JP2017517757A - 制御システム、位置決めシステム、リソグラフィ装置、制御方法、デバイス製造方法及び制御プログラム - Google Patents
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Abstract
Description
[0001] 本出願は、2014年4月4日出願のヨーロッパ特許出願第14163509.4号の利益を主張し、参照によりその全体が本明細書に組み込まれる。
− 放射ビームB(例えばUV放射又はDUV放射)を調節するように構成された照明システム(イルミネータ)ILと、
− パターニングデバイス(例えばマスク)MAを支持するように構成され、特定のパラメータに従ってパターニングデバイスMAを正確に位置決めするように構成された第1のポジショナPMに接続された支持構造(例えばマスクテーブル)MTと、
− 特定のパラメータに従ってテーブルの表面、例えば、基板(例えばレジストコーティング基板)Wの表面を正確に位置決めするように構成された第2のポジショナPWに接続された支持テーブル、例えば、1つ以上のセンサを支持するためのセンサテーブル又は基板Wを保持するように構築された基板テーブルWTと、
− パターニングデバイスMAによって放射ビームBに与えられたパターンを基板Wのターゲット部分C(例えば1つ以上のダイを含む)に投影するように構成された投影システム(例えば屈折投影レンズシステム)PSとを備える。
Claims (13)
- Nが正整数である場合にリソグラフィ装置内のオブジェクト上の関心ポイントについてN通りの寸法で位置を推定するための制御システムであって、前記システムが、
M個の測定値を求めるものであり、前記M個の測定値が前記オブジェクト上の1つ以上の測定ポイントに関し、前記測定ポイントの少なくとも1つが前記関心ポイントから変位され、MがNより大きい正整数である測定モジュールと、
前記オブジェクトの非剛体モードの静的及び低周波寄与分のみを考慮に入れて、前記M個の測定値を、前記関心ポイントについて前記N通りの寸法による前記位置の推定値を表すN個の位置推定値に変換する変換モジュールと、
を含む、制御システム。 - Mが前記オブジェクト上の外部外乱負荷の数Nと前記オブジェクトに加えられるアクチュエータ力の数の合計に等しいか又はそれより大きくなるように前記測定モジュールが構成される、請求項1に記載の制御システム。
- 前記変換モジュールが、
前記オブジェクトが剛体であり、(M−N)変形値が前記オブジェクトの変形を表すと想定して、前記M個の測定値を、前記N通りの寸法による前記関心ポイントの前記位置の推定値を表すN個の予備的位置推定値に変換するための第1の変換行列と、
前記N個の予備的位置推定値及び前記(M−N)変形値をN個の位置推定値に変換するための第2の変換行列と、
を含む、請求項1又は2に記載の制御システム。 - 前記変換モジュールが、
前記オブジェクトが剛体であり、(M−N)変形値が前記オブジェクトの変形を表すと想定して、前記M個の測定値を、前記N通りの寸法による前記関心ポイントの前記位置の推定値を表すN個の予備的位置推定値に変換するための第1の変換行列と、
前記N個の予備的位置推定値及び前記(M−N)変形値をN個の位置推定値に変換するための第2の変換行列と、
の積と同等の結合変換行列を含む、請求項1又は2に記載の制御システム。 - 前記第2の変換行列が三角行列である、請求項3又は4に記載の制御システム。
- 前記測定モジュールが、位置センサ、変位センサ、速度センサ、加速度計、及びひずみセンサからなるグループから選択された複数のセンサを含む、請求項1から5のいずれか1項に記載の制御システム。
- 前記測定モジュールが、干渉計、エンコーダ、気圧計、ファイバブラッググレーティングセンサ、及び圧電センサからなるグループから選択された複数のセンサを含む、請求項1から6のいずれか1項に記載の制御システム。
- オブジェクトを位置決めするための位置決めシステムであって、前記位置決めシステムが、
請求項1から7のいずれか1項に記載の制御システムと、
少なくとも前記N通りの寸法において前記オブジェクトを変位させる作動システムと、
を含む、位置決めシステム。 - 前記制御システムが、前記アクチュエータシステムを制御するためのアクチュエータ信号を生成し、前記変換モジュールが、前記アクチュエータ信号を使用して前記M個の測定値をN個の位置推定値に変換する、請求項8に記載の位置決めシステム。
- 請求項8又は9に記載の位置決めシステムを含むリソグラフィ装置であって、前記オブジェクトが、基板テーブル、測定テーブル、クリーニングテーブル、パターニング手段のための支持構造、及び光学素子のうちの1つである前記リソグラフィ装置のコンポーネントである、リソグラフィ装置。
- Nが正整数である場合にオブジェクト上の関心ポイントについてN通りの寸法で位置を推定するための制御方法であって、前記方法が、
M個の測定値を求めることであって、前記M個の測定値が前記オブジェクト上の1つ以上の測定ポイントに関し、前記測定ポイントの少なくとも1つが前記関心ポイントから変位され、MがNより大きい正整数であることと、
前記オブジェクトの非剛体モードの静的及び低周波寄与分のみを考慮に入れて、前記M個の測定値を、前記関心ポイントについて前記N通りの寸法による前記位置の推定値を表すN個の位置推定値に変換することと、
を含む、制御方法。 - 可動コンポーネントを含むリソグラフィ装置を使用するデバイス製造方法であって、前記可動コンポーネントの位置が請求項11に記載の方法を使用して推定される、デバイス製造方法。
- Nが正整数である場合にオブジェクト上の関心ポイントについてN通りの寸法で位置を推定するための制御プログラムであって、前記制御プログラムが、コンピュータ可読媒体上に有形形式で実施され、
M個の測定値を求めるように測定システムを制御するステップであって、位置測定値が前記オブジェクト上の1つ以上の測定ポイントに関し、前記測定ポイントの少なくとも1つが前記関心ポイントから変位され、MがNより大きい正整数であるステップと、
前記オブジェクトの非剛体モードの静的及び低周波寄与分のみを考慮に入れて、前記M個の位置測定値を、前記関心ポイントについて前記N通りの寸法による前記位置の推定値を表すN個の位置推定値に変換するステップと、
を実施するようにコンピュータに指示するように適合されたコード手段を含む、制御プログラム。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
EP14163509.4 | 2014-04-04 | ||
EP14163509 | 2014-04-04 | ||
PCT/EP2015/057199 WO2015150466A2 (en) | 2014-04-04 | 2015-04-01 | Control system, positioning system, lithographic apparatus, control method, device manufacturing method and control program |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2017517757A true JP2017517757A (ja) | 2017-06-29 |
JP6363217B2 JP6363217B2 (ja) | 2018-07-25 |
Family
ID=50434085
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2016552283A Active JP6363217B2 (ja) | 2014-04-04 | 2015-04-01 | 制御システム、位置決めシステム、リソグラフィ装置、制御方法、デバイス製造方法及び制御プログラム |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US10095123B2 (ja) |
JP (1) | JP6363217B2 (ja) |
NL (1) | NL2014562A (ja) |
WO (1) | WO2015150466A2 (ja) |
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