JP6426204B2 - 対象物位置決めシステム、制御システム、リソグラフィ装置、対象物位置決め方法およびデバイス製造方法 - Google Patents
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Description
本出願は、2014年6月3日に出願された欧州出願14171005.3号の利益を主張し、その全体が参照により本書に援用される。
1.ステップモードでは、放射ビームBに付与されたパターン全体が1回の照射で一つの目標部分Cに投影される間、マスクテーブルMTおよび基板テーブルWTa/WTbは実質的に静止状態とされる(すなわち単一静的露光)。そして基板テーブルWTa/WTbはX方向および/またはY方向に移動され、その結果、異なる目標部分Cを露光できる。ステップモードにおいて、露光フィールドの最大サイズは、単一静的露光にて結像される目標部分Cのサイズを制限する。
2.スキャンモードでは、放射ビームに付与されたパターンが目標部分Cに投影される間、マスクテーブルMTおよび基板テーブルWTa/WTbは同期してスキャンされる(すなわち単一動的露光)。マスクテーブルMTに対する基板テーブルWTa/WTbの速度および方向は、投影システムPSの拡大(縮小)率および像反転特性により定められてもよい。スキャンモードにおいて、スキャン動作の長さが目標部分の高さ(スキャン方向)を決定する一方で、露光フィールドの最大サイズは、単一動的露光における目標部分の幅(非スキャン方向)を制限する。
3.別のモードでは、放射ビームに付与されたパターンが目標部分Cに投影される間、マスクテーブルMTがプログラマブルパターニングデバイスを保持して実質的に静止状態とされ、基板テーブルWTa/WTbが移動またはスキャンされる。このモードにおいて、一般的にパルス放射源が用いられ、プログラマブルパターニングデバイスは、基板テーブルWTa/WTbが移動するたびに、または、スキャン中の連続する放射パルス間に必要に応じて更新される。この動作モードは、上述したような種類のプログラマブルミラーアレイといったプログラマブルパターニングデバイスを使用するマスクレスリソグラフィに直ちに適用できる。
Claims (16)
- 基準に対して移動可能な可動対象物と、
前記基準に対して前記可動対象物を移動させるために前記対象物上の力印加箇所において前記対象物に力を加えるよう構成されるアクチュエータシステムと、
前記基準に対して前記対象物の注目点を位置決めするよう構成される制御システムと、を備え、
前記制御システムは、前記力印加箇所と前記注目点との間の空間的関係を表すパラメータに基づいて前記アクチュエータシステムを駆動するよう構成され、
前記パラメータは、前記基準に対する前記対象物の位置を表す別のパラメータに依存することを特徴とする対象物位置決めシステム。 - 前記空間的関係は、前記力印加箇所と前記注目点の間のコンプライアンスを備えることを特徴とする請求項1に記載の対象物位置決めシステム。
- 前記別のパラメータは、設定信号と測定信号の一方に基づくことを特徴とする請求項1または2に記載の対象物位置決めシステム。
- 前記対象物上の測定箇所において測定し、前記基準に対する前記対象物の位置を表す測定信号を提供するよう構成される測定システムを備え、
前記制御システムは、
前記注目点の所望の位置を表す設定信号を生成する設定値生成器と、
前記設定信号に基づいてフィードフォワード信号を生成するよう構成されるフィードフォワードシステムと、
前記設定信号および前記測定信号に基づいてフィードバック信号を生成するよう構成されるフィードバックシステムと、を備え、
前記制御システムは、前記フィードフォワード信号および前記フィードバック信号に基づいて前記アクチュエータシステムを駆動するよう構成されることを特徴とする請求項1から3のいずれか一項に記載の対象物位置決めシステム。 - 前記フィードフォワード信号は、前記パラメータに依存することを特徴とする請求項4に記載の対象物位置決めシステム。
- 前記制御システムは、前記フィードフォワード信号および空間的関係パラメータに基づいて前記フィードバックシステムに補正信号を提供するよう構成される補正システムをさらに備え、前記空間的関係パラメータは、第1の空間的関係と第2の空間的関係の間の差を表し、前記第1の空間的関係は、前記力印加箇所と前記注目点の間であり、前記第2の空間的関係は、前記力印加箇所と前記測定箇所の間であることを特徴とする請求項4または5に記載の対象物位置決めシステム。
- 前記空間的関係パラメータは、前記パラメータに依存することを特徴とする請求項6に記載の対象物位置決めシステム。
- 前記補正システムは、前記設定信号および前記フィードフォワード信号に基づいて前記対象物の内的動的挙動を推定する動的モデルを備え、前記補正信号は、推定される内的動的挙動に基づくことを特徴とする請求項6または7に記載の対象物位置決めシステム。
- 前記補正システムは、前記制御システムから前記対象物への入力と前記測定信号とに基づいて前記対象物の内的動的挙動を推定するための前記対象物の動的モデルを有する観測部を備え、前記動的モデルは、前記空間的関係パラメータに依存し、前記観測部は、前記補正信号を提供するよう構成されることを特徴とする請求項6または7に記載の対象物位置決めシステム。
- 前記フィードフォワードシステムは、前記設定信号に基づいて前記対象物の内的動的挙動を推定する動的モデルを備え、前記フィードフォワード信号は、推定される内的動的挙動に基づくことを特徴とする請求項4から9のいずれか一項に記載の対象物位置決めシステム。
- 請求項1から10のいずれか一項に記載の対象物位置決めシステムに用いるように構成されることを特徴とする制御システム。
- 請求項1から10のいずれか一項に記載の対象物位置決めシステムを備えることを特徴とするリソグラフィ装置。
- 放射ビームを調整するように構成される照明システムと、
放射の断面にパターンを付与してパターン放射ビームを形成することが可能なパターニングデバイスを支持するように構築されるサポートと、
基板を保持するように構築される基板テーブルと、
パターン放射ビームを目標部分に投影するように構築される投影システムと、をさらに備え、
前記対象物位置決めシステムは、前記サポートと前記基板テーブルの一方を備えることを特徴とする請求項12に記載のリソグラフィ装置。 - a)基準に対して対象物の注目点を位置決めするステップと、
b)前記対象物上の力印加箇所において前記対象物に力を加えるステップと、
c)前記力印加箇所と前記注目点との間の空間的関係を表すパラメータに基づいて前記力を加えるステップと、を備え、
前記パラメータは、前記基準に対する前記対象物の位置を表す別のパラメータに依存することを特徴とする対象物位置決め方法。 - リソグラフィ装置内で前記対象物を位置決めするステップを備えることを特徴とする請求項14に記載の対象物位置決め方法。
- 請求項1または10に記載の対象物位置決めシステムを用いることを特徴とするデバイス製造方法。
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