JP4490875B2 - リソグラフィ投影装置に使うための平衡位置決めシステム - Google Patents
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Description
更に詳しくは、この発明は、リソグラフィ投影装置であって、
放射線の投影ビームを供給するための放射線システム、
マスクを保持するための第1物体テーブル、
基板を保持するための第2物体テーブル、および
このマスクの被照射部分をこの基板の目標部分上に結像するための投影システムを含む投影装置でそのようなシステムを使用することに関する。
放射線の投影ビームを供給するための放射線システム、
マスクを保持するための第1物体テーブル、
基板を保持するための第2物体テーブル、
このマスクの被照射部分をこの基板の目標部分上に結像するための投影システム、
上記物体テーブルの少なくとも一つを位置決めするための平衡位置決めシステムをさらに有し、該システムは、
第1平衡質量および第2平衡質量、
上記第1および第2平衡質量を少なくとも一つの方向に実質的に自由に並進できるように支持するための軸受手段、および
上記一つの物体テーブルと上記第1および第2平衡質量との間に直接作用して上記物体テーブルを上記一つの方向と垂直な軸周りに回転するための駆動手段で、上記物体テーブルの上記回転を行わせるために上記第1および第2平衡質量に互いに反対方向に線形力を働かせるように構成した駆動手段、を含むことに特徴があるシステム、
を含む投影装置が提供される。
放射線の投影ビームを供給するための放射線システム、
マスクを保持するための第1物体テーブル、
基板を保持するための第2物体テーブル、
およびこのマスクの被照射部分をこの基板の目標部分上に結像するための投影システム、を含む投影装置を使うデバイスの製造方法において、
パターンを坦持するマスクを上記第1物体テーブルに用意する工程、
放射線感応層を備える基板を上記第2物体テーブルに用意する工程、
このマスクの部分を照射し、上記基板の上記目標部分上に照射部分を結像する工程を含む方法に於いて、
上記物体テーブルの少なくとも一つを、少なくとも一つの方向に自由に動ける第1および第2平衡質量並びに上記一つの物体テーブルと上記平衡質量の間に作用する駆動手段を含む位置決めシステムを使って位置決めし、並びに
上記照射工程中またはその前に、上記一つの物体テーブルをそれと上記第1および第2平衡質量の間に互いに反対に向いた力を加えることによって回転することを特徴とする方法が提供される。
この装置は、
放射線(例えば、UV若しくはEUV線、x線、電子またはイオン)の投影ビームPBを供給するための放射線システムLA、IL、
マスクMA(例えば、レチクル)を保持するためのマスクホルダを備え、このマスクを部材PLに関して正確に位置決めするための第1位置決め手段に結合された第1物体テーブル(マスクテーブル)MT、
基板W(例えば、レジストを塗被したシリコンウエハ)を保持するための基板ホルダを備え、この基板を部材PLに関して正確に位置決めするための第2位置決め手段に結合された第2物体テーブル(基板テーブル)WT、
このマスクMAの被照射部分を基板Wの目標部分C上に結像するための投影システム(“レンズ”)PL(例えば、屈折若しくは反射屈折性のシステム、ミラーグループまたは視界偏向器アレイ)、
を含む。
ここに描くように、この装置は、透過型である(即ち、透過性のマスクを有する)。しかし、一般的に、それは、例えば、反射型でもよい。
図示する装置は、二つの異なるモードで使うことができる。
1.ステップモードでは、マスクテーブルMTを本質的に固定して保持し、全マスク像を目標部分C上に一度に(即ち、単一“フラッシュ”で)投影する。次に基板テーブルWTをXおよび/またはY方向に移動して異なる目標部分CをビームPBで照射できるようにする。
2.走査モードでは、与えられた目標部分Cを単一“フラッシュ”では露出しないことを除いて、本質的に同じシナリオを適用する。その代りに、マスクテーブルMTが与えられた方向(所謂“走査方向”、例えば、Y方向)に速度vで動き得て、それで投影ビームPBがマスク像の上を走査させられ、同時に、基板テーブルWTがそれと共に同じまたは反対方向に速度V=Mvで動かされ、このMはレンズPLの倍率(典型的には、M=1/4または1/5)である。この様にして、比較的大きい目標部分Cを、解像度について妥協する必要なく、露出できる。
l1およびl2は、平衡質量20、30の質量中心CGB1、CGB2とマスクテーブルMTの質量中心CGMTの間のX方向距離であり、並びに
mb1、mb2およびmMTは、平衡質量20、30およびマスクテーブルMTの質量である。
1.プログラム可能ミラーアレイ
そのような装置の例は、粘弾性制御層および反射面を有するマトリックスアドレス可能面である。そのような装置の背後の基本原理は、(例えば)この反射面のアドレス指定された領域が入射光を回折光として反射し、一方アドレス指定されない領域が入射光を未回折光として反射するということである。適当なフィルタを使って、上記未回折光を反射ビームから濾過して取除き、回折光だけを後に残すことができ、この様にして、このビームがマトリックスアドレス可能面のアドレス指定パターンに従ってパターン化されるようになる。必要なアドレス指定は、適当な電子手段を使って行える。そのようなミラーアレイについての更なる情報は、例えば、米国特許US5,296,891およびUS5,523,193から収集することができ、それらを参考までにここに援用する。
2.プログラム可能LCDアレイ
そのような構成の例は、米国特許US5,229,872で与えられ、それを参考までにここに援用する。
18 駆動手段
20 第1平衡質量
21 軸受手段
22 軸受手段
23 軸受手段
24 第2駆動手段
25 第2駆動手段
30 第2平衡質量
31 軸受手段
32 軸受手段
33 軸受手段
34 第2駆動手段
35 第2駆動手段
60 第3平衡質量
71 支持手段
72 支持手段
73 支持手段
80 フレーム
130 サーボ制御システム
133 アクチュエータ手段
BP ベース
C 基板の目標部分
IL 照明システム
LA 放射源
MA マスク
MT 第1物体テーブル
PB 投影ビーム
PL 投影システム
W 基板
WT 第2物体テーブル
X 第2方向
Y 第1方向
Z 第3方向
Claims (10)
- リソグラフィ投影装置であって:
放射線の投影ビーム(PB)を供給するための放射線システム(LA、IL);
マスク(MA)を保持するための第1物体テーブル(MT);
基板(W)を保持するための第2物体テーブル(WT);
このマスクの被照射部分をこの基板の目標部分(C)上に結像するための投影システム(PL);
上記物体テーブルの少なくとも一つを位置決めするための平衡位置決めシステムで:
上記物体テーブルの両側に配置された第1平衡質量(20)および第2平衡質量(30);
上記第1および第2平衡質量を少なくとも第1方向(Y)に実質的に自由に並進できるように支持するための軸受手段(21、22、23;31、32、33);および
上記一つの物体テーブルと上記第1および第2平衡質量との間に直接作用して上記物体テーブルを上記第1方向と垂直な軸(Z)周りに回転するための駆動手段(18、17)で、上記物体テーブルの上記回転を行わせるために上記第1および第2平衡質量に互いに反対方向に線形力を働かせるように構成した駆動手段;
を含むことに特徴がある平行位置決めシステム;
を含むリソグラフィ投影装置。 - 更に、上記平衡質量(20、30)のドリフトを制限するためのドリフト制御手段で、サーボ制御システム(130)と、上記平衡質量に上記平衡質量、位置決め手段および物体テーブルの組合せ質量中心を所望の位置へ戻そうとする力を加えるためのアクチュエータ手段(133)とを含むドリフト制御手段を含む、請求項1に記載の装置。
- 上記ドリフト制御手段がこの平衡質量(20、30)およびこの装置のベース(BP)の最低共振振動数より少なくとも5倍低いサーボ帯域幅を有する、請求項2に記載の装置。
- 上記駆動手段(18、17)が上記物体テーブル(MT)と上記第1および第2平衡質量(20、30)との間に同じ向きの力を加えることによって上記物体テーブルを上記第1方向(Y)に並進させるようにされた、請求項1ないし請求項3の何れか一つに記載の装置。
- 上記平衡質量(20、30)の少なくとも一つが上記第1方向(Y)と直交する少なくとも第2方向(X)にも自由に動ける、請求項1ないし請求項4の何れか一つに記載の装置。
- 上記物体テーブルがフレーム(80)に取り付けてあり、上記駆動手段(18、17)が上記フレームと上記第1および第2平衡質量(20、30)との間に作用し;この装置が、更に、上記物体テーブルを少なくとも上記第2方向(X)に、上記駆動手段が上記フレームを位置決めするより高い精度で位置決めするために、上記物体テーブルと上記フレームの間に作用する短ストローク作動手段(84)を含む、請求項5に記載の装置。
- 更に、上記物体テーブルを上記第2方向(X)に駆動するために上記フレーム(80)と上記一つの平衡質量(20、30)の間に作用するための第2駆動手段(24、25;34、35)を含む、請求項5に記載の装置。
- 上記第1方向(Y)が上記物体テーブル(MT、WT)上に保持したマスク(MA)または基板(W)の表面と実質的に平行である、請求項1ないし請求項7の何れか一つに記載の装置。
- 更に、上記軸(Z)と平行な方向に実質的に自由に動ける第3平衡質量(60)、および上記物体テーブルを重力に抗して支持し且つ上記物体テーブルを上記軸と平行な方向に位置決めするために上記物体テーブルと上記第3平衡質量の間に作用する支持手段(71、72、73)を含む、請求項1ないし請求項8の何れか一つに記載の装置。
- リソグラフィ投影装置で:
放射線の投影ビーム(PB)を供給するための放射線システム(LA、IL);
マスク(MA)を保持するための第1物体テーブル(MT);
基板(W)を保持するための第2物体テーブル(WT);および
このマスクの被照射部分をこの基板の目標部分(C)上に結像するための投影システム(PL);を含む投影装置を使うデバイスの製造方法であって:
パターンを坦持するマスクを上記第1物体テーブルに用意する工程;
放射線感応層を備える基板を上記第2物体テーブルに用意する工程;
このマスクの部分を上記基板の上記目標部分上に照射する工程を含む方法に於いて:
上記物体テーブルの少なくとも一つを、上記物体テーブルの両側に配置され且つ少なくとも一つの方向(Y)に自由に動ける第1および第2平衡質量(20、30)並びに上記一つの物体テーブルと上記平衡質量の間に作用する駆動手段(17、18)を含む位置決めシステムを使って位置決めし;並びに
上記照射工程中またはその前に、上記一つの物体テーブルを、上記第1および第2平衡質量に互いに反対に向いた力を加えることによって、上記一つの方向と垂直な軸(Z)周りに回転させることを特徴とする方法。
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