JP2010141321A - リソグラフィ装置、およびリソグラフィ装置の投影システムにかかる外乱の影響を補償する方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】リソグラフィ装置は、放射ビームを調節する照明システムと、放射ビームの断面にパターンを与えて、パターン付き放射ビームを形成することが可能なパターニングデバイスを支持するパターニングデバイスサポートと、基板を保持する基板テーブルWTと、パターン付き放射ビームを基板のターゲット部分上に投影する投影システムPSと、投影システムPSを支持し、少なくとも1つのアクチュエータを含むアクティブエアマウントAMと、可動オブジェクトのセットポイント信号に基づいて、フィードフォワード信号を少なくとも1つのアクチュエータに供給するフィードフォワードデバイスFDとを含み、フィードフォワード信号が、前記可動オブジェクトの移動のため前記投影システムPSにかかる外乱の影響を低減させるように設計されている。
【選択図】図3
Description
Claims (15)
- 放射ビームを調節するように構成された照明システムと、
前記放射ビームの断面にパターンを与えて、パターン付き放射ビームを形成することが可能なパターニングデバイスを支持するように構築されたパターニングデバイスサポートと、
基板を保持するように構築された基板テーブルと、
前記パターン付き放射ビームを前記基板のターゲット部分上に投影するように構成された投影システムと、
前記投影システムを支持し、少なくとも1つのアクチュエータを含むアクティブエアマウントと、
可動オブジェクトのセットポイント信号に基づいて、フィードフォワード信号を前記少なくとも1つのアクチュエータに供給するように構成されたフィードフォワードデバイスとを含むリソグラフィ装置であって、前記フィードフォワード信号が、前記可動オブジェクトの移動のため前記投影システムにかかる外乱の影響を低減させるように設計される、リソグラフィ装置。 - 前記フィードフォワードデバイスが、前記アクチュエータから前記投影システムへの伝達関数の逆数と、前記可動オブジェクトのアクチュエータから前記投影システムへの伝達関数との積に基づいたフィルタを備える、請求項1に記載のリソグラフィ装置。
- 前記フィードフォワードデバイスが、前記可動オブジェクトおよび前記アクチュエータの励振の影響に関する測定値の2次フィッティングを含むフィルタを備える、請求項1に記載のリソグラフィ装置。
- 前記フィードフォワードデバイスが、前記可動オブジェクトおよび前記アクチュエータの移動のため生じる前記投影システムの励振の影響に関する測定値の2つ以上の2次フィッティングの総和を含むフィルタを備える、請求項1に記載のリソグラフィ装置。
- 前記フィードフォワードデバイスが、ローパスフィルタまたはハイパスフィルタをさらに備える、請求項1に記載のリソグラフィ装置。
- 前記可動オブジェクトが、前記基板テーブル、前記パターニングデバイスサポート、前記パターニングデバイスのパターンのない部分を前記放射ビームからマスキングするように構成されたパターニングデバイスマスクデバイス、または基板もしくはパターニングデバイスを操作するロボットである、請求項1に記載のリソグラフィ装置。
- 前記可動部品が、少なくとも1つの主方向における外乱を補償する1つまたは複数のバランスマスと関連付けられた、請求項1に記載のリソグラフィ装置。
- 前記制御デバイスが、前記可動オブジェクトの非主方向における外乱影響を補償するように使用される、請求項1に記載のリソグラフィ装置。
- 前記非主方向が、回転方向を含む、請求項8に記載のリソグラフィ装置。
- 1つまたは複数の加速度センサが、前記可動オブジェクトの作動のため前記投影システムにかかる影響を測定するように、前記投影システムに設けられる、請求項1に記載のリソグラフィ装置。
- 前記リソグラフィ装置が、前記投影システムを支持する複数のアクティブエアマウントを備え、各エアマウントが、アクチュエータを有し、前記制御デバイスが、前記可動オブジェクトの前記セットポイント信号に依存して各アクチュエータを制御するように構成され、前記フィードフォワードデバイスが、各アクチュエータ用の補償フィルタを備える、請求項1に記載のリソグラフィ装置。
- 請求項1に記載のリソグラフィ装置の可動部品の作動のため、前記リソグラフィ装置の前記投影システムにかかる外乱の影響を補償する方法であって、
前記可動部品の作動のため前記投影システムにかかる影響を測定する工程と、
1つまたは複数のエアマウントの作動のため前記投影システムにかかる影響を測定する工程と、
前記測定値に基づいて前記フィードフォワードデバイスのフィルタを設計する工程と、
前記アクティブエアマウントの前記少なくとも1つのアクチュエータを、フィードフォワード信号に基づいて制御する工程であって、前記フィードフォワード信号が、前記フィードフォワードデバイスの前記フィルタによってフィルタリングされた前記可動部品のセットポイントに基づく工程とを含む方法。 - 前記設計工程が、前記測定工程の前記測定値結果に基づいて2次フィッティングを行う工程を含む、請求項12に記載の方法。
- 前記設計工程が、前記測定工程の前記測定値結果に基づいて2つ以上の2次フィッティングの総和を求める工程を含む、請求項12に記載の方法。
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