JPS6018918A - ステージ装置 - Google Patents
ステージ装置Info
- Publication number
- JPS6018918A JPS6018918A JP58126085A JP12608583A JPS6018918A JP S6018918 A JPS6018918 A JP S6018918A JP 58126085 A JP58126085 A JP 58126085A JP 12608583 A JP12608583 A JP 12608583A JP S6018918 A JPS6018918 A JP S6018918A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- stage
- guide
- slide
- minute displacement
- pad
- Prior art date
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- Granted
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-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70691—Handling of masks or workpieces
- G03F7/70716—Stages
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Details Of Measuring And Other Instruments (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Control Of Position Or Direction (AREA)
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、高精度の位置決めを必要とする多分野の機器
、特にＩＷＩ精度が要求される半導体生産用のマスクア
ライナ−に適用される、拘束型ガスベアリングガイド方
式のステージの位置決め方法に関する。
、特にＩＷＩ精度が要求される半導体生産用のマスクア
ライナ−に適用される、拘束型ガスベアリングガイド方
式のステージの位置決め方法に関する。
従来、ステージの位置決め機構として使用されている拘
束型ガスベアリングガイドは、該ガイドの一部を成すガ
ス供給パッドに供給するガス圧力を、高低に制御するこ
とにより、ステージの位置決めを行なっている。しかし
ながらこの方法では、供給ガス圧力が一定でない、すな
わち変化させる必要性があるため供給ガス圧力が低く制
御された場合は、前記ガイドの剛性が劣下し、ガスベア
リングガイドとして外乱に対する抵抗力が弱くなるとい
う問題点がある。又、カスベアリングガイドの一部を成
すガイドと前記パッドとの間の隙間は、通常的１０ｇｍ
で非常に小さくその上、ガスベアリングガイドとしての
動作上の余裕度を考慮した場合、制御量として使用でき
るのはわずか数牌と非常に少なくなる、というような問
題点もある。
束型ガスベアリングガイドは、該ガイドの一部を成すガ
ス供給パッドに供給するガス圧力を、高低に制御するこ
とにより、ステージの位置決めを行なっている。しかし
ながらこの方法では、供給ガス圧力が一定でない、すな
わち変化させる必要性があるため供給ガス圧力が低く制
御された場合は、前記ガイドの剛性が劣下し、ガスベア
リングガイドとして外乱に対する抵抗力が弱くなるとい
う問題点がある。又、カスベアリングガイドの一部を成
すガイドと前記パッドとの間の隙間は、通常的１０ｇｍ
で非常に小さくその上、ガスベアリングガイドとしての
動作上の余裕度を考慮した場合、制御量として使用でき
るのはわずか数牌と非常に少なくなる、というような問
題点もある。
本発明は上記の問題点に鑑み提案されたもので、その目
的とするところは、ガスベアリングガイドに微少変位部
材を設は該部材を制御することにより、ガスベアリング
ガイドとしての性能に変化を与えず、更に制御量が多く
とれるガスベアリングガイドを用いた、ステージの高精
度位置決め方法を提供することである。
的とするところは、ガスベアリングガイドに微少変位部
材を設は該部材を制御することにより、ガスベアリング
ガイドとしての性能に変化を与えず、更に制御量が多く
とれるガスベアリングガイドを用いた、ステージの高精
度位置決め方法を提供することである。
以下、図面を参照しながら本発明の詳細な説明する。第
１、第２及び第３図は、それぞれ本発明に係る拘束型ガ
スベアリングガイド方式のＸ−Ｙ−０ステージの一実施
例を示す図である。
１、第２及び第３図は、それぞれ本発明に係る拘束型ガ
スベアリングガイド方式のＸ−Ｙ−０ステージの一実施
例を示す図である。
第１図において、ｌは固定されたＹ方向ガイド、２はＹ
方向スライドで、ガス供給パッド５Ａ、５ＢによりＸ方
向を拘束され、ガス供給パッド５Ｃ１５ＤによりＺ方向
を拘束されてＹ方向ガイド１に対して浮上している。５
ａ、５ｂは微少変位部材で、Ｙ方向スライド２とカス供
給パッド５Ａ、５Ｂとの間にそれぞれ介在され、該部材
としては不図示の電源装置で電圧を制御される圧電効果
を有する部材、あるいは流体圧で伸縮作動するダイヤフ
ラム又はベローズ部材か使用される。第２、第３図にお
いて、３はＸ方向カイトでＹ方向スライド２の上にＹ方
向に直角に固定されている。４はＸ方向スライドで、カ
ス供給パッドＧＡ、 、６Ａ２． ｆｉＢｌ、６Ｂ２に
よりＹ方向を拘束され、ガス供給パ、ドロＣ１６Ｄによ
りＺ方向を拘束されてＸ方向ガイド３に対して浮上しテ
ィる。ｆｌａｌ 、６ａ２ 、らｂｌ、６ｂ２は微少変
位部材で、Ｘ方向スライド４とカス供給バンドＧＡｉ、
６Ａ２．６Ｂ工、６Ｂ２との間にそれぞれ介在されてい
る。８．１０は駆動モーターで、それぞれＸ方向ガイド
３、Ｙ方向カイト１に固定されている。８．１１は送り
ねじで、それぞれ前記モーター ８．１０よりＸ方向ス
ライド４、Ｙ方向スライド２を各々Ｘの正方向、Ｙの正
方向へ移動させる役目を果す。１２．１３は引っ張りば
ねで、上記の移動方向と反対方向に該スライド４．２を
移動させる働きをする。Ｘ方向スライド４の上に載せら
れた半導体製造用ウェハ７の位置決めは以下の方法によ
る。
方向スライドで、ガス供給パッド５Ａ、５ＢによりＸ方
向を拘束され、ガス供給パッド５Ｃ１５ＤによりＺ方向
を拘束されてＹ方向ガイド１に対して浮上している。５
ａ、５ｂは微少変位部材で、Ｙ方向スライド２とカス供
給パッド５Ａ、５Ｂとの間にそれぞれ介在され、該部材
としては不図示の電源装置で電圧を制御される圧電効果
を有する部材、あるいは流体圧で伸縮作動するダイヤフ
ラム又はベローズ部材か使用される。第２、第３図にお
いて、３はＸ方向カイトでＹ方向スライド２の上にＹ方
向に直角に固定されている。４はＸ方向スライドで、カ
ス供給パッドＧＡ、 、６Ａ２． ｆｉＢｌ、６Ｂ２に
よりＹ方向を拘束され、ガス供給パ、ドロＣ１６Ｄによ
りＺ方向を拘束されてＸ方向ガイド３に対して浮上しテ
ィる。ｆｌａｌ 、６ａ２ 、らｂｌ、６ｂ２は微少変
位部材で、Ｘ方向スライド４とカス供給バンドＧＡｉ、
６Ａ２．６Ｂ工、６Ｂ２との間にそれぞれ介在されてい
る。８．１０は駆動モーターで、それぞれＸ方向ガイド
３、Ｙ方向カイト１に固定されている。８．１１は送り
ねじで、それぞれ前記モーター ８．１０よりＸ方向ス
ライド４、Ｙ方向スライド２を各々Ｘの正方向、Ｙの正
方向へ移動させる役目を果す。１２．１３は引っ張りば
ねで、上記の移動方向と反対方向に該スライド４．２を
移動させる働きをする。Ｘ方向スライド４の上に載せら
れた半導体製造用ウェハ７の位置決めは以下の方法によ
る。
Ｘ方向の位置決め（第１図参照）に関しては、まず駆動
モーター８により、送りねじ９を介してＸ方向スライド
４を移動させ、不図示のレーザー干渉計等の出力信号（
所望の制御量）によりｌＯμｓ程度の位置決め精度、す
なわち粗調整が得られた段階で駆動モーター８を停止さ
せる。次にＹ方向。
モーター８により、送りねじ９を介してＸ方向スライド
４を移動させ、不図示のレーザー干渉計等の出力信号（
所望の制御量）によりｌＯμｓ程度の位置決め精度、す
なわち粗調整が得られた段階で駆動モーター８を停止さ
せる。次にＹ方向。
スライド２に固定の微少変位部材５ａ、５ｂを互いに相
反した方向に同量変化させる（微調整）。例えば、前記
レーザー干渉計等の出力信号と粗調整との間にｌ）ｍの
誤差がありＸの正方向へ移動させたい場合は、微少変位
部材５ａを１ｕ収縮させ、５ｂを１、Ｌｌ１１伸ばす。
反した方向に同量変化させる（微調整）。例えば、前記
レーザー干渉計等の出力信号と粗調整との間にｌ）ｍの
誤差がありＸの正方向へ移動させたい場合は、微少変位
部材５ａを１ｕ収縮させ、５ｂを１、Ｌｌ１１伸ばす。
その結果、Ｙ方向スライド２は、パッド５Ａ及−ｕ５Ｂ
に供給されるガス圧力が一定に制御さ、れているため、
該パッド５Ａ、５日とＹ方向ガイド１との隙間ΔＸを一
定に保持する様にＸの正方向に１鱗移動し、ウェハ７が
Ｘ方向に高精度（０，１ｕ＋以下）に位置決めされる。
に供給されるガス圧力が一定に制御さ、れているため、
該パッド５Ａ、５日とＹ方向ガイド１との隙間ΔＸを一
定に保持する様にＸの正方向に１鱗移動し、ウェハ７が
Ｘ方向に高精度（０，１ｕ＋以下）に位置決めされる。
Ｙ方向の位置決め（第２図参照）に関しては、上述のＸ
方向と同様に説明されるので省略する。
方向と同様に説明されるので省略する。
θ方向（Ｚ軸を中心にそのまわりに回転する方向）の位
置決め（第３図参照）は、Ｘ方向スライド４を用いて行
なわれる。例えば、前記レーザー干渉計等の出力信号に
より時計方向（θの負方向）に回転させたい場合は、微
少変位部材８ａｌ、８ｂ２を同量収縮させ、これと同量
だけ８ａ２．６ｂ１を伸ばすことにより、Ｘ方向スライ
ド４が時計方向に回転し、ウェハ７がＯ方向に高精度（
０，１牌以）°）に位置決めされる。又、反時計方向（
θの正方向）に回転させたい場合は、微少変位部材の制
御方法（収縮と伸長）を上記と逆に行なえばよい。
置決め（第３図参照）は、Ｘ方向スライド４を用いて行
なわれる。例えば、前記レーザー干渉計等の出力信号に
より時計方向（θの負方向）に回転させたい場合は、微
少変位部材８ａｌ、８ｂ２を同量収縮させ、これと同量
だけ８ａ２．６ｂ１を伸ばすことにより、Ｘ方向スライ
ド４が時計方向に回転し、ウェハ７がＯ方向に高精度（
０，１牌以）°）に位置決めされる。又、反時計方向（
θの正方向）に回転させたい場合は、微少変位部材の制
御方法（収縮と伸長）を上記と逆に行なえばよい。
以上、説明したように本発明は、パッドに供給するガス
圧力は一定に保たれ、微少変位部材のみを変化させる制
御であるため、ガイドの剛性が劣下しない、すなわちガ
スベアリングガイドとしての性能に変化を与えず、なお
かつ制御量は大きくとれる効果がある。
圧力は一定に保たれ、微少変位部材のみを変化させる制
御であるため、ガイドの剛性が劣下しない、すなわちガ
スベアリングガイドとしての性能に変化を与えず、なお
かつ制御量は大きくとれる効果がある。
第１図、第２図及び第３図は、本発明に係る拘束型ガス
ベアリングガイド方式のＸ−Ｙ−θステージの一実施例
を示す図で、第１図は正面図、第２図は第１図のＲ方向
から見た側面図、第３図は第２図の平面図である。 １・・・・・・Ｙ方向ガイド、２・・・・・・Ｙ方向ス
ライド。 ３・・・・・・Ｘ方向ガイド、４・・・・・・Ｘ方向ス
ライド、５Ａ、５Ｂ、５Ｃ５５Ｄ、８Ａ１．８Ａ２．８
８１．８Ｂ２． ＱＣ１６Ｄ・・・・・・ガス供給パッ
ド５ａ、５ｂ、８ａｌ 、 ８ａ２ 、８ｂ１．８ｂ２
・・・・・・微少変位部材。 第 １ 図 第２図
ベアリングガイド方式のＸ−Ｙ−θステージの一実施例
を示す図で、第１図は正面図、第２図は第１図のＲ方向
から見た側面図、第３図は第２図の平面図である。 １・・・・・・Ｙ方向ガイド、２・・・・・・Ｙ方向ス
ライド。 ３・・・・・・Ｘ方向ガイド、４・・・・・・Ｘ方向ス
ライド、５Ａ、５Ｂ、５Ｃ５５Ｄ、８Ａ１．８Ａ２．８
８１．８Ｂ２． ＱＣ１６Ｄ・・・・・・ガス供給パッ
ド５ａ、５ｂ、８ａｌ 、 ８ａ２ 、８ｂ１．８ｂ２
・・・・・・微少変位部材。 第 １ 図 第２図
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １） ガイド、流体供給パッド及びスライドより成る流
体ベアリングカイトを用いたステージにおいて、流体供
給パッド自身、又は該パッドとスライドとの間に１没け
た微少変位部材を制御することにより、」二記ステージ
の高精度位置決めを行なうことを特徴とする、流体ベア
リングガイド方式ステージの高精度位置決め方法。 ２、特許請求の範囲１において、前記流体供給パッドと
前記ガイＩ・との隙間を一定に保ち、対向する微少変位
部材を相反方向に同量変化させることにより前記ステー
ジの高精度位置決めを行なうことを特徴とする、流体ベ
アリングガイド方式ステージの高精度位置決め方法。 ３）特許請求の範囲ｌにおいて、微少変位部材として圧
電素子又はダイでフラム部材を使用することを特徴とす
る、流体ベアリングガイド方式ステージの高精度位置決
め方法。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58126085A JPS6018918A (ja) | 1983-07-13 | 1983-07-13 | ステージ装置 |
| US07/139,114 US4768064A (en) | 1983-07-13 | 1987-12-28 | Conveyor device for alignment |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58126085A JPS6018918A (ja) | 1983-07-13 | 1983-07-13 | ステージ装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6018918A true JPS6018918A (ja) | 1985-01-31 |
| JPH0229194B2 JPH0229194B2 (ja) | 1990-06-28 |
Family
ID=14926230
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP58126085A Granted JPS6018918A (ja) | 1983-07-13 | 1983-07-13 | ステージ装置 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4768064A (ja) |
| JP (1) | JPS6018918A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS61278913A (ja) * | 1985-06-04 | 1986-12-09 | Ntn Toyo Bearing Co Ltd | 磁気浮上式位置決め装置 |
| JP2022547677A (ja) * | 2019-09-16 | 2022-11-15 | デッケル マホ プフロンテン ゲーエムベーハー | １又は２以上の工作機械で用いるためのロード又はアンロード装置及びロード又はアンロードシステム |
Families Citing this family (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5018880A (en) * | 1988-06-28 | 1991-05-28 | Canon Kabushiki Kaisha | Dynamic pressure bearing device |
| EP1197801B1 (en) * | 1996-12-24 | 2005-12-28 | ASML Netherlands B.V. | Lithographic device with two object holders |
| WO1998040791A1 (en) | 1997-03-10 | 1998-09-17 | Koninklijke Philips Electronics N.V. | Positioning device having two object holders |
| TW546551B (en) * | 1999-12-21 | 2003-08-11 | Asml Netherlands Bv | Balanced positioning system for use in lithographic apparatus |
| JP2008546965A (ja) * | 2005-08-23 | 2008-12-25 | コリア インスティチュート オブ マシナリー アンド マテリアルズ | 磁気予圧及び運動誤差補正機能を有する定圧ベアリング移送装置 |
Family Cites Families (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| GB1193297A (en) * | 1966-07-01 | 1970-05-28 | Telefunken Patent | Device for the Fine Adjustment of Photomasks with respect to Semiconductor Elements |
| GB1203025A (en) * | 1966-09-06 | 1970-08-26 | Hovercraft Dev Ltd | Electromagnetically-propelled gas cushion vehicle |
| US3899979A (en) * | 1973-02-22 | 1975-08-19 | Buryan Associates | Magnetic suspension systems for vehicles |
| CA1044774A (en) * | 1974-07-26 | 1978-12-19 | Gotz Heidelberg | Magnetic system for supporting and propelling a vehicle along a roadway |
| FR2330030A1 (fr) * | 1975-10-31 | 1977-05-27 | Thomson Csf | Nouvel appareil photorepeteur de masques de haute precision |
| FR2388300A1 (fr) * | 1977-04-20 | 1978-11-17 | Thomson Csf | Dispositif optique de projection de motifs comportant un asservissement de focalisation a grandissement constant |
| FR2388371A1 (fr) * | 1977-04-20 | 1978-11-17 | Thomson Csf | Procede d'alignement, dans un photorepeteur, d'une plaquette semi-conductrice et des motifs a y projeter et photorepeteur mettant en oeuvre un tel procede |
| US4370054A (en) * | 1981-04-02 | 1983-01-25 | Canon Kabushiki Kaisha | Projection exposure apparatus |
-
1983
- 1983-07-13 JP JP58126085A patent/JPS6018918A/ja active Granted
-
1987
- 1987-12-28 US US07/139,114 patent/US4768064A/en not_active Expired - Lifetime
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS61278913A (ja) * | 1985-06-04 | 1986-12-09 | Ntn Toyo Bearing Co Ltd | 磁気浮上式位置決め装置 |
| JP2022547677A (ja) * | 2019-09-16 | 2022-11-15 | デッケル マホ プフロンテン ゲーエムベーハー | １又は２以上の工作機械で用いるためのロード又はアンロード装置及びロード又はアンロードシステム |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0229194B2 (ja) | 1990-06-28 |
| US4768064A (en) | 1988-08-30 |
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