JP2007273633A - ステージ装置及びその制御方法、露光装置及びデバイス製造方法 - Google Patents
ステージ装置及びその制御方法、露光装置及びデバイス製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2007273633A JP2007273633A JP2006095850A JP2006095850A JP2007273633A JP 2007273633 A JP2007273633 A JP 2007273633A JP 2006095850 A JP2006095850 A JP 2006095850A JP 2006095850 A JP2006095850 A JP 2006095850A JP 2007273633 A JP2007273633 A JP 2007273633A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- stage
- surface plate
- movement
- reaction force
- mass body
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 17
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 15
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims abstract description 165
- 230000005484 gravity Effects 0.000 claims description 27
- 230000001133 acceleration Effects 0.000 claims description 12
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 10
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims description 7
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 12
- 238000009434 installation Methods 0.000 description 5
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 4
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 3
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 230000014509 gene expression Effects 0.000 description 3
- 238000002955 isolation Methods 0.000 description 3
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 3
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 2
- 230000020169 heat generation Effects 0.000 description 2
- 238000007689 inspection Methods 0.000 description 2
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 2
- 238000005096 rolling process Methods 0.000 description 2
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 2
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 238000012790 confirmation Methods 0.000 description 1
- 238000013461 design Methods 0.000 description 1
- 238000011161 development Methods 0.000 description 1
- 238000005538 encapsulation Methods 0.000 description 1
- 239000010408 film Substances 0.000 description 1
- 239000012530 fluid Substances 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 238000005286 illumination Methods 0.000 description 1
- 238000005468 ion implantation Methods 0.000 description 1
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 1
- 238000001459 lithography Methods 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- 238000012858 packaging process Methods 0.000 description 1
- 238000012805 post-processing Methods 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 230000001360 synchronised effect Effects 0.000 description 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 1
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70691—Handling of masks or workpieces
- G03F7/70766—Reaction force control means, e.g. countermass
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70691—Handling of masks or workpieces
- G03F7/70716—Stages
Abstract
【解決手段】ステージ装置は、定盤と、定盤の表面上を移動平面として移動可能なステージと、移動平面に対して鉛直な方向へ移動する質量体を用いて定盤に慣性力を付与する付与機構とを有する。ステージが移動平面を移動する際に定盤に発生する、移動平面に平行な軸まわりの回転方向の力が軽減されるように、ステージの移動に応じて付与機構における質量体の鉛直方向への移動が制御される。
【選択図】 図4
Description
定盤と、
前記定盤の表面上を移動可能なステージと、
前記表面に対して鉛直な方向へ移動する質量体を有し、前記質量体の移動によって前記定盤に慣性力を付与する第1付与手段とを備え、
前記ステージの移動により前記定盤に発生する、前記表面に平行な軸に関する回転方向の力を軽減するように、前記ステージの移動に応じて前記第1付与手段における前記質量体の鉛直方向への移動を制御する制御手段とを備える。
図3は、本実施形態による走査型露光装置の概略構成を示す図である。レチクルステージ301を支持するレチクル定盤302は、床面Fに直接固定された支持枠303に支持される。また、レチクルステージ301上のレチクルを経てウエハステージ304上のウエハWを露光する露光光は、破線で示す光源装置304から発生される。フレーム306はレチクルステージ301とウエハステージ304の間に投影光学系307を支持する。308はレチクルステージ301を加速および減速するリニアモータの固定子である。レチクルステージ301はレチクル定盤302上を移動する。基盤311は床Fに固定され、基盤311の上に定盤312が固定されている。ウエハステージ304は定盤312の上を移動する。
Qy_stg−Fx_stg・Lz_stg=0 …(1)
Qy_base−Fx_stg・Lz_base−Qy_stg+Qy_cnt=0 …(2)
Qy_cnt=Fx_stg・(Lz_stg+Lz_base) …(3)
Qx_cnt=Fy_stg・(Lz_stg+Lz_base) …(4)
(Ffr+Ffl−Fbr−Fbl)・Lx=Fx_stg・Lz …(5)
(Ffr+Fbr−Ffl−Fbl)・Ly=Fy_stg・Lz …(6)
Ffr+Ffl+Fbr+Fbl=0 …(7)
Ffl=(LyFx+LxFy)・Lz/4LxLy
Ffr=−(LyFx−LxFy)・Lz/4LxLy
Fbl=(LyFx−LxFy)・Lz/4LxLy
Fbr=−(LyFx+LxFy)・Lz/4LxLy …(8)
Ffl=(LyFx+LxFy)Lz/4LxLy−Fz/4
Ffr=−(LyFx−LxFy)Lz/4LxLy−Fz/4
Fbl=(LyFx−LxFy)Lz/4LxLy−Fz/4
Fbr=−(LyFx+LxFy)Lz/4LxLy−Fz/4 …(9)
第1実施形態では、ステージ1の駆動によって生じるX軸及びY軸まわりのモーメントを打ち消すと共に、Z方向に加わる反力を相殺可能な構成を説明した。第2実施形態では、更に、ステージ1の駆動によるX方向、Y方向の並進力及びZ軸まわりのモーメントを打ち消す構成を加える。
Fy_cnty=Fy_stg
Fy_cntwzr=(Fx_stg・Ystg−Fy_stg・Xstg)/2Ywzl
Fy_cntwzr=(Fx_stg・Ystg−Fy_stg・Xstg)/2Ywzr …(10)
以上のように第2実施形態によれば、第1実施形態の効果に加えて、ステージ1の駆動に伴うXY面内の並進力やZ軸まわりのモーメントを打ち消すことができる。
次に、第3実施形態を説明する。第3実施形態では、ステージ1の移動により生じる並進力の相殺に反力カウンタを用いない。また、ステージ1の移動により生じるZ軸まわりのモーメントを定盤5内に配置されたロータにより相殺する。なお、ロータは円盤状の質量体であり、固定子が定盤5に固定され、ロータ(回転子)が定盤5の内部に設けられて回転する構成となっている。
即ち、定盤5は床を平面的に移動可能なように支持されており、ステージ1の推力の反力で定盤が移動する。床から支持された移動しない部材に測定器(例えば、レーザ干渉計)を設け、床座標基準でステージ1の位置を測定することで、定盤5が移動しても正しい位置決めが可能となる。また、定盤5が移動するため、ステージ1の推力は定盤5の加速度分だけ余分に必要となる。
Fx_base=Fx_stg
m_base・Acc_base=m_stg(Acc_stg+Acc_base) …(11a)
尚、上記式において、Acc_baseとAcc_stgはそれぞれ床座標系から見た定盤5とステージ1の加速度の絶対値である。
定盤5が移動するため、ステージ1の必要推力はステージ1と定盤5の相対化速度となる。換言すると、ステージ1が床座標系から見てAcc_stgで移動する反力によって定盤5に生じる加速度は、
Acc_base=Acc_stg・m_stg/(m_base−m_stg) …(11b)
と表される。
Fy_base=Fy_stg
Qz_roter=Fx_stg・Ystg−Fy_stg・Xstg …(11c)
また、上記実施形態では、定盤5に1つのステージが搭載された例を示したが、定盤5に複数のステージが設置されたような場合にも、上記各実施形態は適用可能である。その場合、複数のステージの駆動反力によるモーメントの合計を軽減、相殺するように反力カウンタ3を駆動することになる。
次に上述した露光装置を利用した半導体デバイスの製造方法の実施形態を説明する。図10は半導体デバイス(ICやLSI等の半導体チップ、液晶パネル、CCD、薄膜磁気ヘッド、マイクロマシン等)の製造のフローを示す。ステップS11(回路設計)では半導体デバイスの回路設計を行う。ステップS12(レチクル製作)では設計した回路パターンを形成したレチクルを製作する。一方、ステップS13(ウエハ製造)ではシリコン等の材料を用いて基板であるウエハを製造する。ステップS14(ウエハプロセス)は前工程と呼ばれ、上記用意したレチクルとウエハを用いて、リソグラフィ技術によってウエハ上に実際の回路を形成する。次のステップS15(組立)は後工程と呼ばれ、ステップS14によって作製されたウエハを用いて半導体チップ化する工程であり、アッセンブリ工程(ダイシング、ボンディング)、パッケージング工程(チップ封入)等の工程を含む。ステップS16(検査)ではステップS15で作製された半導体デバイスの動作確認テスト、耐久性テスト等の検査を行う。こうした工程を経て半導体デバイスが完成し、これが出荷(ステップS17)される。
Claims (18)
- 定盤と、
前記定盤の表面上を移動可能なステージと、
前記表面に対して鉛直な方向へ移動する質量体を有し、前記質量体の移動によって前記定盤に慣性力を付与する第1付与手段とを備え、
前記ステージの移動により前記定盤に発生する、前記表面に平行な軸まわりの回転方向の力を軽減するように、前記ステージの移動に応じて前記第1付与手段における前記質量体の鉛直方向への移動を制御する制御手段とを備えることを特徴とするステージ装置。 - 前記ステージと前記定盤の間に形成された、前記ステージを駆動するための平面モータを更に備えることを特徴とする請求項1に記載のステージ装置。
- 前記第1付与手段は、鉛直な方向へ移動する質量体を複数有することを特徴とする請求項1又は2に記載のステージ装置。
- 前記制御手段は、前記ステージの移動によって発生される、前記表面に平行で互いに直交する2つの軸の各々の軸まわりの回転方向の反力を相殺するように前記第1付与手段における前記質量体を駆動することを特徴とする請求項1または2記載のステージ装置。
- 前記制御手段は、前記ステージの駆動指令値を利用して前記質量体の駆動指令値を生成することを特徴とする請求項1乃至4のいずれかに記載のステージ装置。
- 前記制御手段は、前記ステージの前記表面方向の推力と、前記ステージの重心と前記定盤の重心の距離に基づいて、前記質量体の前記鉛直方向への推力を決定する事を特徴とする請求項5に記載のステージ装置。
- 前記制御手段は、前記ステージの現在の位置、速度、加速度のいずれか一つまたは複数を利用して前記質量体の駆動指令値を生成することを特徴とする請求項1乃至6のいずれかに記載のステージ装置。
- 前記質量体に対して重力と反対方向の力を与える自重補償機構を更に備えることを特徴とする請求項1乃至7のいずれかに記載のステージ装置。
- 前記複数の質量体の前記鉛直方向への推力の総和が0となることを特徴とする請求項3に記載のステージ装置。
- 前記表面に対して平行な方向へ移動する質量体を有し、この質量体の移動によって前記定盤に慣性力を付与する第2付与手段を更に備え、
前記制御手段は、更に、前記ステージの移動により前記定盤に発生する、前記表面に鉛直な軸に関する回転方向の力を軽減するように、前記ステージの移動に応じて前記第2付与手段における質量体の移動を制御することを特徴とする請求項1に記載のステージ装置。 - 前記制御手段は、更に、前記ステージの移動によって発生する前記表面に沿った並進力を相殺するように、前記第2付与手段の質量体の移動を制御することを特徴とする請求項10に記載のステージ装置。
- 前記定盤は前記表面に沿った方向へ移動可能に設けられており、前記定盤の移動により前記ステージの移動によって発生する前記表面に沿った並進力を相殺することを特徴とする請求項1に記載のステージ装置。
- 前記定盤内で回転可能な質量体を有し、この質量体の回転により、前記表面に鉛直な軸まわりの回転方向の力を前記定盤に付与する第3付与手段を更に備え、
前記制御手段は、更に、前記ステージの移動により前記定盤に発生する、前記表面に鉛直な軸に関する回転方向の力を軽減するように、前記ステージの移動に応じて前記第3付与手段における質量体の回転を制御することを特徴とする請求項1又は12に記載のステージ装置。 - 複数のステージが前記定盤上に設けられ、
前記制御手段は、前記複数のステージの移動により前記定盤に発生する、前記表面に平行な軸まわりの回転方向の合成力を軽減するように、前記ステージの移動に応じて前記第1付与手段における前記質量体の鉛直方向への移動を制御することを特徴とする請求項1に記載のステージ装置。 - 定盤と、
前記定盤の表面上を移動可能なステージと、
前記表面に対して鉛直な方向へ移動可能な質量体を有し、前記質量体の移動によって前記定盤に慣性力を付与する第1付与手段とを備えたステージ装置の制御方法であって、
前記ステージの移動により前記定盤に発生する、前記表面に平行な軸まわりの回転方向の力を軽減するように、前記ステージの移動に応じて前記第1付与手段における前記質量体の鉛直方向への移動を制御する制御工程を備えることを特徴とするステージ装置の制御方法。 - 露光光を発光する光源と、
ウエハを搭載して移動するウエハステージと、
レチクルを搭載するレチクルステージと、
前記露光光により、前記レチクルステージに搭載されたレチクルパターンを前記ウエハステージ上のウエハに結像する光学系とを備え、
前記ウエハステージが請求項1乃至14のいずれかに記載されたステージ装置を備えていることを特徴とする露光装置。 - 請求項16に記載の露光装置を用いて基板にパターンを露光する工程と、
露光された基板を現像する工程とを有することを特徴とするデバイス製造方法。 - デバイス製造方法であって、
請求項16に記載の露光装置を用いて基板に潜像パターンが形成された基板を用意する工程と、
前記潜像パターンを現像する工程とを含むことを特徴とするデバイス製造方法。
Priority Applications (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006095850A JP4834439B2 (ja) | 2006-03-30 | 2006-03-30 | ステージ装置及びその制御方法、露光装置及びデバイス製造方法 |
US11/687,798 US7738080B2 (en) | 2006-03-30 | 2007-03-19 | Stage apparatus, method for controlling the same, exposure apparatus, and method for manufacturing device |
TW096109516A TWI369588B (en) | 2006-03-30 | 2007-03-20 | Stage apparatus, method for controlling the same, exposure apparatus, and method for manufacturing device |
KR1020070029128A KR100848598B1 (ko) | 2006-03-30 | 2007-03-26 | 스테이지 장치, 그 제어 방법, 노광장치, 및 디바이스제조방법 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006095850A JP4834439B2 (ja) | 2006-03-30 | 2006-03-30 | ステージ装置及びその制御方法、露光装置及びデバイス製造方法 |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2007273633A true JP2007273633A (ja) | 2007-10-18 |
JP2007273633A5 JP2007273633A5 (ja) | 2009-04-23 |
JP4834439B2 JP4834439B2 (ja) | 2011-12-14 |
Family
ID=38558380
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2006095850A Expired - Fee Related JP4834439B2 (ja) | 2006-03-30 | 2006-03-30 | ステージ装置及びその制御方法、露光装置及びデバイス製造方法 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US7738080B2 (ja) |
JP (1) | JP4834439B2 (ja) |
KR (1) | KR100848598B1 (ja) |
TW (1) | TWI369588B (ja) |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2009033058A (ja) * | 2007-07-30 | 2009-02-12 | Sumitomo Heavy Ind Ltd | 反力処理装置 |
JP2009260339A (ja) * | 2008-04-14 | 2009-11-05 | Asml Netherlands Bv | 位置決めシステム、リソグラフィ装置、およびデバイス製造方法 |
KR101138901B1 (ko) | 2008-04-14 | 2012-05-14 | 에이에스엠엘 네델란즈 비.브이. | 위치설정 시스템, 리소그래피 장치 및 디바이스 제조 방법 |
JP2013093423A (ja) * | 2011-10-25 | 2013-05-16 | Canon Inc | 加工機システム及び加工機の配置方法 |
JP2021509968A (ja) * | 2018-01-04 | 2021-04-08 | エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ. | 位置決め装置、リソグラフィ装置、バランス・マストルクを補償する方法及び装置製造方法 |
Families Citing this family (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR101584827B1 (ko) * | 2008-03-07 | 2016-01-13 | 가부시키가이샤 니콘 | 이동체 장치 및 노광 장치 |
TW201007124A (en) * | 2008-08-08 | 2010-02-16 | Taiwan First Brakes Technology Co Ltd | Object surface inspection device |
NL2003993A (nl) * | 2009-01-22 | 2010-07-26 | Asml Netherlands Bv | Control system, lithographic apparatus and a method to control a position quantity of a control location of a movable object. |
JP5295855B2 (ja) * | 2009-04-28 | 2013-09-18 | 住友重機械工業株式会社 | 反力処理機構 |
CN103472678B (zh) * | 2012-06-08 | 2015-07-22 | 上海微电子装备有限公司 | 光刻机及应用于光刻机中的工件台系统 |
JP6384479B2 (ja) * | 2013-06-28 | 2018-09-05 | 株式会社ニコン | 移動体装置及び露光装置、並びにデバイス製造方法 |
US10471610B2 (en) | 2015-06-16 | 2019-11-12 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Robot arm having weight compensation mechanism |
JP6556196B2 (ja) * | 2017-07-27 | 2019-08-07 | 倉敷化工株式会社 | アクティブ除振装置 |
Citations (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH07139582A (ja) * | 1993-06-24 | 1995-05-30 | Canon Inc | 鉛直方向除振台の制御装置 |
JPH11190786A (ja) * | 1997-12-26 | 1999-07-13 | Canon Inc | ステージ装置、およびこれを用いた露光装置ならびにデバイス製造方法 |
JPH11294520A (ja) * | 1998-04-08 | 1999-10-29 | Canon Inc | 除振装置、これを用いた露光装置およびデバイス製造方法、ならびに除振方法 |
JP2000337429A (ja) * | 1999-05-31 | 2000-12-05 | Canon Inc | 能動制振装置およびこれを用いた半導体露光装置 |
JP2000338127A (ja) * | 1999-05-31 | 2000-12-08 | Canon Inc | 加速度計およびこれを用いた能動制振装置 |
JP2001304332A (ja) * | 2000-04-24 | 2001-10-31 | Canon Inc | 能動制振装置 |
JP2002221249A (ja) * | 2000-11-27 | 2002-08-09 | Canon Inc | 能動制振装置、その制御方法および能動制振装置を備えた露光装置 |
JP2003218188A (ja) * | 2002-01-18 | 2003-07-31 | Canon Inc | ステージシステム |
JP2004356222A (ja) * | 2003-05-27 | 2004-12-16 | Canon Inc | ステージ装置及びその制御方法、露光装置、並びにデバイス製造方法 |
JP2005354022A (ja) * | 2004-05-14 | 2005-12-22 | Canon Inc | ステージ装置および露光装置ならびにデバイス製造方法 |
JP2006032788A (ja) * | 2004-07-20 | 2006-02-02 | Canon Inc | 露光装置及び半導体デバイスの製造方法 |
Family Cites Families (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
NL9100407A (nl) | 1991-03-07 | 1992-10-01 | Philips Nv | Optisch lithografische inrichting met een krachtgecompenseerd machinegestel. |
US5684856A (en) | 1991-09-18 | 1997-11-04 | Canon Kabushiki Kaisha | Stage device and pattern transfer system using the same |
JP2714502B2 (ja) | 1991-09-18 | 1998-02-16 | キヤノン株式会社 | 移動ステージ装置 |
US6408045B1 (en) * | 1997-11-11 | 2002-06-18 | Canon Kabushiki Kaisha | Stage system and exposure apparatus with the same |
JP3535749B2 (ja) * | 1997-12-10 | 2004-06-07 | キヤノン株式会社 | ステージ装置、露光装置、並びにデバイス製造方法 |
JP3919382B2 (ja) * | 1999-05-19 | 2007-05-23 | 株式会社クボタ | コンバインの運転部構造 |
JP2001118773A (ja) * | 1999-10-18 | 2001-04-27 | Nikon Corp | ステージ装置及び露光装置 |
JP2005203567A (ja) * | 2004-01-15 | 2005-07-28 | Canon Inc | 駆動装置、露光装置及びデバイス製造方法 |
US7224432B2 (en) * | 2004-05-14 | 2007-05-29 | Canon Kabushiki Kaisha | Stage device, exposure apparatus, and device manufacturing method |
US7321418B2 (en) * | 2004-10-14 | 2008-01-22 | Canon Kabushiki Kaisha | Stage apparatus, exposure apparatus, and device manufacturing method |
-
2006
- 2006-03-30 JP JP2006095850A patent/JP4834439B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
2007
- 2007-03-19 US US11/687,798 patent/US7738080B2/en not_active Expired - Fee Related
- 2007-03-20 TW TW096109516A patent/TWI369588B/zh not_active IP Right Cessation
- 2007-03-26 KR KR1020070029128A patent/KR100848598B1/ko active IP Right Grant
Patent Citations (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH07139582A (ja) * | 1993-06-24 | 1995-05-30 | Canon Inc | 鉛直方向除振台の制御装置 |
JPH11190786A (ja) * | 1997-12-26 | 1999-07-13 | Canon Inc | ステージ装置、およびこれを用いた露光装置ならびにデバイス製造方法 |
JPH11294520A (ja) * | 1998-04-08 | 1999-10-29 | Canon Inc | 除振装置、これを用いた露光装置およびデバイス製造方法、ならびに除振方法 |
JP2000337429A (ja) * | 1999-05-31 | 2000-12-05 | Canon Inc | 能動制振装置およびこれを用いた半導体露光装置 |
JP2000338127A (ja) * | 1999-05-31 | 2000-12-08 | Canon Inc | 加速度計およびこれを用いた能動制振装置 |
JP2001304332A (ja) * | 2000-04-24 | 2001-10-31 | Canon Inc | 能動制振装置 |
JP2002221249A (ja) * | 2000-11-27 | 2002-08-09 | Canon Inc | 能動制振装置、その制御方法および能動制振装置を備えた露光装置 |
JP2003218188A (ja) * | 2002-01-18 | 2003-07-31 | Canon Inc | ステージシステム |
JP2004356222A (ja) * | 2003-05-27 | 2004-12-16 | Canon Inc | ステージ装置及びその制御方法、露光装置、並びにデバイス製造方法 |
JP2005354022A (ja) * | 2004-05-14 | 2005-12-22 | Canon Inc | ステージ装置および露光装置ならびにデバイス製造方法 |
JP2006032788A (ja) * | 2004-07-20 | 2006-02-02 | Canon Inc | 露光装置及び半導体デバイスの製造方法 |
Cited By (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2009033058A (ja) * | 2007-07-30 | 2009-02-12 | Sumitomo Heavy Ind Ltd | 反力処理装置 |
JP2009260339A (ja) * | 2008-04-14 | 2009-11-05 | Asml Netherlands Bv | 位置決めシステム、リソグラフィ装置、およびデバイス製造方法 |
US8144310B2 (en) | 2008-04-14 | 2012-03-27 | Asml Netherlands B.V. | Positioning system, lithographic apparatus and device manufacturing method |
KR101138901B1 (ko) | 2008-04-14 | 2012-05-14 | 에이에스엠엘 네델란즈 비.브이. | 위치설정 시스템, 리소그래피 장치 및 디바이스 제조 방법 |
US9122173B2 (en) | 2008-04-14 | 2015-09-01 | Asml Netherlands B.V. | Positioning system, lithographic apparatus and device manufacturing method |
JP2013093423A (ja) * | 2011-10-25 | 2013-05-16 | Canon Inc | 加工機システム及び加工機の配置方法 |
JP2021509968A (ja) * | 2018-01-04 | 2021-04-08 | エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ. | 位置決め装置、リソグラフィ装置、バランス・マストルクを補償する方法及び装置製造方法 |
JP6990775B2 (ja) | 2018-01-04 | 2022-01-12 | エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ. | 位置決め装置、リソグラフィ装置、バランス・マストルクを補償する方法及び装置製造方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR100848598B1 (ko) | 2008-07-28 |
TWI369588B (en) | 2012-08-01 |
JP4834439B2 (ja) | 2011-12-14 |
KR20070098559A (ko) | 2007-10-05 |
US7738080B2 (en) | 2010-06-15 |
TW200801835A (en) | 2008-01-01 |
US20070229794A1 (en) | 2007-10-04 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP4834439B2 (ja) | ステージ装置及びその制御方法、露光装置及びデバイス製造方法 | |
JP3554186B2 (ja) | 露光装置、デバイス製造方法および反力受け方法 | |
US6028376A (en) | Positioning apparatus and exposure apparatus using the same | |
CN1260772C (zh) | 载物台装置、载物台驱动方法和曝光装置及曝光方法 | |
JP2000206279A (ja) | 位置決め装置、露光装置およびデバイス製造方法 | |
JPH11315883A (ja) | 除振装置、露光装置およびデバイス製造方法 | |
KR20010067456A (ko) | 전사 장치용 균형화 위치결정시스템 | |
US6987558B2 (en) | Reaction mass for a stage device | |
JP2001195130A (ja) | 位置決め装置、半導体露光装置およびデバイス製造方法 | |
JPWO2009031654A1 (ja) | 駆動制御方法、駆動制御装置、ステージ制御方法、ステージ制御装置、露光方法、露光装置及び計測装置 | |
JP2005203567A (ja) | 駆動装置、露光装置及びデバイス製造方法 | |
JP2000021702A (ja) | 露光装置ならびにデバイス製造方法 | |
JP3679776B2 (ja) | 駆動装置、露光装置及びデバイス製造方法 | |
JP3963410B2 (ja) | 位置決め装置およびこれを用いた露光装置 | |
JP3825921B2 (ja) | 走査露光装置およびデバイス製造方法 | |
JP2008227015A (ja) | 露光装置並びにデバイス製造方法 | |
JP2004165416A (ja) | 露光装置及び建屋 | |
JP7472958B2 (ja) | 移動体装置、露光装置、及びデバイス製造方法 | |
JP2004134456A (ja) | 移動装置及び露光装置並びにデバイスの製造方法 | |
JP5495948B2 (ja) | ステージ装置、露光装置及びデバイスの製造方法 | |
JP5578485B2 (ja) | 移動体装置、露光装置、及びデバイス製造方法 | |
JP2004152902A (ja) | 位置決め装置 | |
JP4011919B2 (ja) | 移動装置及び露光装置並びに半導体デバイスの製造方法 | |
JP2010010593A (ja) | 防振装置、ステージ装置及び露光装置 | |
KR20020036698A (ko) | 스테이지 장치 및 노광 장치 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20090309 |
|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20090309 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20110519 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20110523 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20110721 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20110916 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20110926 |
|
R151 | Written notification of patent or utility model registration |
Ref document number: 4834439 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R151 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140930 Year of fee payment: 3 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |