JP2021509968A - 位置決め装置、リソグラフィ装置、バランス・マストルクを補償する方法及び装置製造方法 - Google Patents
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Abstract
Description
関連技術の説明
可動体に作動力を加えるように構成された第1のアクチュエータであって、前記第1のアクチュエータは、当該第1のアクチュエータによって発生された前記作動力に起因する反力を吸収するように構成されたバランス・マスに結合され、前記作動力は、前記可動体を加速させ、前記反力は前記バランス・マスに反対方向へ加速させ、前記可動体の加速による力と、前記バランス・マスの反対方向の加速による力がバランス・マストルクをもたらす第1のアクチュエータと、
前記バランス・マスをフレーム上に支持するように構成されたバランス・マスサポートであって、支持位置で前記フレームと係合するバランス・マスサポートと、
トルク補償器とを含み、
前記トルク補償器は、前記バランス・マストルクを補償するための補償力を出力するように構成され、
前記トルク補償器は、前記支持位置において前記フレームに前記補償力を加えるように構成される、位置決め装置が提供される。
可動体に作動力を加えるように構成された第1のアクチュエータであって、前記第1のアクチュエータは、当該第1のアクチュエータによって発生された前記作動力に起因する反力を吸収するように構成されたバランス・マスに結合され、前記作動力は、前記可動体の加速を提供し、前記反力は、前記バランス・マスの反対方向への加速を提供し、前記可動体の加速度による力と、前記バランス・マスの反対方向の加速による力がバランス・マストルクをもたらす第1のアクチュエータと、
前記バランス・マスをフレーム上に支持するように構成されたバランス・マスサポートであって、支持位置で前記フレームと係合するバランス・マスサポートと、
トルク補償器とを含み、
前記トルク補償器は、前記バランス・マストルクを補償するための補償力を出力するように構成され、
前記トルク補償器は、補償位置において前記フレームに前記補償力を加えるように構成され、前記補償位置は、前記支持位置から離れており、前記補償位置は前記フレームの一部を通して前記支持位置に接続され、前記フレームの一部は前記バランス・マスサポートよりも固い、位置決め装置が提供される。
可動体に作動力を作用させ、前記作動力に起因する反力をバランス・マスにより吸収し、反対側に向けて前記可動体の加速、及び前記バランス・マスの加速を発生させ、前記可動体の加速に起因する力と、前記バランス・マスの加速に起因する力とをバランス・マストルクとすることによりバランス・マストルクを発生させ、前記バランス・マストルクはバランス・マスサポートを介して支持位置でフレームに及ぼされ、
前記支持位置でフレームに補償力を加えるトルク補償器によって前記フレームに及ぼされるバランス・マストルクを補償する、方法が提供される。
可動体に作動力を作用させ、前記作動力に起因する反力をバランス・マスにより吸収し、反対側に向けて前記可動体の加速、及び前記バランス・マスの加速を発生させ、前記可動体の加速に起因する力と、前記バランス・マスの加速に起因する力とをバランス・マストルクとすることによりバランス・マストルクを発生させ、前記バランス・マストルクはバランス・マスサポートを介して支持位置でフレームに及ぼされ、
補償位置において補償力を加えるトルク補償器によって前記フレームに及ぼされるバランス・マストルクを補償し、前記補償位置は、前記支持位置から離れており、前記補償位置は前記フレームの一部を通して前記支持位置に接続され、前記フレームの一部は前記バランス・マスサポートよりも固い、方法が提供される。
あるいは、装置は、反射型(例えば、上記で言及したようなタイプのプログラマブルミラーアレイを使用するか、又は反射マスクを使用する)であってもよい。
パターニングデバイスMA及び基板Wは、マスクアライメントマークM1、M2及び基板アライメントマークP1、P2を使用して位置合わせすることができる。図示の基板アライメントマークP1、P2は専用ターゲット部分を占めるが、それらはターゲット部分Cの間のスペースに配置されてもよい。このような専用ターゲット部分はスクライブレーンアライメントマークとして知られている。同様に、パターニングデバイスMA上に2つ以上のダイが提供される状況では、マスクアライメントマークM1、M2は、ダイの間に配置されてもよい。
1.ステップモードでは、マスク支持構造MT及び基板テーブルWTは本質的に静止したままであるが、放射ビームBに与えられたパターン全体が一度にターゲット部分Cに投影される(すなわち、単一の静的露光)。次に、基板テーブルWTは、X及び/又はY方向にシフトされ、その結果、異なるターゲット部分Cを露光することができる。ステップモードでは、露光フィールドの最大サイズによって、1回の静的露光で撮像されるターゲット部分Cのサイズが制限される。
2.スキャンモードでは、放射ビームに与えられたパターンがターゲット部分Cに投影される間、マスク支持構造MT及び基板テーブルWT又は「基板サポート」が同期してスキャンされる(すなわち、単一動的露光)。マスク支持構造MTに対する基板テーブルWTの速度及び方向は、投影システムPSの(縮小)拡大率及び像反転特性によって決定することができる。スキャンモードでは、露光フィールドの最大サイズによって、単一の動的露光におけるターゲット部分の幅(非スキャン方向)が制限されるが、スキャン動作の長さによって、ターゲット部分Cの(スキャン方向の)高さが決まる。3.別のモードでは、マスク支持構造MTは、プログラマブルパターニングデバイスを保持して本質的に静止状態に保たれ、基板テーブルWTは、放射ビームBに与えられたパターンがターゲット部分Cに投影される間に移動又はスキャンされる。この動作モードでは、一般的にパルス放射源が使用され、プログラマブルパターニングデバイスは、基板テーブルWTの各移動後、又はスキャン中の連続する放射パルス間に、必要に応じて更新される。この動作モードは、上で言及したタイプのプログラム可能ミラー・アレイなどのプログラム可能パターン化デバイスを利用するマスクレス・リソグラフィに容易に適用できる。
Claims (15)
- 位置決めシステムであって、
可動体に作動力を加えるように構成された第1のアクチュエータであって、前記第1のアクチュエータは、当該第1のアクチュエータによって発生された前記作動力に起因する反力を吸収するように構成されたバランス・マスに結合され、前記作動力は、前記可動体を加速させ、前記反力は前記バランス・マスに反対方向へ加速させ、前記可動体の加速による力と、前記バランス・マスの反対方向の加速による力がバランス・マストルクをもたらす第1のアクチュエータと、
前記バランス・マスをフレーム上に支持するように構成されたバランス・マスサポートであって、支持位置で前記フレームと係合するバランス・マスサポートと、
トルク補償器とを含み、
前記トルク補償器は、前記バランス・マストルクを補償するための補償力を出力するように構成され、
前記トルク補償器は、前記支持位置において前記フレームに前記補償力を加えるように構成される、位置決めシステム。 - 前記バランス・マスサポートは、第1のバランス・マスサポートと、第2のバランス・マスサポートとを含み、前記第1のバランス・マスサポート及び前記第2のバランス・マスサポートは、前記バランス・マスの両側に配置され、
前記第1のバランス・マスサポートは第1の支持位置で前記フレームに係合し、前記第2のバランス・マスサポートは第2の支持位置で前記フレームに係合し、前記補償器は第1の支持位置で前記フレームに第1の補償力を及ぼすように構成された第1の補償器アクチュエータと、第2の支持位置で前記フレームに第2の補償力を及ぼすように構成された第2の補償器アクチュエータとを含み、
前記第1の補償器アクチュエータ及び前記第2の補償器アクチュエータは、第1の回転方向におけるバランス・マストルクを補償するように協働するように構成される、請求項1に記載の位置決めシステム。 - 前記バランス・マスサポートは、第3のバランス・マスサポート及び第4のバランス・マスサポートとを備え、前記第3のバランス・マスサポート及び前記第4のバランス・マスサポートは、前記バランス・マスの両側に配置され、
前記第3のバランス・マスサポートは第3の支持位置で前記フレームに係合し、前記第4のバランス・マスサポートは第4の支持位置で前記フレームに係合し、前記補償器は第3の支持位置で前記フレームに第3の補償力を及ぼすように構成された第3の補償器アクチュエータと、第4の支持位置で前記フレームに第4の補償力を及ぼすように構成された第4の補償器アクチュエータとを備え、
前記第3の補償器アクチュエータ及び前記第4の補償器アクチュエータは、第2の回転方向におけるバランス・マストルクを補償するように協働するように構成される、請求項2に記載の位置決めシステム。 - 前記トルク補償器は、可動補償器マスを移動させるように構成されたリニアモータを備える、請求項1乃至3のいずれか1項に記載の位置決めシステム。
- 前記トルク補償器は、前記トルク補償器の可動マスの位置を決定するように構成されたマス位置検出器をさらに備える、請求項4に記載の位置決めシステム。
- 前記トルク補償器は、前記フレームに対する前記可動体の位置及び/又は加速度に基づく補償器制御信号を生成又は受信するように構成され、前記補償器制御信号に基づいて前記補償力を生成するように構成されたコントローラをさらに備える、請求項1乃至5のいずれか1項に記載の位置決めシステム。
- 前記トルク補償器は、前記可動体の第1の方向の加速度を測定し、前記測定された前記フレームの加速度に基づいて加速度信号を生成するように構成された加速度センサをさらに備え、
前記コントローラは、前記加速度信号を受信し、それを前記補償器制御信号を生成するための入力として使用するように構成される、請求項6に記載の位置決めシステム。 - 前記トルク補償器の前記コントローラは、前記可動体の所望の位置及び/又は加速度に関するデータを含むデータ記憶装置を備え、前記補償器制御信号は、前記データに少なくとも部分的に基づく、請求項6又は7に記載の位置決めシステム。
- 可動体に作動力を加えるように構成された第1のアクチュエータであって、前記第1のアクチュエータは、当該第1のアクチュエータによって発生された前記作動力に起因する反力を吸収するように構成されたバランス・マスに結合され、前記作動力は、前記可動体の加速を提供し、前記反力は、前記バランス・マスの反対方向への加速を提供し、前記可動体の加速度による力と、前記バランス・マスの反対方向の加速による力がバランス・マストルクをもたらす第1のアクチュエータと、
前記バランス・マスをフレーム上に支持するように構成されたバランス・マスサポートであって、支持位置で前記フレームと係合するバランス・マスサポートと、
トルク補償器とを含み、
前記トルク補償器は、前記バランス・マストルクを補償するための補償力を出力するように構成され、
前記トルク補償器は、補償位置において前記フレームに前記補償力を加えるように構成され、前記補償位置は、前記支持位置から離れており、前記補償位置は前記フレームの一部を通して前記支持位置に接続され、前記フレームの一部は前記バランス・マスサポートよりも固い、位置決めシステム。 - 請求項1乃至9のいずれか1項に記載の位置決め装置を含むリソグラフィ装置
- 前記可動体は、基板サポート、レチクルマスクユニット又はレチクルステージである、請求項10に記載のリソグラフィ装置。
- 前記リソグラフィ装置は真空チャンバを備え、前記可動体および前記バランス・マスは前記真空チャンバの内部に配置され、
前記トルク補償器は、補償器アクチュエータを含み、前記補償器アクチュエータは、前記真空チャンバの外側に配置される、請求項10又は11に記載のリソグラフィ装置。 - 位置決めシステムにおけるバランス・マストルクを補償する方法であって、
可動体に作動力を作用させ、前記作動力に起因する反力をバランス・マスにより吸収し、反対側に向けて前記可動体の加速、及び前記バランス・マスの加速を発生させ、前記可動体の加速に起因する力と、前記バランス・マスの加速に起因する力とをバランス・マストルクとすることによりバランス・マストルクを発生させ、前記バランス・マストルクはバランス・マスサポートを介して支持位置でフレームに及ぼされ、
前記支持位置でフレームに補償力を加えるトルク補償器によって前記フレームに及ぼされるバランス・マストルクを補償する、方法。 - ポジショナシステムにおけるバランス・マストルクを補償する方法であって、
可動体に作動力を作用させ、前記作動力に起因する反力をバランス・マスにより吸収し、反対側に向けて前記可動体の加速、及び前記バランス・マスの加速を発生させ、前記可動体の加速に起因する力と、前記バランス・マスの加速に起因する力とをバランス・マストルクとすることによりバランス・マストルクを発生させ、前記バランス・マストルクはバランス・マスサポートを介して支持位置でフレームに及ぼされ、
補償位置において補償力を加えるトルク補償器によって前記フレームに及ぼされるバランス・マストルクを補償し、前記補償位置は、前記支持位置から離れており、前記補償位置は前記フレームの一部を通して前記支持位置に接続され、前記フレームの一部は前記バランス・マスサポートよりも固い、方法。 - パターニングデバイスから基板上にパターンを転写することを含むデバイス製造方法であって、請求項10乃至12のいずれか1項に記載のリソグラフィ装置を使用するステップを含むデバイス製造方法。
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