KR100907515B1 - 메트롤로지 툴, 리소그래피 장치 및 메트롤로지 툴을포함한 시스템, 및 기판의 파라미터를 결정하는 방법 - Google Patents
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- 리소그래피 장치에서 패턴이 제공된 기판의 파라미터를 측정하도록 배치된 메트롤로지 툴에 있어서:베이스 프레임(base frame);상기 기판을 유지하도록 구성되고 상기 베이스 프레임 상에 배치된 기판 테이블;상기 기판의 파라미터를 측정하도록 구성되고 상기 베이스 프레임 상에 위치된 1 이상의 센서;적어도 제 1 방향으로 다른 하나에 대해 상기 기판 테이블 및 센서 중 하나를 변위시키도록 구성된 변위 시스템(displacement system);상기 베이스 프레임에 커플링되며, 상기 변위 시스템에 의하여 제 1 방향으로 변위되는 상기 기판 테이블 및 센서 중 하나의 변위를 상쇄(counteract)하기 위하여 상기 제 1 방향의 반대 방향으로 병진 가능하도록 구성된 제 1 밸런스 매스(balance mass); 및상기 제 1 방향으로 상기 기판 테이블 및 센서 중 하나의 변위를 상쇄하기 위해, 상기 제 1 방향의 반대 방향으로 병진(translate)하기에 자유롭도록 상기 제 1 밸런스 매스를 이동가능하게 지지하는 제 1 베어링(bearing)을 포함하여 이루어지고,상기 제 1 밸런스 매스는 상기 기판 테이블 및 센서 중 하나에 커플링(couple)되고, 상기 제 1 밸런스 매스를 상기 기판 테이블 및 센서 중 하나와 커플링하는 위치설정 액추에이터(positioning actuator)를 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 메트롤로지 툴.
- 제 3 항에 있어서,상기 기판 테이블 및 센서 중 하나는, 상기 변위 시스템에 의해 상기 제 1 방향으로 변위되기에 자유롭도록 제 2 베어링 상에 이동가능하게 지지되는 것을 특징으로 하는 메트롤로지 툴.
- 제 4 항에 있어서,상기 제 2 베어링은 상기 기판 테이블 및 센서 중 하나와 상기 제 1 밸런스 매스 사이에 제공되는 것을 특징으로 하는 메트롤로지 툴.
- 제 3 항에 있어서,상기 제 1 밸런스 매스는 탄성 커플링(elastic coupling)을 통해 상기 베이스 프레임에 커플링되는 것을 특징으로 하는 메트롤로지 툴.
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- 제 3 항 또는 제 6 항에 있어서,상기 제 1 밸런스 매스는 댐퍼(damper)를 통해 상기 베이스 프레임에 커플링되는 것을 특징으로 하는 메트롤로지 툴.
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- 제 3 항에 있어서,상기 제 1 밸런스 매스 및/또는 베이스 프레임에 대한 상기 기판 테이블 및 센서 중 하나의 위치를 측정하도록 구성되고 배치된 피드포워드 제어기(feed forward controller)를 더 포함하여 이루어지는 메트롤로지 툴.
- 제 3 항에 있어서,상기 베이스 프레임에 대한 상기 제 1 밸런스 매스의 위치를 측정하도록 구성되고 배치된 피드포워드 제어기를 더 포함하여 이루어지는 메트롤로지 툴.
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- 제 3 항에 있어서,상기 제 1 밸런스 매스의 위치를 제어하도록 구성되고 배치된 밸런스 매스 위치설정 액추에이터를 더 포함하여 이루어지고, 상기 제 1 밸런스 매스는 상기 제 1 밸런스 매스 위치설정 액추에이터를 통해 상기 베이스 프레임에 커플링되는 것을 특징으로 하는 메트롤로지 툴.
- 리소그래피 장치에서 패턴이 제공된 기판의 파라미터를 측정하도록 배치된 메트롤로지 툴에 있어서:베이스 프레임(base frame);상기 기판을 유지하도록 구성되고 상기 베이스 프레임 상에 배치된 기판 테이블;상기 기판의 파라미터를 측정하도록 구성되고 상기 베이스 프레임 상에 위치된 1 이상의 센서;적어도 제 1 방향으로 다른 하나에 대해 상기 기판 테이블 및 센서 중 하나를 변위시키도록 구성된 변위 시스템(displacement system);상기 변위 시스템에 의하여 제 1 방향으로 변위되는 상기 기판 테이블 및 센서 중 하나의 변위를 상쇄(counteract)하기 위하여 상기 제 1 방향의 반대 방향으로 병진 가능하도록 구성된 제 1 밸런스 매스(balance mass); 및상기 제 1 방향으로 상기 기판 테이블 및 센서 중 하나의 변위를 상쇄하기 위해, 상기 제 1 방향의 반대 방향으로 병진(translate)하기에 자유롭도록 상기 제 1 밸런스 매스를 이동가능하게 지지하는 제 1 베어링(bearing)을 포함하여 이루어지고,상기 기판 테이블 및 센서 중 하나는 위치설정 액추에이터 및 피드포워드 제어기를 통해 상기 베이스 프레임에 커플링되고, 상기 제 1 밸런스 매스는 밸런스 매스 위치설정 액추에이터 및 피드 포워드 제어기를 통해 상기 베이스 프레임에 커플링되는 것을 특징으로 하는 메트롤로지 툴.
- 제 3 항 또는 제 15 항에 있어서,상기 제 1 베어링은 상기 제 1 밸런스 매스와 상기 베이스 프레임 사이에 제공되는 것을 특징으로 하는 메트롤로지 툴.
- 제 3 항에 있어서,상기 제 1 밸런스 매스는 상기 기판 테이블 및 센서 중 하나와 일직선으로 제공되는 것을 특징으로 하는 메트롤로지 툴.
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- 제 3 항에 있어서,상기 기판 테이블과 센서 중 어느 하나에 코일을 지니고 회전자로서 동작하는 스테이지가 제공되며, 상기 제 1 밸런스 매스는 고정자로서 동작하는 플레이트로서 형성되어, 통합된 리니어 모터로서 작동하는 것을 특징으로 하는 메트롤로지 툴.
- 시스템에 있어서:방사선 빔을 컨디셔닝(condition)하도록 구성된 조명 시스템;패터닝된 방사선 빔을 형성하기 위해 상기 방사선 빔의 단면에 패턴을 부여할 수 있는 패터닝 디바이스를 지지하도록 구성된 지지체;기판을 유지하도록 구성된 기판 테이블; 및상기 기판의 타겟부 상에 상기 패터닝된 방사선 빔을 투영하도록 구성된 투영 시스템을 포함하여 이루어지는 리소그래피 장치;제 3 항에 따른 메트롤로지 툴; 및상기 리소그래피 장치로부터 상기 메트롤로지 툴로 기판들을 전달하는 전달 수단들을 포함하여 이루어지는 시스템.
- 제 21 항에 있어서,상기 메트롤로지 툴은 상기 리소그래피 장치에 통합되거나 그와 연결되는 것을 특징으로 하는 시스템.
- 기판의 파라미터를 결정하는 방법에 있어서:리소그래피 장치에서 기판에 패턴을 제공하는 단계;상기 리소그래피 장치로부터 베이스 프레임을 포함하는 메트롤로지 툴의 기판 테이블- 상기 기판 테이블은 상기 기판을 유지하기 위하여 상기 베이스 프레임 상에 배치되도록 구성됨 -로 상기 기판을 전달하는 단계; 및상기 베이스 프레임 상에 배치되도록 구성된 센서로 상기 메트롤로지 툴 내부에서 상기 기판의 파라미터를 측정하는 단계를 포함하여 이루어지고,상기 측정하는 단계 동안 상기 기판 테이블 및 센서 중 하나는 적어도 제 1 방향으로 다른 하나에 대해 변위되며, 상기 변위는, 제 1 방향으로 변위되는 상기 기판 테이블 및 센서 중 하나의 변위를 상쇄(counteract)하기 위하여 상기 제 1 방향의 반대 방향으로 병진 가능하도록 상기 베이스 프레임에 직접 또는 간접적으로 커플링된 제 1 밸런스 매스가 상기 제 1 방향의 반대 방향으로 병진하는 것에 의하여 서로 상쇄되는 것을 특징으로 하는 기판의 파라미터 결정 방법.
- 제 23 항에 있어서,상기 기판 테이블 및 센서 중 어느 하나가 다른 하나에 대하여 변위될 때, 상기 기판 테이블 및 센서 중 하나와 상기 제 1 밸런스 매스의 조합된 무게 중심(combined center of gravity)의 상기 베이스 프레임에 대한 위치는 동일하게 유지되는 것을 특징으로 하는 기판의 파라미터 결정 방법.
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- 제 23 항에 있어서,사용시, 상기 제 1 밸런스 매스와 상기 베이스 프레임 사이의 탄성 커플링으로 인한 상기 제 1 밸런스 매스의 진동은 밸런스 매스 위치설정 액추에이터에 의해 완화(damp)되는 것을 특징으로 하는 기판의 파라미터 결정 방법.
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