JP2014160241A - マイクロリソグラフィ投影露光装置の素子を作動させる機構 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】調整可能な力を光学素子にそれぞれで伝達できる第1数nRの自由度と、力を光学素子100に伝達する目的で機械式継手を介して光学素子100にそれぞれ結合した第2数nAのアクチュエータ111、112、113、114、…とを備え、第2数nAは第1数nRよりも大きい。アクチュエータ111、112、113、114、…の少なくとも1つは、光学素子100の少なくとも1つの固有振動モードの節に配置される。
【選択図】図1
Description
調整可能な力を光学素子にそれぞれで伝達できる第1数(nR)の自由度と、
力を光学素子に伝達する目的で機械式継手を介して光学素子にそれぞれ結合した第2数(nA)のアクチュエータと
を備え、第2数(nA)は第1数(nR)よりも大きく、
上記アクチュエータの少なくとも1つは、光学素子の少なくとも1つの固有振動モードの節に配置される機構に関する。
調整可能な力を光学素子にそれぞれで伝達できる第1数(nR)の自由度と、
力を光学素子に伝達する目的で機械式継手を介して光学素子にそれぞれ結合した第2数(nA)のアクチュエータと
を備え、第2数(nA)は第1数(nR)よりも大きく、
アクチュエータは、自由度の作動が光学素子の少なくとも1つの固有振動モードに実質的に直交するよう配置される機構に関する。
調整可能な力を光学素子にそれぞれで伝達できる第1数(nR)の自由度と、
光学素子の場所及び/又は位置を求める第3数(nS)のセンサ素子と
を備え、第3数(nS)は第1数(nR)よりも大きい機構にも関する。
調整可能な力を第1数(nR)の自由度で光学素子に伝達し、
上記力伝達を第2数(nA)のアクチュエータにより実行し、
第2数(nA)は第1数(nR)よりも大きく、
上記アクチュエータの少なくとも1つを、光学素子の少なくとも1つの固有振動モードの節に配置する方法に関する。
調整可能な力を第1数(nR)の自由度で光学素子(100、200)に伝達し、
上記力伝達を第2数(nA)のアクチュエータにより実行し、
第2数(nA)は第1数(nR)よりも大きく、
自由度の作動は、光学素子の少なくとも1つの固有振動モードに対して実質的に直交する方法にも関する。
制御可能な力を第1数(nR)の自由度で光学素子に伝達し、
第3数(nS)のセンサ素子を用いて光学素子の場所及び/又は位置を求め、
第3数(nS)は第1数(nR)よりも大きい方法にも関する。
投影露光装置における少なくとも1つの結像収差を求めるステップと、
上記結像収差が少なくとも部分的に補償されるよう光学素子を位置決め及び/又は能動的に変形するステップと
を特に含み得る。
Claims (20)
- マイクロリソグラフィ投影露光装置の光学素子を作動させる機構であって、
調整可能な力を前記光学素子にそれぞれで伝達できる第1数(nR)の自由度と、
力を前記光学素子(100、200)に伝達する目的で機械式継手を介して前記光学素子(100、200)にそれぞれ結合した第2数(nA)のアクチュエータ(111、112、113、114、211、212、…)と
を備え、前記第2数(nA)は前記第1数(nR)よりも大きく、
前記アクチュエータ(111、112、113、114、211、212、…)の少なくとも1つは、前記光学素子(100、200)の少なくとも1つの固有振動モードの節に配置される機構。 - マイクロリソグラフィ投影露光装置の光学素子を作動させる機構であって、
調整可能な力を前記光学素子にそれぞれで伝達できる第1数(nR)の自由度と、
力を前記光学素子(100、200)に伝達する目的で機械式継手を介して前記光学素子(100、200)にそれぞれ結合した第2数(nA)のアクチュエータ(111、112、113、114、211、212、…)と
を備え、前記第2数(nA)は前記第1数(nR)よりも大きく、
前記アクチュエータは、前記自由度の作動が前記光学素子(100、200)の少なくとも1つの固有振動モードに実質的に直交するよう配置される機構。 - 請求項1又は2に記載の機構において、前記光学素子(100、200)はミラーであることを特徴とする機構。
- 請求項3に記載の機構において、前記ミラー(200)は、前記投影露光装置における望ましくない外乱を補償するために能動的に変形可能であるよう構成されることを特徴とする機構。
- 請求項3に記載の機構において、前記ミラー(100)は能動変形不可能なミラーであることを特徴とする機構。
- 先行の請求項のいずれか1項に記載の機構において、該機構は、前記光学素子(100、200)の場所及び/又は位置を求める第3数(nS)のセンサ素子(121、122、123、221、222、223)をさらに備えることを特徴とする機構。
- 請求項6に記載の機構において、前記第3数(nS)は前記第1数(nR)よりも大きいことを特徴とする機構。
- マイクロリソグラフィ投影露光装置の光学素子を作動させる機構であって、
調整可能な力を前記光学素子(100、200)にそれぞれで伝達できる第1数(nR)の自由度と、
前記光学素子(100、200)の場所及び/又は位置を求める第3数(nS)のセンサ素子(121、122、123、221、222、223)と
を備え、前記第3数(nS)は前記第1数(nR)よりも大きい機構。 - 先行の請求項のいずれか1項に記載の機構において、少なくとも1つのアクチュエータがローレンツアクチュエータであることを特徴とする機構。
- 先行の請求項のいずれか1項に記載の機構において、前記第1数(nR)の自由度は少なくとも3、特に6であることを特徴とする機構。
- 先行の請求項のいずれか1項に記載の機構において、該機構は、EUV用に設計したマイクロリソグラフィ投影露光装置の光学素子を作動させるよう設計されることを特徴とする機構。
- 先行の請求項のいずれか1項に記載の機構を備えたマイクロリソグラフィ投影露光装置。
- マイクロリソグラフィ投影露光装置の光学素子を作動させる方法であって、
調整可能な力を第1数(nR)の自由度で前記光学素子(100、200)に伝達し、
前記力伝達を第2数(nA)のアクチュエータ(111、112、113、114、211、212、…)により実行し、
前記第2数(nA)は前記第1数(nR)よりも大きく、
前記アクチュエータ(111、112、113、114、211、212、…)の少なくとも1つを、前記光学素子(100、200)の少なくとも1つの固有振動モードの節に配置する方法。 - マイクロリソグラフィ投影露光装置の光学素子を作動させる方法であって、
調整可能な力を第1数(nR)の自由度で前記光学素子(100、200)に伝達し、
前記力伝達を第2数(nA)のアクチュエータ(111、112、113、114、211、212、…)により実行し、
前記第2数(nA)は前記第1数(nR)よりも大きく、
前記自由度の作動は、前記光学素子(100、200)の少なくとも1つの固有振動モードに対して実質的に直交する方法。 - 請求項13又は14に記載の方法において、前記光学素子を前記調整可能な力により能動的に変形させることを特徴とする方法。
- 請求項13〜15のいずれか1項に記載の方法において、前記光学素子の位置を前記調整可能な力により操作することを特徴とする方法。
- 請求項13〜16のいずれか1項に記載の方法において、第3数(nS)のセンサ素子(121、122、123、221、222、223)を用いて前記光学素子(100、200)の場所及び/又は位置を求めることを特徴とする方法。
- 請求項17に記載の方法において、前記第3数(nS)は前記第1数(nR)よりも大きいことを特徴とする方法。
- マイクロリソグラフィ投影露光装置の光学素子の位置決め及び/又は能動変形の方法であって、
制御可能な力を第1数(nR)の自由度で前記光学素子(100、200)に伝達し、
第3数(nS)のセンサ素子(121、122、123、221、222、223)を用いて前記光学素子(100、200)の場所及び/又は位置を求め、
前記第3数(nS)は前記第1数(nR)よりも大きい方法。 - 請求項13〜19のいずれか1項に記載の方法において、
前記投影露光装置における少なくとも1つの結像収差を求めるステップと、
前記結像収差が少なくとも部分的に補償されるよう前記光学素子(100、200)を位置決め及び/又は能動的に変形するステップと
を含むことを特徴とする方法。
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2016509691A (ja) * | 2013-01-28 | 2016-03-31 | エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ. | リソグラフィ装置のための投影システム、ミラーおよび放射源 |
JP2017083824A (ja) * | 2015-10-12 | 2017-05-18 | カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー | 光学アセンブリ、投影系、計測系、及びeuvリソグラフィー装置 |
JP2017517757A (ja) * | 2014-04-04 | 2017-06-29 | エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ. | 制御システム、位置決めシステム、リソグラフィ装置、制御方法、デバイス製造方法及び制御プログラム |
WO2018016293A1 (ja) * | 2016-07-19 | 2018-01-25 | キヤノン株式会社 | 光学装置、リソグラフィ装置及び物品の製造方法 |
Families Citing this family (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2013050081A1 (en) | 2011-10-07 | 2013-04-11 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Method for controlling a motion of optical elements in lithography systems |
DE102013201082A1 (de) | 2013-01-24 | 2014-03-13 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Anordnung zur Aktuierung eines Elementes in einer mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage |
US20140218704A1 (en) * | 2013-02-04 | 2014-08-07 | Nikon Corporation | High na (numerical aperture) rectangular field euv catoptric projection optics using tilted and decentered zernike polynomial mirror surfaces |
DE102016202408A1 (de) | 2016-02-17 | 2017-01-26 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Anordnung zur Positionsmanipulation eines Elementes in einem optischen System |
WO2017207016A1 (en) | 2016-05-30 | 2017-12-07 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Optical imaging arrangement with a piezoelectric device |
DE102018201784A1 (de) | 2018-02-06 | 2018-05-09 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Verfahren und Vorrichtung zum Erfassen einer Bewegung eines optischen Elements |
DE102018216344A1 (de) * | 2018-09-25 | 2020-03-26 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Abstützung eines optischen elements |
KR102273754B1 (ko) | 2019-06-14 | 2021-07-06 | 엘지전자 주식회사 | 모터 어셈블리 및 그 제조 방법 |
WO2024064341A1 (en) * | 2022-09-22 | 2024-03-28 | Board Of Regents, The University Of Texas System | Systems and methods for over-actuated control |
DE102022212463A1 (de) * | 2022-11-22 | 2024-05-23 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Optisches system, lithographieanlage und verfahren zum betreiben eines optischen systems einer lithographieanlage |
DE102023203872A1 (de) | 2023-04-26 | 2024-03-28 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Baugruppe für ein optisches System |
Citations (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2000121814A (ja) * | 1999-11-10 | 2000-04-28 | Mitsubishi Electric Corp | 反射鏡アンテナ装置 |
JP2005150615A (ja) * | 2003-11-19 | 2005-06-09 | Canon Inc | ステージおよびステージの制御方法 |
US20070132980A1 (en) * | 2005-12-08 | 2007-06-14 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
US20080212054A1 (en) * | 2007-03-01 | 2008-09-04 | Asml Netherlands B.V. | Stage system and lithographic apparatus comprising such stage system |
JP2008300828A (ja) * | 2007-05-30 | 2008-12-11 | Asml Netherlands Bv | ステージシステムおよびそのようなステージシステムを備えるリソグラフィ装置 |
US20090050776A1 (en) * | 2003-09-12 | 2009-02-26 | Carl Zeiss Smt Ag | Apparatus for manipulation of an optical element |
US20100195085A1 (en) * | 2009-02-05 | 2010-08-05 | Canon Kabushiki Kaisha | Positioning apparatus, exposure apparatus, and device manufacturing method |
US20110062306A1 (en) * | 2009-09-11 | 2011-03-17 | Integrated Dynamics Engineering Gmbh | Active vibration isolation system |
US20110164230A1 (en) * | 2010-01-06 | 2011-07-07 | Canon Kabushiki Kaisha | Positioning apparatus, exposure apparatus, and device manufacturing method |
US20110235015A1 (en) * | 2008-10-31 | 2011-09-29 | Carl Zeiss GmbH | Illumination optics for euv microlithography |
Family Cites Families (31)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4664487A (en) | 1985-09-30 | 1987-05-12 | Rockwell International Corporation | Laser mirror positioning apparatus |
RU2101840C1 (ru) | 1996-06-10 | 1998-01-10 | Санкт-Петербургская государственная академия аэрокосмического приборостроения | Шаговый двигатель |
US6330052B1 (en) | 1997-06-13 | 2001-12-11 | Canon Kabushiki Kaisha | Exposure apparatus and its control method, stage apparatus, and device manufacturing method |
US6327065B1 (en) | 2000-01-13 | 2001-12-04 | Trw Inc. | Fine pointing assembly configuration |
US6398373B1 (en) | 2000-08-09 | 2002-06-04 | Asml Us, Inc. | Pneumatic control system and method for shaping deformable mirrors in lithographic projection systems |
DE10225266A1 (de) | 2001-12-19 | 2003-07-03 | Zeiss Carl Smt Ag | Abbildungseinrichtung in einer Projektionsbelichtungsanlage |
US7486382B2 (en) | 2001-12-19 | 2009-02-03 | Carl Zeiss Smt Ag | Imaging device in a projection exposure machine |
EP1321822A1 (en) * | 2001-12-21 | 2003-06-25 | ASML Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
US6842277B2 (en) | 2002-07-23 | 2005-01-11 | Nikon Corporation | Deformable mirror with high-bandwidth servo for rigid body control |
US6881963B2 (en) | 2002-11-08 | 2005-04-19 | Canon Kabushiki Kaisha | Vibration control of an object |
JP3692122B2 (ja) | 2003-03-14 | 2005-09-07 | 株式会社東芝 | ボンディングシステム |
JP2004281644A (ja) | 2003-03-14 | 2004-10-07 | Canon Inc | 駆動機構及びそれを用いた露光装置、デバイスの製造方法 |
JP2005003736A (ja) | 2003-06-09 | 2005-01-06 | Mitsubishi Electric Corp | 鏡面形状補正装置 |
EP1725910A2 (en) | 2004-02-25 | 2006-11-29 | Carl Zeiss SMT AG | Device consisting of at least one optical element |
EP1577693B1 (de) | 2004-02-26 | 2011-07-13 | Carl Zeiss SMT GmbH | Objektiv mit wenigstens einem optischen Element |
US7515359B2 (en) | 2004-04-14 | 2009-04-07 | Carl Zeiss Smt Ag | Support device for positioning an optical element |
US20050243295A1 (en) | 2004-04-30 | 2005-11-03 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing |
JP2007103657A (ja) | 2005-10-04 | 2007-04-19 | Canon Inc | 光学素子保持装置、露光装置およびデバイス製造方法 |
JP2007316132A (ja) * | 2006-05-23 | 2007-12-06 | Canon Inc | 反射装置 |
JP2007317713A (ja) * | 2006-05-23 | 2007-12-06 | Canon Inc | 光学素子駆動装置 |
US20070284502A1 (en) | 2006-06-13 | 2007-12-13 | Nikon Corporation | Hexapod kinematic mountings for optical elements, and optical systems comprising same |
JP2008112756A (ja) * | 2006-10-27 | 2008-05-15 | Canon Inc | 光学素子駆動装置及びその制御方法、露光装置、並びにデバイス製造方法 |
EP1921480A1 (de) | 2006-11-07 | 2008-05-14 | Carl Zeiss SMT AG | Optische Vorrichtung mit kinematischen Komponenten zur Manipulation beziehungsweise Positionsbestimmung |
US7710540B2 (en) | 2007-04-05 | 2010-05-04 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
JP2009026862A (ja) | 2007-07-18 | 2009-02-05 | Canon Inc | 光学素子位置決めシステム、投影光学系及び露光装置 |
NL1036160A1 (nl) | 2007-11-20 | 2009-05-25 | Asml Netherlands Bv | Combination of structure and two or more active damping systems, lithographic apparatus, and projection assembly. |
US7989756B2 (en) | 2008-03-18 | 2011-08-02 | Nikon Corporation | Active-isolation mounts for optical elements |
US8805556B2 (en) | 2008-07-03 | 2014-08-12 | Nikon Corporation | Damping apparatus and exposure apparatus |
DE102011075316A1 (de) | 2011-05-05 | 2012-11-08 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Optisches Modul mit einer Messeinrichtung |
WO2013050081A1 (en) * | 2011-10-07 | 2013-04-11 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Method for controlling a motion of optical elements in lithography systems |
DE102013201082A1 (de) | 2013-01-24 | 2014-03-13 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Anordnung zur Aktuierung eines Elementes in einer mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage |
-
2013
- 2013-01-24 DE DE201310201082 patent/DE102013201082A1/de not_active Withdrawn
-
2014
- 2014-01-17 US US14/157,718 patent/US8786826B1/en active Active
- 2014-01-23 JP JP2014010360A patent/JP6101220B2/ja active Active
- 2014-06-23 US US14/311,767 patent/US20140300882A1/en not_active Abandoned
-
2015
- 2015-08-05 US US14/818,507 patent/US9568837B2/en active Active
-
2016
- 2016-04-07 JP JP2016077537A patent/JP6396359B2/ja active Active
-
2017
- 2017-02-10 US US15/430,086 patent/US9841682B2/en active Active
- 2017-12-04 US US15/830,876 patent/US10185221B2/en active Active
Patent Citations (16)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2000121814A (ja) * | 1999-11-10 | 2000-04-28 | Mitsubishi Electric Corp | 反射鏡アンテナ装置 |
US20090050776A1 (en) * | 2003-09-12 | 2009-02-26 | Carl Zeiss Smt Ag | Apparatus for manipulation of an optical element |
JP2005150615A (ja) * | 2003-11-19 | 2005-06-09 | Canon Inc | ステージおよびステージの制御方法 |
US20070132980A1 (en) * | 2005-12-08 | 2007-06-14 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
JP2007165875A (ja) * | 2005-12-08 | 2007-06-28 | Asml Netherlands Bv | リソグラフィ装置およびデバイス製造方法 |
US20080212054A1 (en) * | 2007-03-01 | 2008-09-04 | Asml Netherlands B.V. | Stage system and lithographic apparatus comprising such stage system |
JP2008219001A (ja) * | 2007-03-01 | 2008-09-18 | Asml Netherlands Bv | ステージシステムおよび該ステージシステムを備えたリソグラフィ装置 |
JP2008300828A (ja) * | 2007-05-30 | 2008-12-11 | Asml Netherlands Bv | ステージシステムおよびそのようなステージシステムを備えるリソグラフィ装置 |
US20080309911A1 (en) * | 2007-05-30 | 2008-12-18 | Asml Netherlands B.V. | Stage system and lithographic apparatus comprising such a stage system |
US20110235015A1 (en) * | 2008-10-31 | 2011-09-29 | Carl Zeiss GmbH | Illumination optics for euv microlithography |
JP2012507160A (ja) * | 2008-10-31 | 2012-03-22 | カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー | Euvマイクロリソグラフィ用の照明光学系 |
US20100195085A1 (en) * | 2009-02-05 | 2010-08-05 | Canon Kabushiki Kaisha | Positioning apparatus, exposure apparatus, and device manufacturing method |
JP2010182867A (ja) * | 2009-02-05 | 2010-08-19 | Canon Inc | 位置決め装置、露光装置及びデバイス製造方法 |
US20110062306A1 (en) * | 2009-09-11 | 2011-03-17 | Integrated Dynamics Engineering Gmbh | Active vibration isolation system |
US20110164230A1 (en) * | 2010-01-06 | 2011-07-07 | Canon Kabushiki Kaisha | Positioning apparatus, exposure apparatus, and device manufacturing method |
JP2011142165A (ja) * | 2010-01-06 | 2011-07-21 | Canon Inc | 位置決め装置、露光装置及びデバイス製造方法 |
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2016509691A (ja) * | 2013-01-28 | 2016-03-31 | エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ. | リソグラフィ装置のための投影システム、ミラーおよび放射源 |
JP2017517757A (ja) * | 2014-04-04 | 2017-06-29 | エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ. | 制御システム、位置決めシステム、リソグラフィ装置、制御方法、デバイス製造方法及び制御プログラム |
US10095123B2 (en) | 2014-04-04 | 2018-10-09 | Asml Netherlands B.V. | Control system, positioning system, lithographic apparatus, control method, device manufacturing method and control program |
JP2017083824A (ja) * | 2015-10-12 | 2017-05-18 | カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー | 光学アセンブリ、投影系、計測系、及びeuvリソグラフィー装置 |
US10146048B2 (en) | 2015-10-12 | 2018-12-04 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Optical assembly, projection system, metrology system and EUV lithography apparatus |
WO2018016293A1 (ja) * | 2016-07-19 | 2018-01-25 | キヤノン株式会社 | 光学装置、リソグラフィ装置及び物品の製造方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US8786826B1 (en) | 2014-07-22 |
US9841682B2 (en) | 2017-12-12 |
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US20160054661A1 (en) | 2016-02-25 |
US20180181005A1 (en) | 2018-06-28 |
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