JP5422633B2 - コントローラ、リソグラフィ装置、オブジェクト位置の制御方法及びデバイス製造方法 - Google Patents
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Description
コントローラが、ゲインバランシングマトリクスを用いてオブジェクトの重心に提供されることが望まれる一組の力を表す第1の制御信号を複数のアクチュエータによって提供される同等の力の組を表す第2の制御信号に変換するプロセッサを備え、
プロセッサが、第1の制御信号が第1の周波数帯域内にある時に第1のゲインバランシングマトリクスが使用され、第1の制御信号が第2の周波数帯域内にある時に第2のゲインバランシングマトリクスが使用されるように構成されるコントローラが提供される。
放射ビームを調節するように構成された照明システムと、
放射ビームの断面にパターンを付与してパターン付放射ビームを形成することができるパターニングデバイスを支持するように構築された支持体と、
基板を保持するように構築された基板テーブルと、
パターン付放射ビームを基板のターゲット部分上に投影するように構成された投影システムと、
支持体と基板テーブルの一方の位置を制御するように構成されたアクチュエータシステムと、
上記アクチュエータシステムを制御するように構成されたコントローラと
を備えるリソグラフィ装置が提供される。
複数のアクチュエータを用いてオブジェクトに力を加えるステップと、
ゲインバランシングマトリクスを用いてオブジェクトの重心に提供されることが望まれる一組の力を表す第1の制御信号を複数のアクチュエータによって提供される同等の力の組を表す第2の制御信号に変換するステップとを含み、
少なくとも第1の制御信号が第1の周波数帯域内にある時に第1のゲインバランシングマトリクスが使用され、少なくとも第1の制御信号が第2の周波数帯域内にある時に第2のゲインバランシングマトリクスが使用される方法が提供される。
支持体と基板テーブルの少なくとも一方の位置が、パターン転写ステップ中に、
複数のアクチュエータを用いて支持体と基板テーブルの一方に力を加えるステップと、
ゲインバランシングマトリクスを用いて支持体と基板テーブルの一方の重心に提供されることが望まれる一組の力を表す第1の制御信号を複数のアクチュエータによって提供される同等の力の組を表す第2の制御信号に変換するステップとによって制御され、
少なくとも第1の制御信号が第1の周波数帯域内にある時に第1のゲインバランシングマトリクスが使用され、少なくとも第1の制御信号が第2の周波数帯域内にある時に第2のゲインバランシングマトリクスが使用されるデバイス製造方法が提供される。
[0018] 放射ビームB(例えばUV放射又は任意の他の適切な放射)を調節するように構成された照明システム(イルミネータ)ILと、
[0019] パターニングデバイス(例えばマスク)MAを支持するように構築され、特定のパラメータに従ってパターニングデバイスを正確に位置決めするように構成された第1のポジショナPMに接続された支持構造(例えばマスクテーブル)MTと、
[0020] 基板(例えばレジストコートウェーハ)Wを保持するように構築され、特定のパラメータに従って基板を正確に位置決めするように構成された第2のポジショナPWに接続された基板テーブル(例えばウェーハテーブル)WTと、
[0021] パターニングデバイスMAによって放射ビームBに与えられたパターンを基板Wのターゲット部分C(例えば1つ以上のダイを含む)上に投影するように構成された投影システム(例えば屈折投影レンズシステム)PSとを備える。
1.ステップモードにおいては、マスクテーブルMT及び基板テーブルWTは、基本的に静止状態に維持される一方、放射ビームに与えたパターン全体が1回でターゲット部分Cに投影される(すなわち単一静的露光)。次に、別のターゲット部分Cを露光できるように、基板テーブルWTがX方向及び/又はY方向に移動される。ステップモードでは、露光フィールドの最大サイズによって、単一静的露光で結像されるターゲット部分Cのサイズが制限される。
2.スキャンモードにおいては、マスクテーブルMT及び基板テーブルWTは同期的にスキャンされる一方、放射ビームに与えられるパターンがターゲット部分Cに投影される(すなわち単一動的露光)。マスクテーブルMTに対する基板テーブルWTの速度及び方向は、投影システムPLの拡大(縮小)及び像反転特性によって求めることができる。スキャンモードでは、露光フィールドの最大サイズによって、単一動的露光におけるターゲット部分の(非スキャン方向における)幅が制限され、スキャン動作の長さによってターゲット部分の(スキャン方向における)高さが決まる。
3.別のモードでは、マスクテーブルMTはプログラマブルパターニングデバイスを保持して基本的に静止状態に維持され、基板テーブルWTを移動又はスキャンさせながら、放射ビームに与えられたパターンをターゲット部分Cに投影する。このモードでは、一般にパルス状放射源を使用して、基板テーブルWTを移動させる毎に、又はスキャン中に連続する放射パルスの間で、プログラマブルパターニングデバイスを必要に応じて更新する。この動作モードは、以上で言及したようなタイプのプログラマブルミラーアレイなどのプログラマブルパターニングデバイスを使用するマスクレスリソグラフィに容易に利用できる。
Claims (19)
- 位置決めデバイス内のオブジェクトの位置を制御するのに使用するアクチュエータシステムを制御するように構成され、前記アクチュエータシステムが前記オブジェクト上に作用するように配置された複数のアクチュエータを含むコントローラであって、
前記コントローラが、ゲインバランシングマトリクスを用いて前記オブジェクトの重心に提供されることが望まれる一組の力を表す第1の制御信号を前記複数のアクチュエータによって提供される同等の力の組を表す第2の制御信号に変換するプロセッサを備え、
前記プロセッサが、前記第1の制御信号が第1の周波数帯域内にある時に第1のゲインバランシングマトリクスが使用され、前記第1の制御信号が第2の周波数帯域内にある時に第2のゲインバランシングマトリクスが使用されるように構成されるコントローラ。 - 前記プロセッサが、
前記第1の制御信号に前記第1のゲインバランシングマトリクスを適用して第1の中間制御信号を提供し、
前記第1の制御信号に前記第2のゲインバランシングマトリクスを適用して第2の中間制御信号を提供し、
前記第2の制御信号を提供するために、前記第1の制御信号の周波数に従って前記第1及び第2の中間制御信号を切り替えるように構成される、請求項1に記載のコントローラ。 - 前記プロセッサが、
前記第1の制御信号に前記第1のゲインバランシングマトリクスを適用して第1の中間制御信号を提供し、
前記第1の制御信号に前記第1及び第2のゲインバランシングマトリクスの差分である差分ゲインバランシングマトリクスを適用して第2の中間制御信号を提供し、
前記第2の中間制御信号に前記第2の周波数帯域内の信号を通過させるように構成されたフィルタを適用して第3の中間制御信号を提供し、
前記第1及び第3の中間制御信号を加算して前記第2の制御信号を提供するように構成される、請求項1又は2に記載のコントローラ。 - 前記プロセッサが、
前記第1の制御信号に前記第1のゲインバランシングマトリクスを適用して第1の中間制御信号を提供し、
前記第1の制御信号に前記第2のゲインバランシングマトリクスを適用して第2の中間制御信号を提供し、
前記第1の中間制御信号に前記第2の周波数帯域外の周波数を有する信号を通過させるように構成されたフィルタを適用して第3の中間制御信号を提供し、
前記第2の中間制御信号に前記第2の周波数帯域内の信号を通過させるように構成された第2のフィルタを適用して第4の中間制御信号を提供し、
前記第2及び第4の中間制御信号を加算して前記第2の制御信号を提供するように構成される、請求項1又は2に記載のコントローラ。 - 前記第2の周波数帯域が前記オブジェクトの共振周波数を含む、請求項1乃至請求項3のいずれか1項に記載のコントローラ。
- 前記共振周波数が、前記オブジェクトのねじり振動モードと前記オブジェクトのサドル振動モードの一方である振動モードに対応する、請求項5に記載のコントローラ。
- 前記第1の制御信号が関連する周波数帯域内にある時に少なくとも前記第1及び第2の周波数帯域とは異なる第3のゲインバランシングマトリクスが使用されるように前記プロセッサが構成される、請求項1乃至請求項6のいずれか1項に記載のコントローラ。
- 前記第1の制御信号が、別のゲインバランシングマトリクスに関連する周波数帯域内にない時に前記第1のゲインバランシングマトリクスが使用される、請求項7に記載のコントローラ。
- 前記第1のゲインバランシングマトリクスが選択されて前記オブジェクトが剛性の塊である場合に前記第1の制御信号と前記第2の制御信号との間に必要な関係を提供する、請求項1乃至請求項8のいずれか1項に記載のコントローラ。
- 前記プロセッサが、ゲインスケジューリングマトリクスを用いて実質的に慣性の基準に対する前記オブジェクト上の必要な力を表す入力制御信号を前記第1の制御信号に変換するようにさらに構成される、請求項1乃至請求項9のいずれか1項に記載のコントローラ。
- 前記第1の制御信号が、前記アクチュエータシステムの制御のフィードバックループから導出される、請求項1乃至請求項10のいずれか1項に記載のコントローラ。
- 前記第1の制御信号が前記アクチュエータシステムの制御のフィードフォワード経路から導出される、請求項1乃至請求項10のいずれか1項に記載のコントローラ。
- 前記プロセッサが、追加で第3の制御信号を用いて前記第2の制御信号を生成するようにさらに構成され、
前記第3の制御信号が、前記アクチュエータシステムの制御のフィードフォワード経路から導出された前記オブジェクトの重心に加えられることが望まれる一組の力を表す、請求項11に記載のコントローラ。 - 前記プロセッサが、
前記第1及び第3の制御信号を加算して第1の中間制御信号を提供し、
前記第1の中間制御信号に前記第1のゲインバランシングマトリクスを適用して第2の中間制御信号を提供し、
前記第1の制御信号に前記第1及び第2のゲインバランシングマトリクスの差分である第1の差分ゲインバランシングマトリクスを適用して第3の中間制御信号を提供し、
前記第3の中間制御信号に前記第2の周波数帯域内の信号を通過させるように構成された第1のフィルタを適用して第4の中間制御信号を提供し、
前記第3の制御信号に前記第1のゲインバランシングマトリクスと前記第3の制御信号で使用するために提供された第3のゲインバランシングマトリクスとの差分である第2の差分ゲインバランシングマトリクスを適用して第5の中間制御信号を提供し、
前記第5の中間制御信号に第3の周波数帯域内の信号を通過させるように構成された第2のフィルタを適用して第6の中間制御信号を提供し、
前記第2、第4及び第6の中間制御信号を加算して前記第2の制御信号を提供するように構成される、請求項13に記載のコントローラ。 - 前記第3の周波数帯域が前記第2の周波数帯域と同じである、請求項14に記載のコントローラ。
- 前記アクチュエータシステムが提供されて基板テーブルとパターニングデバイスの支持体の一方の位置決めシステムのショートストロークステージの位置を制御する、請求項1乃至請求項15のいずれか1項に記載のコントローラ。
- リソグラフィ装置であって、
放射ビームを調節するように構成された照明システムと、
前記放射ビームの断面にパターンを付与してパターン付放射ビームを形成することができるパターニングデバイスを支持するように構築された支持体と、
基板を保持するように構築された基板テーブルと、
前記パターン付放射ビームを前記基板のターゲット部分上に投影するように構成された投影システムと、
前記支持体と前記基板テーブルの一方の位置を制御するように構成されたアクチュエータシステムと、
前記アクチュエータシステムを制御するように構成される、請求項1乃至請求項16のいずれか1項に記載のコントローラと
を備えるリソグラフィ装置。 - リソグラフィ装置内のオブジェクトの位置を制御する方法であって、
複数のアクチュエータを用いて前記オブジェクトに力を加えるステップと、
ゲインバランシングマトリクスを用いて前記オブジェクトの重心に提供されることが望まれる一組の力を表す第1の制御信号を前記複数のアクチュエータによって提供される同等の力の組を表す第2の制御信号に変換するステップとを含み、
少なくとも前記第1の制御信号が第1の周波数帯域内にある時に第1のゲインバランシングマトリクスが使用され、少なくとも前記第1の制御信号が第2の周波数帯域内にある時に第2のゲインバランシングマトリクスが使用される方法。 - パターンを支持体上に支持されたパターニングデバイスから基板テーブル上に支持された基板へ転写するステップを含むデバイス製造方法であって、
前記支持体と前記基板テーブルの少なくとも一方の位置が、前記パターン転写ステップ中に、
複数のアクチュエータを用いて前記支持体と前記基板テーブルの前記一方に力を加えるステップと、
ゲインバランシングマトリクスを用いて前記支持体と前記基板テーブルの前記一方の重心に提供されることが望まれる一組の力を表す第1の制御信号を前記複数のアクチュエータによって提供される同等の力の組を表す第2の制御信号に変換するステップとによって制御され、
少なくとも前記第1の制御信号が第1の周波数帯域内にある時に第1のゲインバランシングマトリクスが使用され、少なくとも前記第1の制御信号が第2の周波数帯域内にある時に第2のゲインバランシングマトリクスが使用されるデバイス製造方法。
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