクト上に配置され、第1の干渉計が、Y方向に対して垂直なX方向にオブジェクトの位置を測定できるようにするために主にY方向に延在し、方法は、Y方向の第1のミラーの形状を表すデータを含むミラーマップを使用し、方法は、
a.Y方向のオブジェクトの位置を測定するステップ、
b.Z方向に対して平行に延在する軸を中心とするオブジェクトの回転位置を測定するステップであって、Z方向はX方向及びY方向の両方に対して垂直である、回転位置を測定するステップ、
c.Y方向の第1のミラー上の第1の測定ビームの少なくとも2つの別個の測定ロケーションの位置を決定するために、Y方向の測定された位置、及び、Z方向に対して平行な軸を中心とする測定された回転位置を使用するステップ、
d.X方向のオブジェクトの位置を測定するステップ、及び、
e.第1のミラーの形状について、X方向のオブジェクトの測定された位置を調整するために、ミラーマップと少なくとも2つの別個の測定ロケーションの決定された位置とを使用するステップ、
を含む、方法。
[0103]10.干渉計は第2の干渉計を含み、第2の干渉計は、第2の光学システム及び第2のミラーを有するマルチパス干渉計であり、第2の光学システムは、第2の測定ビームが少なくとも2つの別個の測定ロケーションにおいて第2のミラーに入射するように、第2の測定ビームを第2のミラーに向けて誘導するように構成され、第2のミラーは、第1のミラーの反対側のオブジェクト上に配置され、第2の干渉計が、X方向にオブジェクトの位置を測定できるようにするために主にY方向に延在し、ミラーマップは、条項1から4のいずれかに記載の方法を使用して取得される、条項9に記載の方法。
[0104]11.ミラーマップは、Z方向に第1のミラーの形状を表すデータを含み、ステップeの前の方法は、
Z方向のオブジェクトの位置を測定するステップ、
Y方向に対して平行に延在する軸を中心とするオブジェクトの回転位置を測定するステップ、及び、
Z方向の第1のミラー上の第1の測定ビームの少なくとも2つの別個の測定ロケーションの位置を決定するために、Z方向の測定された位置、及び、Y方向に対して平行な軸を中心とする測定された回転位置を使用するステップ、
を含む、条項9又は10に記載の方法。
[0105]12.ミラーマップは、条項6又は7に記載の方法を使用して取得される、条項11に記載の方法。
[0106]13.位置決めされるべきオブジェクト、
オブジェクトを位置決めするためのアクチュエータシステム、
干渉計システムを含む測定システムであって、干渉計システムは第1の干渉計及び第2の干渉計を含み、第1の干渉計は、第1のミラー上で第1の測定ビームを誘導することによって、X方向のオブジェクトの位置を表す第1の位置信号を提供するように配置され、第2の干渉計は、第2のミラー上で第2の測定ビームを誘導することによって、X方向のオブジェクトの位置を表す第2の位置信号を提供するように配置され、第1のミラー及び第2のミラーはオブジェクトの対向側に配置され、主にY方向に延在する、測定システム、及び、
測定システムの出力に基づいてアクチュエータシステムを駆動するための制御システム、
を備える、リソグラフィ装置であって、
制御システムは、条項1から8のいずれかに記載の方法を実施するように構成される、
リソグラフィ装置。
[0107]14.更に、
放射ビームを調節するように構成された照明システム、
パターニングデバイスを支持するように構築されたサポートであって、パターニングデバイスはパターン付き放射ビームを形成するために放射の断面にパターンを付与することが可能である、サポート、
基板を保持するように構築された基板テーブル、及び、
基板のターゲット部分にパターン付き放射ビームを投影するように構成された投影システム、
を備え、
オブジェクトはサポート又は基板テーブルである。
条項13に記載のリソグラフィ装置。
[0108]15.条項13又は14に記載のリソグラフィ装置を使用する、デバイス製造方法。
Claims (21)
- オブジェクトの位置を測定するように構成された干渉計システムのミラーを較正するための方法であって、干渉計システムは第1の干渉計及び第2の干渉計を含み、前記第1の干渉計は、第1のミラー上で第1の測定ビームを誘導することによって、X方向の前記オブジェクトの位置を表す第1の位置信号を提供するように配置され、前記第2の干渉計は、第2のミラー上で第2の測定ビームを誘導することによって、X方向の前記オブジェクトの前記位置を表す第2の位置信号を提供するように配置され、前記第1のミラー及び前記第2のミラーは前記オブジェクトの対向側に配置され、Y方向に延在し、前記方法は、
a.前記オブジェクトが第1の回転向き及びZ方向の第1の位置にある間、前記Y方向の前記オブジェクトの複数の位置の各々についての前記第1の位置信号及び前記第2の位置信号を含む第1のデータセットを生成するステップ、
b.前記X方向に対して垂直な回転軸を中心とする第2の回転向きへと前記オブジェクトを傾斜させるステップ、
c.前記オブジェクトが前記第2の回転向き及び前記Z方向の前記第1の位置にある間、前記Y方向の前記オブジェクトの複数の位置の各々についての前記第1の位置信号及び前記第2の位置信号を含む第2のデータセットを生成するステップ、及び、
d.前記第1のデータセット及び前記第2のデータセットに基づいて、前記Y方向の前記第1のミラーの形状及び/又は前記第2のミラーの形状を決定するステップ、
を含む、方法。 - ステップaの間、前記Y方向の前記オブジェクトの前記複数の位置は、結果として、前記第1のミラー上の測定ロケーションと前記第2のミラー上の測定ロケーションとの間の、前記第1のデータセットにおける第1のペアリング構成を生じさせ、前記第2のデータセットは、前記第1のミラー上の測定ロケーションと前記第2のミラー上の測定ロケーションとの間の、第2のペアリング構成を含むことになり、前記第2のペアリング構成は前記第1のペアリング構成とは異なる、請求項1に記載の方法。
- ステップcで使用されるY方向の前記オブジェクトの前記複数の位置は、前記第2のデータセットが、前記第1のデータセット内にもある前記第1及び第2のミラー上の測定ロケーションを含むように選択される、請求項2に記載の方法。
- 前記第1及び第2の干渉計のうちの少なくとも1つはマルチパス干渉計である、請求項1から3のいずれかに記載の方法。
- ステップdは、前記Y方向の前記オブジェクトの前記複数の位置のうちの1つにおける前記第1のデータセットの値を、前記Y方向の前記オブジェクトの前記複数の位置のうちの1つにおける前記第2のデータセットの値と比較することを含む、請求項1から4のいずれかに記載の方法。
- ステップdは、前記第1のデータセット及び前記第2のデータセットから構築される線形最小二乗システムを解決することを含む、請求項1から5のいずれかに記載の方法。
- 前記線形最小二乗システムは非線形最小二乗解法に組み込まれ、各反復修正について、前記第1及び/又は第2の干渉計のピッチ誤差の値が決定され、結果として前記線形システムの更新が生じ、前記線形システムは前記ピッチ誤差値が収束すると解決される、請求項6に記載の方法。
- ステップbは、前記第2の回転向きに対する前記オブジェクトの傾斜によって生じる前記第1及び第2の干渉計以外の位置センサの測定ロケーションにおけるシフトについて補償するための、前記オブジェクトの平行移動を含む、請求項1から7のいずれかに記載の方法。
- 前記X方向に対して垂直な前記回転軸は前記Y方向に対して垂直である、請求項1から8のいずれかに記載の方法。
- 前記X方向に対して垂直な前記回転軸は前記Y方向に対して平行である、請求項1から8のいずれかに記載の方法。
- ステップdの前のステップは、前記第1のデータセットが、前記オブジェクトが前記第1の回転向き及び前記第2の位置にある間、前記Y方向の前記オブジェクトの前記複数の位置の各々について、前記第1の位置信号及び前記第2の位置信号も含むように、及び、前記第2のデータセットが、前記オブジェクトが前記第2の回転向き及び前記第2の位置にある間、前記Y方向の前記オブジェクトの前記複数の位置の各々について、前記第1の位置信号及び前記第2の位置信号も含むように、Z方向の前記オブジェクトの第2の位置に対して繰り返され、ステップdにおいて、前記第1のデータセット及び前記第2のデータセットは更に、Z方向の前記第1のミラー及び/又は前記第2のミラーの形状を決定するために使用される、請求項9に記載の方法。
- 前記方法は更に、
前記Y方向に対して平行に延在する更なる回転軸を中心に前記オブジェクトを傾斜させるステップ、及び、
前記オブジェクトが前記第1の回転向きにある間、前記第1のデータセットが、前記Y方向の前記オブジェクトの前記複数の位置の各々について、前記Z方向の前記第1の位置に対応する前記第1の位置信号、及び、前記Y方向の前記オブジェクトの前記複数の位置の各々について、前記Z方向の前記第2の位置に対応する前記第2の位置信号を含むように、前記オブジェクトが前記第2の回転向きにある間、前記第2のデータセットが、前記Y方向の前記オブジェクトの前記複数の位置の各々について、前記Z方向の前記第1の位置に対応する前記第1の位置信号、及び、前記Y方向の前記オブジェクトの前記複数の位置の各々について、前記Z方向の前記第2の位置に対応する前記第2の位置信号を含むように、ステップdの前の前記ステップを繰り返すステップ、
を含む、請求項11に記載の方法。 - 前記干渉計システムは第3の干渉計を含み、前記第3の干渉計は、前記第1のミラー上で第3の測定ビームを誘導することによって、X方向の前記オブジェクトの前記位置を表す第3の位置信号を提供するように配置され、前記第1及び前記第3の干渉計の組み合わせによって、前記Z方向に対して平行に延在する軸を中心とする前記オブジェクトの回転を測定することが可能であり、ステップdの前の方法は、前記オブジェクトが、第1、第2、及び第3の干渉計以外の他のセンサを使用して、前記Z方向に対して平行な前記軸を中心とする一定の回転向きで維持される間、前記Y方向の前記オブジェクトの前記複数の位置の各々についての前記第1の位置信号及び前記第3の位置信号を含む第3のデータセットを生成するステップを含み、ステップdにおいて、Y方向の前記第1のミラーの前記形状を決定するために前記第3のデータセットが使用される、請求項1から12のいずれかに記載の方法。
- 前記干渉計は更なる干渉計を含み、前記更なる干渉計は、更なる測定ビームを前記オブジェクト上の更なるミラーを介して外部ミラーへ誘導することによって、X及びZの両方向の前記オブジェクトの前記位置を表す更なる位置信号を提供するように配置され、前記オブジェクト上の前記更なるミラーはY方向に延在し、前記X及びYの両方向と非ゼロの角度を作り、前記更なるミラーは、前記更なる位置信号及び前記第1の位置信号を使用して取得されたZ方向の位置測定の精度を上昇させる目的で、前記第1のミラーと共に較正される、請求項1から13のいずれかに記載の方法。
- 第1の干渉計を含む干渉計システムを使用して、オブジェクトの位置を測定するための方法であって、前記第1の干渉計は、第1の光学システム及び第1のミラーを有するマルチパス干渉計であり、前記第1の光学システムは、第1の測定ビームが少なくとも2つの別個の測定ロケーションにおいて前記第1のミラーに入射するように、前記第1の測定ビームを前記第1のミラーに向けて誘導するように構成され、前記第1のミラーは、前記オブジェクト上に配置され、前記第1の干渉計が、前記Y方向に対して垂直なX方向に前記オブジェクトの位置を測定できるようにするために主にY方向に延在し、前記方法は、前記Y方向の前記第1のミラーの前記形状を表すデータを含むミラーマップを使用し、前記方法は、
a.前記Y方向の前記オブジェクトの位置を測定するステップ、
b.Z方向に対して平行に延在する軸を中心とする前記オブジェクトの回転位置を測定するステップであって、Z方向は前記X方向及び前記Y方向の両方に対して垂直である、回転位置を測定するステップ、
c.前記Y方向の前記第1のミラー上の前記第1の測定ビームの前記少なくとも2つの別個の測定ロケーションの前記位置を決定するために、前記Y方向の前記測定された位置、及び、前記Z方向に対して平行な前記軸を中心とする前記測定された回転位置を使用するステップ、
d.前記X方向の前記オブジェクトの位置を測定するステップ、及び、
e.前記第1のミラーの前記形状について、前記X方向の前記オブジェクトの前記測定された位置を調整するために、前記ミラーマップと前記少なくとも2つの別個の測定ロケーションの前記決定された位置とを使用するステップ、
を含む、方法。 - 前記干渉計は第2の干渉計を含み、前記第2の干渉計は、第2の光学システム及び第2のミラーを有するマルチパス干渉計であり、前記第2の光学システムは、前記第2の測定ビームが少なくとも2つの別個の測定ロケーションにおいて前記第2のミラーに入射するように、第2の測定ビームを前記第2のミラーに向けて誘導するように構成され、前記第2のミラーは、前記第1のミラーの反対側の前記オブジェクト上に配置され、前記第2の干渉計が、前記X方向に前記オブジェクトの位置を測定できるようにするために主に前記Y方向に延在し、前記ミラーマップは、請求項1から9のいずれかに記載の方法を使用して取得される、請求項15に記載の方法。
- 前記ミラーマップは、前記Z方向に前記第1のミラーの前記形状を表すデータを含み、ステップeの前の方法は、
前記Z方向の前記オブジェクトの位置を測定するステップ、
前記Y方向に対して平行に延在する軸を中心とする前記オブジェクトの回転位置を測定するステップ、及び、
前記Z方向の前記第1のミラー上の前記第1の測定ビームの前記少なくとも2つの別個の測定ロケーションの前記位置を決定するために、前記Z方向の前記測定された位置、及び、前記Y方向に対して平行な前記軸を中心とする前記測定された回転位置を使用するステップ、
を含む、請求項15又は16に記載の方法。 - 前記ミラーマップは、請求項11又は12に記載の方法を使用して取得される、請求項17に記載の方法。
- 位置決めされるべきオブジェクト、
前記オブジェクトを位置決めするためのアクチュエータシステム、
干渉計システムを含む測定システムであって、干渉計システムは第1の干渉計及び第2の干渉計を含み、前記第1の干渉計は、第1のミラー上で第1の測定ビームを誘導することによって、X方向の前記オブジェクトの位置を表す第1の位置信号を提供するように配置され、前記第2の干渉計は、第2のミラー上で第2の測定ビームを誘導することによって、X方向の前記オブジェクトの前記位置を表す第2の位置信号を提供するように配置され、前記第1のミラー及び前記第2のミラーは前記オブジェクトの対向側に配置され、主にY方向に延在する、測定システム、及び、
前記測定システムの出力に基づいて前記アクチュエータシステムを駆動するための制御システム、
を備える、リソグラフィ装置であって、
前記制御システムは、請求項1から14のいずれかに記載の前記方法を実施するように構成される、
リソグラフィ装置。 - 更に、
放射ビームを調節するように構成された照明システム、
パターニングデバイスを支持するように構築されたサポートであって、前記パターニングデバイスはパターン付き放射ビームを形成するために前記放射の断面にパターンを付与することが可能である、サポート、
基板を保持するように構築された基板テーブル、及び、
前記基板のターゲット部分に前記パターン付き放射ビームを投影するように構成された投影システム、
を備え、
前記オブジェクトは前記サポート又は前記基板テーブルである。
請求項19に記載のリソグラフィ装置。 - 請求項19又は20に記載のリソグラフィ装置を使用する、デバイス製造方法。
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