JP7430194B2 - 検査装置、リソグラフィ装置及び測定方法 - Google Patents
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- 238000007689 inspection Methods 0.000 title claims description 69
- 238000001459 lithography Methods 0.000 title description 5
- 238000000691 measurement method Methods 0.000 title 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 claims description 213
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 102
- 230000005855 radiation Effects 0.000 claims description 68
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 26
- 230000008569 process Effects 0.000 claims description 24
- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 claims description 10
- 238000000059 patterning Methods 0.000 description 17
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 17
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 15
- 230000001133 acceleration Effects 0.000 description 10
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 6
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 6
- 235000012431 wafers Nutrition 0.000 description 6
- 230000001965 increasing effect Effects 0.000 description 5
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 4
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 3
- 230000008859 change Effects 0.000 description 3
- 238000013461 design Methods 0.000 description 3
- 230000005484 gravity Effects 0.000 description 3
- 238000005286 illumination Methods 0.000 description 3
- 238000002955 isolation Methods 0.000 description 3
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 3
- 238000004088 simulation Methods 0.000 description 3
- 238000003491 array Methods 0.000 description 2
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 2
- 230000001419 dependent effect Effects 0.000 description 2
- 230000009977 dual effect Effects 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 230000005670 electromagnetic radiation Effects 0.000 description 2
- 230000006870 function Effects 0.000 description 2
- 238000007654 immersion Methods 0.000 description 2
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 2
- 239000003550 marker Substances 0.000 description 2
- 230000015654 memory Effects 0.000 description 2
- 238000000206 photolithography Methods 0.000 description 2
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 2
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 2
- 230000009466 transformation Effects 0.000 description 2
- 238000013459 approach Methods 0.000 description 1
- 230000006399 behavior Effects 0.000 description 1
- 238000012937 correction Methods 0.000 description 1
- 238000013016 damping Methods 0.000 description 1
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 1
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 1
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 238000000671 immersion lithography Methods 0.000 description 1
- 230000001939 inductive effect Effects 0.000 description 1
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 1
- 230000005381 magnetic domain Effects 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 230000010363 phase shift Effects 0.000 description 1
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 1
- 230000001902 propagating effect Effects 0.000 description 1
- 238000012883 sequential measurement Methods 0.000 description 1
- 238000007493 shaping process Methods 0.000 description 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
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- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
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- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70691—Handling of masks or workpieces
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- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70483—Information management; Active and passive control; Testing; Wafer monitoring, e.g. pattern monitoring
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- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70483—Information management; Active and passive control; Testing; Wafer monitoring, e.g. pattern monitoring
- G03F7/70605—Workpiece metrology
- G03F7/70653—Metrology techniques
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70483—Information management; Active and passive control; Testing; Wafer monitoring, e.g. pattern monitoring
- G03F7/70605—Workpiece metrology
- G03F7/706835—Metrology information management or control
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- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
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Description
[0001] 本願は2019年2月26日に提出された欧州出願第19159362.3号の優先権を主張するものであり、同出願は参照によりその全体が本明細書に組み込まれる。
オブジェクトの関心領域にわたってオブジェクトの第1のパラメータを測定すると共に、オブジェクト上の複数の場所において、第1のパラメータとは異なる、オブジェクトの第2のパラメータを測定するように構成された測定システムと、
第1のパラメータの測定の際に測定システムに対してオブジェクトを位置決めするように構成されたステージ装置と、
を備える、オブジェクトを検査するための検査装置が提供され、
測定システムは、第1のパラメータの測定の際に、複数の異なる場所において第2のパラメータを測定するように構成されており、
ステージ装置は、ステージ装置のコンプライアンス特性に基づいて、測定システムに対してオブジェクトを位置決めするように構成されている。
オブジェクトの関心領域にわたってオブジェクトの第1のパラメータを測定すると共に、オブジェクト上の複数の場所において、第1のパラメータとは異なる、オブジェクトの第2のパラメータを測定するように構成された測定システムと、
第1のパラメータの測定の際に測定システムに対してオブジェクトを位置決めするように構成されたステージ装置と、
を備える、オブジェクトを検査するための検査装置が提供され、
測定システムは、第1のパラメータの測定の際に、複数の異なる場所において第2のパラメータを測定するように構成されており、
ステージ装置は、ステージ装置のコンプライアンス特性に基づいて、測定システムに対してオブジェクトを位置決めするように構成されている。
オブジェクトテーブル532によって辿られる位置設定点又は軌道を表す第1の入力信号。
オブジェクトテーブル532の測定位置を表す第2の入力信号、例えばステージ位置測定システム540、特にステージ位置測定システム540のセンサ540.1から得られる測定信号。
FFF=FF1+FF2,
FF1=m*s^2*SPS, (1)
FF2=-m2*s^4*SPS*cpoi
ここで、
m=駆動される質量であり、
s=ラプラス変換の複素引数であり、
したがってs^2*SPSは設定点信号から求められる必要な加速を表し、したがってs^4*SPSは設定点信号から求められる必要なスナップ値を表し、
cpoi=関心点のコンプライアンスである。
そのような場合、FFFは次のように判定され得る。
FFF=FF1+FF2,
FF1=M*s^2*SPS, (2)
FF2=-M*Cpoi*M*s^4*SPS
ここで、
M=駆動される質量行列であり、
s=ラプラス変換の複素引数であり、
したがってs^2*SPSは設定点信号から求められる必要な加速を表し、したがってs4*SPSは設定点信号から求められる必要なスナップ値を表し、
Cpoi=関心点のコンプライアンス行列である。
ES=SPS-MS*SP+(Cpoc-Cpoi)*FFF,又は
ES=SPS-SC+(Cpoc-Cpoi)*FFF (3)
1.オブジェクトを検査するための検査装置であって、
オブジェクトの関心領域にわたってオブジェクトの第1のパラメータを測定すると共に、オブジェクト上の複数の場所において、第1のパラメータとは異なる、オブジェクトの第2のパラメータを測定するように構成された測定システムと、
第1のパラメータの測定の際に測定システムに対してオブジェクトを位置決めするように構成されたステージ装置と、を備え、
測定システムは、第1のパラメータの測定の際に、複数の異なる場所において第2のパラメータを測定するように構成されており、
ステージ装置は、ステージ装置のコンプライアンス特性に基づいて、測定システムに対して前記オブジェクトを位置決めするように構成されている、検査装置。
2.ステージ装置は、
オブジェクトを保持するように構成されたオブジェクトテーブルと、
オブジェクトテーブルの位置を表すステージ位置信号を生成するように構成されたステージ位置測定システムと、
測定システムに対してオブジェクトテーブルを変位させるためにオブジェクトテーブルに力を及ぼすように構成された位置決めデバイスと、
ステージ位置信号に基づいて位置決めデバイスを制御するように構成されるとともに、オブジェクトテーブルのコンプライアンス特性に基づいて位置決めデバイスを制御するように構成された制御システムと、
を備える、条項1に記載の装置。
3.オブジェクトは、基板を備える、条項1又は2に記載の検査装置。
4.関心領域は、露光プロセスの際に放射ビームによって露光される複数のターゲット領域を含む、条項3に記載の検査装置。
5.基板は、複数の場所にそれぞれ配設された複数のマークを備える、条項3又は4に記載の検査装置。
6.オブジェクトの第1のパラメータは、関心領域の高さプロファイルを備え、
第2のパラメータは、複数のマークの位置を備える、条項5に記載の検査装置。
7.制御システムは、測定システムに対するオブジェクトの軌道を表す設定点信号を受信するように構成されている、条項6に記載の検査装置。
8.軌道は、測定システムの測定場所に対するオブジェクトの所望位置を表す、条項7に記載の検査装置。
9.制御システムは、位置決めデバイスに必要な力を表す力信号を生成するように構成されており、
力信号は、設定点信号とオブジェクトテーブルのコンプライアンス特性とに基づく、条項8に記載の検査装置。
10.ステージ位置測定システムは、ステージ位置信号を生成するために1つ以上のセンサターゲットと協働するように構成された1つ以上のセンサを備える、条項9に記載の検査装置。
11.測定システムは、第1のパラメータをオブジェクトの第1の関心点で測定するように構成されると共に、第2のパラメータをオブジェクトの第2の関心点で測定するように構成されている、条項10に記載の検査装置。
12.第1の関心点と第2の関心点とは、略一致する、条項11に記載の検査装置。
13.測定システムは、第1のパラメータをオブジェクトの複数の関心点で同時に測定するように構成されると共に、第2のパラメータをオブジェクトの第2の関心点で測定するように構成されている、条項10に記載の検査装置。
14.第2の関心点と複数の関心点のうち1つとは、略一致する、条項13に記載の検査装置。
15.複数の関心点は、第1の方向に延伸するアレイ状に配列されており、
測定システムは、関心領域を第2の方向でスキャンすることによってオブジェクトの第1のパラメータを測定するように構成されており、
第2の方向は、第1の方向に略垂直である、条項13又は14に記載の検査装置。
16.1つ以上のセンサは、ステージに取り付けられ、
コンプライアンス特性は、基準に対する1つ以上のセンサの変形及び/又は変位を表す、条項11から15のいずれかに記載の検査装置。
17.コンプライアンス特性は更に、基準に対する関心点の変形及び/又は変位を表す、条項16に記載の検査装置。
18.コンプライアンス特性は、オブジェクトテーブルに及ぼされる力に起因する変形を表す、条項17に記載の検査装置。
19.条項1から18のいずれかに記載の検査装置を備える、リソグラフィ装置。
20.オブジェクトの第1のパラメータは、関心領域の高さプロファイルを備え、
第2のパラメータは、複数のマークの位置を備える、条項19に記載のリソグラフィ装置。
Claims (14)
- オブジェクトを検査するための検査装置であって、
前記オブジェクトの関心領域にわたって前記オブジェクトの第1のパラメータを測定すると共に、前記オブジェクト上の複数の場所において、前記第1のパラメータとは異なる、前記オブジェクトの第2のパラメータを測定するように構成された測定システムと、
前記第1のパラメータの測定の際に前記測定システムに対して前記オブジェクトを位置決めするように構成されたステージ装置と、を備え、
前記測定システムは、前記第1のパラメータの前記測定の際に、複数の異なる場所において前記第2のパラメータを測定するように構成されており、
前記ステージ装置は、前記ステージ装置のコンプライアンス特性に基づいて、前記測定システムに対して前記オブジェクトを位置決めするように構成されている、検査装置。 - 前記オブジェクトは、基板を備える、請求項1に記載の検査装置。
- 前記基板は、前記複数の場所にそれぞれ配設された複数のマークを備える、請求項2に記載の検査装置。
- 前記オブジェクトの前記第1のパラメータは、前記関心領域の高さプロファイルを備え、
前記第2のパラメータは、前記複数のマークの位置を備える、請求項3に記載の検査装置。 - 前記関心領域は、露光プロセスの際に放射ビームによって露光される複数のターゲット領域を含む、請求項1から4の何れか一項に記載の検査装置。
- 前記ステージ装置は、
前記オブジェクトを保持するように構成されたオブジェクトテーブルと、
前記オブジェクトテーブルの位置を表すステージ位置信号を生成するように構成されたステージ位置測定システムと、
前記測定システムに対して前記オブジェクトテーブルを変位させるために前記オブジェクトテーブルに力を及ぼすように構成された位置決めデバイスと、
前記ステージ位置信号に基づいて前記位置決めデバイスを制御するように構成されるとともに、前記オブジェクトテーブルのコンプライアンス特性に基づいて前記位置決めデバイスを制御するように構成された制御システムと、
を備える、請求項1から5の何れか一項に記載の装置。 - 前記制御システムは、前記測定システムに対する前記オブジェクトの軌道を表す設定点信号を受信するように構成されている、請求項6に記載の検査装置。
- 前記軌道は、前記測定システムの測定場所に対する前記オブジェクトの所望位置を表す、請求項7に記載の検査装置。
- 前記制御システムは、前記位置決めデバイスに必要な力を表す力信号を生成するように構成されており、
前記力信号は、前記設定点信号と前記オブジェクトテーブルのコンプライアンス特性とに基づく、請求項8に記載の検査装置。 - 前記ステージ位置測定システムは、前記ステージ位置信号を生成するために1つ以上のセンサターゲットと協働するように構成された1つ以上のセンサを備える、請求項9に記載の検査装置。
- 前記測定システムは、前記第1のパラメータを前記オブジェクトの第1の関心点で測定するように構成されると共に、前記第2のパラメータを前記オブジェクトの第2の関心点で測定するように構成されている、請求項10に記載の検査装置。
- 前記第1の関心点と前記第2の関心点とは、略一致する、請求項11に記載の検査装置。
- 前記1つ以上のセンサは、前記ステージ装置に取り付けられ、
前記コンプライアンス特性は、基準に対する前記1つ以上のセンサの変形及び/又は変位を表す、請求項11又は12に記載の検査装置。 - 請求項1から13の何れか一項に記載の検査装置を備える、リソグラフィ装置。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
EP19159362.3 | 2019-02-26 | ||
EP19159362 | 2019-02-26 | ||
PCT/EP2020/051998 WO2020173641A1 (en) | 2019-02-26 | 2020-01-28 | Inspection apparatus, lithographic apparatus, measurement method |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2022521571A JP2022521571A (ja) | 2022-04-11 |
JP7430194B2 true JP7430194B2 (ja) | 2024-02-09 |
Family
ID=65598505
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2021545703A Active JP7430194B2 (ja) | 2019-02-26 | 2020-01-28 | 検査装置、リソグラフィ装置及び測定方法 |
Country Status (7)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US11914307B2 (ja) |
JP (1) | JP7430194B2 (ja) |
KR (1) | KR20210116608A (ja) |
CN (1) | CN113474732A (ja) |
NL (1) | NL2024768A (ja) |
TW (1) | TWI739319B (ja) |
WO (1) | WO2020173641A1 (ja) |
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CN114279338B (zh) * | 2021-12-24 | 2024-04-26 | 北京华卓精科科技股份有限公司 | 读数头安装工装及其集成方法、读数头安装方法 |
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-
2020
- 2020-01-28 JP JP2021545703A patent/JP7430194B2/ja active Active
- 2020-01-28 WO PCT/EP2020/051998 patent/WO2020173641A1/en active Application Filing
- 2020-01-28 CN CN202080016718.3A patent/CN113474732A/zh active Pending
- 2020-01-28 US US17/433,897 patent/US11914307B2/en active Active
- 2020-01-28 KR KR1020217026507A patent/KR20210116608A/ko not_active Application Discontinuation
- 2020-01-28 NL NL2024768A patent/NL2024768A/en unknown
- 2020-02-25 TW TW109106057A patent/TWI739319B/zh active
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2009200122A (ja) | 2008-02-19 | 2009-09-03 | Canon Inc | 露光装置およびデバイス製造方法 |
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Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
TWI739319B (zh) | 2021-09-11 |
US11914307B2 (en) | 2024-02-27 |
CN113474732A (zh) | 2021-10-01 |
NL2024768A (en) | 2020-08-31 |
TW202040257A (zh) | 2020-11-01 |
US20220187719A1 (en) | 2022-06-16 |
WO2020173641A1 (en) | 2020-09-03 |
JP2022521571A (ja) | 2022-04-11 |
KR20210116608A (ko) | 2021-09-27 |
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