JP5313179B2 - 可動オブジェクトの制御位置の位置量を制御する制御システム、リソグラフィ装置および方法 - Google Patents
可動オブジェクトの制御位置の位置量を制御する制御システム、リソグラフィ装置および方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP5313179B2 JP5313179B2 JP2010006407A JP2010006407A JP5313179B2 JP 5313179 B2 JP5313179 B2 JP 5313179B2 JP 2010006407 A JP2010006407 A JP 2010006407A JP 2010006407 A JP2010006407 A JP 2010006407A JP 5313179 B2 JP5313179 B2 JP 5313179B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- movable object
- freedom
- gain scheduling
- dynamic
- coordinates
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03B—APPARATUS OR ARRANGEMENTS FOR TAKING PHOTOGRAPHS OR FOR PROJECTING OR VIEWING THEM; APPARATUS OR ARRANGEMENTS EMPLOYING ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ACCESSORIES THEREFOR
- G03B27/00—Photographic printing apparatus
- G03B27/32—Projection printing apparatus, e.g. enlarger, copying camera
- G03B27/52—Details
- G03B27/58—Baseboards, masking frames, or other holders for the sensitive material
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70691—Handling of masks or workpieces
- G03F7/70716—Stages
- G03F7/70725—Stages control
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Description
Claims (19)
- 可動オブジェクト駆動する2以上のアクチュエータを備える前記可動オブジェクトを、別のオブジェクトに対して2以上の自由度で位置決めする制御システムであって、
それぞれの自由度について前記可動オブジェクトに関する設定値位置量を供給する設定値発生器と、
前記可動オブジェクトの位置量を測定する位置量測定センサと、
前記設定値位置量と前記被測定位置量とを比較することにより、それぞれの自由度について誤差信号を供給する減算器と、
それぞれが前記誤差信号に基づいて論理座標における制御信号を供給する単一入力単一出力コントローラを各自由度について備え、前記可動オブジェクトの前記位置量を制御するコントローラと、
前記コントローラによって供給された制御信号に基づいて前記可動オブジェクトの重心座標における重心制御信号を供給し、前記重心制御信号が前記可動オブジェクトを駆動するのに用いられるゲインスケジューリングデバイスであって、前記可動オブジェクトの論理座標と重心座標との静的関係および動的関係を有するゲインスケジューリングデバイスとを備える制御システム。 - 前記ゲインスケジューリングデバイスが、前記可動オブジェクトの論理座標と重心座標との動的関係を有する動的ゲインスケジューリングマトリクスを備える請求項1に記載の制御システム。
- 前記ゲインスケジューリングデバイスが、前記動的ゲインスケジューリングマトリクスと並列に、前記可動オブジェクトの論理座標と重心座標との静的関係を有する静的ゲインスケジューリングマトリクスを備える請求項2に記載の制御システム。
- 前記ゲインスケジューリングデバイスが、前記可動オブジェクトの論理座標と重心座標との関係を有する動的フィルタを備える請求項2に記載の制御システム。
- 前記動的フィルタが自己回帰フィルタである請求項4に記載の制御システム。
- 前記動的フィルタが、
y(k)=c1u(k)+c2u(k−1)+Λ+cnu(k−n+1)で表され、
cnがフィルタ係数である請求項4に記載の制御システム。 - 前記フィルタ係数がガウス−ニュートン法によって得られる請求項6に記載の制御システム。
- 前記ゲインスケジューリングデバイスが2次のフィルタを備える請求項6に記載の制御システム。
- 前記可動オブジェクトがリソグラフィ装置のパターニングデバイスサポートまたは基板サポートであり、別の可動オブジェクトがリソグラフィ装置の投影システムである請求項1に記載の制御システム。
- 前記重心制御信号に基づいて2つ以上のアクチュエータの駆動方向でアクチュエータ信号を供給する変換デバイスを備える請求項1に記載の制御システム。
- 平面3自由度で前記可動オブジェクトを制御する請求項1に記載の制御システム。
- 前記可動オブジェクトを6自由度で制御する請求項1に記載の制御システム。
- 放射ビームの断面内にパターンを与えてパターン付き放射ビームを形成することができるパターニングデバイスを支持するサポートと、
基板を保持する基板サポートと、
前記基板のターゲット部分上に前記パターン付き放射ビームを投影する投影システムと、
2以上の自由度で前記投影システムに対して前記基板の前記ターゲット部分の位置量を制御する制御システムとを備え、前記基板サポートが、前記基板サポートを駆動する2以上のアクチュエータを備え、前記制御システムが、
それぞれの自由度について前記基板サポートに関する、論理座標における設定値位置量を供給する設定値発生器と、
前記基板サポートの位置量を測定する位置量測定システムと、
前記設定値位置量と前記被測定位置量とを比較することにより、それぞれの自由度について誤差信号を供給する減算器と、
それぞれが前記誤差信号に基づいて論理座標における制御信号を供給する単一入力単一出力コントローラを各自由度について備え、前記ターゲット部分の前記位置量を制御するコントローラと、
前記コントローラによって供給された制御信号に基づいて前記基板サポートの重心座標において重心制御信号を供給し、前記重心制御信号が前記基板サポートを駆動するのに用いられるゲインスケジューリングデバイスであって、前記基板サポートの論理座標と重心座標との静的関係および動的関係を有するゲインスケジューリングデバイスとを備える、リソグラフィ装置。 - 可動オブジェクトを駆動する2以上のアクチュエータを備えた前記可動オブジェクトの位置量を、2以上の自由度で別のオブジェクトに対して制御する方法であって、
各自由度について前記可動オブジェクトに関する設定値位置量を供給する工程と、
前記可動オブジェクトの位置量を測定する工程と、
前記設定値位置量と前記被測定位置量とを比較することにより、それぞれの自由度について誤差信号を供給する工程と、
それぞれの自由度について、前記誤差信号に基づいて論理座標における制御信号を供給する工程と、
前記可動オブジェクトの論理座標と重心座標との静的関係および動的関係を有するゲインスケジューリングデバイスを使用して、論理座標における前記制御信号を、前記可動オブジェクトの重心座標における重心制御信号へスケジューリングする工程と、
前記重心制御信号を用いて前記可動オブジェクトを駆動する工程とを含む方法。 - 前記スケジューリングする工程が、動的フィルタを用いて前記制御信号をフィルタリングする工程を含み、前記動的にフィルタリングする工程が、前記可動オブジェクトの論理座標と重心座標との関係を有する請求項14に記載の方法。
- スキャニングステージを制御するための多入力多出力サーボシステムであって、
可動オブジェクトの重心座標の力と前記可動オブジェクトの論理座標の力との間の静的関係を定義するゲインスケジューリングマトリクスを用いる静的剛体減結合に基づいて可動オブジェクトの2以上の自由度を制御するための単入力単出力コントローラを備え、
前記単入力単出力コントローラは、多入力多出力有限インパルス応答マトリクスが可動オブジェクトの重心座標の力と前記可動オブジェクトの論理座標の力との間の動的関係を定義するように、動的ゲインスケジューリング有限インパルス応答マトリクスを得るための前記ゲインスケジューリングマトリクスと並列に、多入力多出力有限インパルス応答マトリクスを用いる動的減結合と前記静的剛体減結合との組み合わせに基づいて前記可動オブジェクトの2以上の自由度を制御する、多入力多出力サーボシステム。 - 前記多入力多出力有限インパルス応答マトリクスのそれぞれのエントリは、動的フィルタを備える、請求項16に記載の多入力多出力サーボシステム。
- 前記動的減結合は、前記動的ゲインスケジューリング有限インパルス応答マトリクスの時間領域最適化を通じて得られる、請求項16に記載の多入力多出力サーボシステム。
- 前記動的ゲインスケジューリング有限インパルス応答マトリクスのそれぞれのエントリは、4次の有限インパルス応答に基づいており、それぞれのエントリの係数は、データベースの最適化に基づいている、請求項18に記載の多入力多出力サーボシステム。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US14656109P | 2009-01-22 | 2009-01-22 | |
US61/146,561 | 2009-01-22 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2010278416A JP2010278416A (ja) | 2010-12-09 |
JP5313179B2 true JP5313179B2 (ja) | 2013-10-09 |
Family
ID=42336716
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2010006407A Expired - Fee Related JP5313179B2 (ja) | 2009-01-22 | 2010-01-15 | 可動オブジェクトの制御位置の位置量を制御する制御システム、リソグラフィ装置および方法 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US8675179B2 (ja) |
JP (1) | JP5313179B2 (ja) |
NL (1) | NL2003993A (ja) |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
NL2011569A (en) * | 2012-11-06 | 2014-05-08 | Asml Netherlands Bv | Lithographic apparatus and device manufacturing method. |
KR101905632B1 (ko) * | 2013-10-30 | 2018-10-10 | 에이에스엠엘 네델란즈 비.브이. | 리소그래피에서의 대상물 위치설정 |
CN116819902B (zh) * | 2023-07-06 | 2024-01-23 | 哈尔滨工业大学 | 超精密光刻装备六自由度分散式复合控制系统及控制方法 |
Family Cites Families (19)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0927443A (ja) * | 1995-07-11 | 1997-01-28 | Nikon Corp | ステージ駆動制御装置 |
US6504162B1 (en) * | 2000-09-15 | 2003-01-07 | Nikon Corporation | Stage device, control system, and method for stabilizing wafer stage and wafer table |
EP1265104A1 (en) * | 2001-06-06 | 2002-12-11 | ASML Netherlands B.V. | Lithographic apparatus, device manufacturing method, and device manufactured thereby |
JP2004193425A (ja) | 2002-12-12 | 2004-07-08 | Nikon Corp | 移動制御方法及び装置、露光装置、並びにデバイス製造方法 |
JP2004273828A (ja) | 2003-03-10 | 2004-09-30 | Nikon Corp | 面位置検出方法、面位置検出装置、合焦装置、露光装置及びデバイスの製造方法 |
TWI254190B (en) * | 2003-09-22 | 2006-05-01 | Asml Netherlands Bv | Lithographic apparatus, device manufacturing method, and device manufactured thereby |
US20060061751A1 (en) * | 2004-09-21 | 2006-03-23 | Ting-Chien Teng | Stage assembly including a stage having increased vertical stroke |
US7327437B2 (en) * | 2004-12-07 | 2008-02-05 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
JP4834439B2 (ja) * | 2006-03-30 | 2011-12-14 | キヤノン株式会社 | ステージ装置及びその制御方法、露光装置及びデバイス製造方法 |
US7453228B2 (en) | 2006-04-07 | 2008-11-18 | Asml Netherlands B.V. | Method for controlling a positioning device, positioning device, and lithographic apparatus provided with a positioning device |
US7576832B2 (en) | 2006-05-04 | 2009-08-18 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
US7630059B2 (en) | 2006-07-24 | 2009-12-08 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
US8014881B2 (en) | 2007-02-15 | 2011-09-06 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
US7782446B2 (en) | 2007-03-01 | 2010-08-24 | Asml Netherlands B.V. | Stage system and lithographic apparatus comprising such stage system |
US7710540B2 (en) | 2007-04-05 | 2010-05-04 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
JP4820842B2 (ja) * | 2007-05-30 | 2011-11-24 | エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ. | ステージシステムおよびそのようなステージシステムを備えるリソグラフィ装置 |
EP2202426A3 (en) * | 2008-12-23 | 2017-05-03 | ASML Netherlands B.V. | A method for damping an object, an active damping system, and a lithographic apparatus |
NL2004847A (en) * | 2009-06-30 | 2011-01-04 | Asml Holding Nv | Method for controlling the position of a movable object, a control system for controlling a positioning device, and a lithographic apparatus. |
JP5495801B2 (ja) * | 2010-01-06 | 2014-05-21 | キヤノン株式会社 | 位置決め装置、露光装置及びデバイス製造方法 |
-
2009
- 2009-12-21 NL NL2003993A patent/NL2003993A/nl unknown
-
2010
- 2010-01-06 US US12/683,228 patent/US8675179B2/en active Active
- 2010-01-15 JP JP2010006407A patent/JP5313179B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US8675179B2 (en) | 2014-03-18 |
NL2003993A (nl) | 2010-07-26 |
US20100182585A1 (en) | 2010-07-22 |
JP2010278416A (ja) | 2010-12-09 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US9915880B2 (en) | Stage apparatus, lithographic apparatus and method of positioning an object table | |
EP1965258B1 (en) | Stage system and lithographic apparatus comprising such stage system | |
JP5002317B2 (ja) | リソグラフィ装置 | |
KR100938912B1 (ko) | 리소그래피 장치 및 디바이스 제조 방법 | |
US7903866B2 (en) | Measurement system, lithographic apparatus and method for measuring a position dependent signal of a movable object | |
US8446566B2 (en) | Method of loading a substrate on a substrate table and lithographic apparatus and device manufacturing method | |
US8300208B2 (en) | Lithographic apparatus and a method to compensate for the effect of disturbances on the projection system of a lithographic apparatus | |
EP1962157A2 (en) | Lithographic apparatus and semiconductor device manufacturing method | |
WO2008156367A1 (en) | Method of loading a substrate on a substrate table, device manufacturing method, computer program, data carrier and apparatus | |
US10921720B2 (en) | Support structure, method and lithographic apparatus | |
NL2002789A1 (nl) | Position control system, a lithographic apparatus and a method for controlling a position of a movable object. | |
JP5313179B2 (ja) | 可動オブジェクトの制御位置の位置量を制御する制御システム、リソグラフィ装置および方法 | |
JP4838834B2 (ja) | サーボ制御システム、リソグラフィ装置および制御方法 | |
JP2019502153A (ja) | アクティブベースフレームサポートを有するリソグラフィ装置 | |
JP7463525B2 (ja) | デュアルステージリソグラフィ装置を用いる方法及びリソグラフィ装置 | |
JP2023511702A (ja) | 位置決め装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20120131 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20120202 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20121030 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20130128 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20130619 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20130703 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Ref document number: 5313179 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |