JP2007273633A5 - - Google Patents

Claims (18)

1. 定盤と、
   前記定盤の表面上を移動可能なステージと、
   前記表面に対して鉛直な方向へ移動する質量体を有し、前記質量体の移動によって前記定盤に慣性力を付与する第１付与手段とを備え、
   前記ステージの移動により前記定盤に発生する、前記表面に平行な軸まわりの回転方向の力を軽減するように、前記ステージの移動に応じて前記第１付与手段における前記質量体の鉛直方向への移動を制御する制御手段とを備えることを特徴とするステージ装置。
2. 前記ステージと前記定盤の間に形成された、前記ステージを駆動するための平面モータを更に備えることを特徴とする請求項１に記載のステージ装置。
3. 前記第１付与手段は、鉛直な方向へ移動する質量体を複数有することを特徴とする請求項１または２に記載のステージ装置。
4. 前記制御手段は、前記ステージの移動によって発生される、前記表面に平行で互いに直交する２つの軸の各々の軸まわりの回転方向の反力を相殺するように前記第１付与手段における前記質量体を駆動することを特徴とする請求項１または２記載のステージ装置。
5. 前記制御手段は、前記ステージの駆動指令値を利用して前記質量体の駆動指令値を生成することを特徴とする請求項１乃至４のいずれか１項に記載のステージ装置。
6. 前記制御手段は、前記ステージの前記表面に対して平行な方向への推力と、前記ステージの重心と前記定盤の重心の距離に基づいて、前記質量体の前記鉛直方向への推力を決定することを特徴とする請求項５に記載のステージ装置。
7. 前記制御手段は、前記ステージの現在の位置、速度、加速度のいずれか一つまたは複数を利用して前記質量体の駆動指令値を生成することを特徴とする請求項１乃至６のいずれか１項に記載のステージ装置。
8. 前記質量体に対して重力と反対方向の力を与える自重補償機構を更に備えることを特徴とする請求項１乃至７のいずれか１項に記載のステージ装置。
9. 前記複数の質量体の前記鉛直方向への推力の総和が０となることを特徴とする請求項３に記載のステージ装置。
10. 前記表面に対して平行な方向へ移動する質量体を有し、この質量体の移動によって前記定盤に慣性力を付与する第２付与手段を更に備え、
    前記制御手段は、更に、前記ステージの移動により前記定盤に発生する、前記表面に鉛直な軸に関する回転方向の力を軽減するように、前記ステージの移動に応じて前記第２付与手段における質量体の移動を制御することを特徴とする請求項１に記載のステージ装置。
11. 前記制御手段は、更に、前記ステージの移動によって発生する前記表面に沿った並進力を相殺するように、前記第２付与手段の質量体の移動を制御することを特徴とする請求項１０に記載のステージ装置。
12. 前記定盤は前記表面に沿った方向へ移動可能に設けられており、前記定盤の移動により前記ステージの移動によって発生する前記表面に沿った並進力を相殺することを特徴とする請求項１に記載のステージ装置。
13. 前記定盤内で回転可能な質量体を有し、この質量体の回転により、前記表面に鉛直な軸まわりの回転方向の力を前記定盤に付与する第３付与手段を更に備え、
    前記制御手段は、更に、前記ステージの移動により前記定盤に発生する、前記表面に鉛直な軸に関する回転方向の力を軽減するように、前記ステージの移動に応じて前記第３付与手段における質量体の回転を制御することを特徴とする請求項１または１２に記載のステージ装置。
14. 複数のステージが前記定盤上に設けられ、
    前記制御手段は、前記複数のステージの移動により前記定盤に発生する、前記表面に平行な軸まわりの回転方向の合成力を軽減するように、前記ステージの移動に応じて前記第１付与手段における前記質量体の鉛直方向への移動を制御することを特徴とする請求項１に記載のステージ装置。
15. 定盤と、
    前記定盤の表面上を移動可能なステージと、
    前記表面に対して鉛直な方向へ移動可能な質量体を有し、前記質量体の移動によって前記定盤に慣性力を付与する第１付与手段とを備えたステージ装置の制御方法であって、
    前記ステージの移動により前記定盤に発生する、前記表面に平行な軸まわりの回転方向の力を軽減するように、前記ステージの移動に応じて前記第１付与手段における前記質量体の鉛直方向への移動を制御する制御工程を備えることを特徴とするステージ装置の制御方法。
16. 露光光を発光する光源と、
    ウエハを搭載して移動するウエハステージと、
    レチクルを搭載するレチクルステージと、
    前記露光光により、前記レチクルステージに搭載されたレチクルパターンを前記ウエハステージ上のウエハに結像する光学系とを備え、
    前記ウエハステージが請求項１乃至１４のいずれか１項に記載されたステージ装置を備えていることを特徴とする露光装置。
17. 請求項１６に記載の露光装置を用いて基板にパターンを露光する工程と、
    露光された基板を現像する工程とを有することを特徴とするデバイス製造方法。
18. デバイス製造方法であって、
    請求項１６に記載の露光装置を用いて基板に潜像パターンが形成された基板を用意する工程と、
    前記潜像パターンを現像する工程とを含むことを特徴とするデバイス製造方法。