JP4621765B2 - リソグラフィ投影装置に使うための平衡位置決めシステム - Google Patents
リソグラフィ投影装置に使うための平衡位置決めシステム Download PDFInfo
- Publication number
- JP4621765B2 JP4621765B2 JP2008321432A JP2008321432A JP4621765B2 JP 4621765 B2 JP4621765 B2 JP 4621765B2 JP 2008321432 A JP2008321432 A JP 2008321432A JP 2008321432 A JP2008321432 A JP 2008321432A JP 4621765 B2 JP4621765 B2 JP 4621765B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- masses
- balanced
- object table
- motor
- equilibrium
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Images
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
- H01L21/027—Making masks on semiconductor bodies for further photolithographic processing not provided for in group H01L21/18 or H01L21/34
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70691—Handling of masks or workpieces
- G03F7/70766—Reaction force control means, e.g. countermass
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70691—Handling of masks or workpieces
- G03F7/70716—Stages
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/708—Construction of apparatus, e.g. environment aspects, hygiene aspects or materials
- G03F7/70858—Environment aspects, e.g. pressure of beam-path gas, temperature
- G03F7/709—Vibration, e.g. vibration detection, compensation, suppression or isolation
Description
Claims (12)
- リソグラフィ投影装置であって、
放射線の投影ビーム(PB)を供給するための放射線システム(LA,IL)と、
マスク(MA)を保持するための第1物体テーブル(MT)と、
基板(W)を保持するための第2物体テーブル(WT)と、
前記マスクの被照射部分を前記基板の目標部分(C)上に結像するための投影システム(PL)と、
前記物体テーブル(MT,WT)の少なくとも1つにおける対向側面に沿って配置された第1平衡質量(20)および第2平衡質量(30)と、
前記第1および第2平衡質量(20,30)がその対向側面に沿って配置された物体テーブル(MT,WT)を移動させるための第1モータ(18)および第2モータ(17)であって、各モータは2つの協働する電磁部材を有し、第1の電磁部材は、前記第1および第2平衡質量(20,30)がその対向側面に沿って配置された物体テーブル(MT,WT)に、機能できる状態で関連付けられており、第2の電磁部材は、前記第1および第2平衡質量(20,30)の少なくとも1つに、機能できる状態で関連付けられている、第1モータ(18)および第2モータ(17)とを含み、
前記第1および第2平衡質量(20,30)は、少なくとも第1方向(Y)に移動できるようになっており、それにより、前記第1および第2平衡質量(20,30)がその対向側面に沿って配置された物体テーブル(MT,WT)を平衡状態にすることができるようになっており、
前記第1および第2平衡質量(20,30)がその対向側面に沿って配置された物体テーブル(MT,WT)は、支持構造によって支持され、
前記第1および第2平衡質量(20,30)がその対向側面に沿って配置された物体テーブル(MT,WT)を前記第1方向(Y)に実質的に直交する方向に移動させ、かつ、前記第1および第2平衡質量(20,30)がその対向側面に沿って配置された物体テーブル(MT,WT)を少なくとも前記第1方向(Y)に関して回転させるように構成された、前記第1および第2平衡質量(20,30)上に設けられたテーブル軸受(14,15,16)に含まれるZ方向アクチュエータを備えた投影装置。 - リソグラフィ投影装置であって、
放射線の投影ビーム(PB)を供給するための放射線システム(LA,IL)と、
マスク(MA)を保持するための第1物体テーブル(MT)と、
基板(W)を保持するための第2物体テーブル(WT)と、
前記マスクの被照射部分を前記基板の目標部分(C)上に結像するための投影システム(PL)と、
前記物体テーブル(MT,WT)の少なくとも1つにおける対向側面に沿って配置された第1平衡質量(20)および第2平衡質量(30)と、
前記第1および第2平衡質量(20,30)がその対向側面に沿って配置された物体テーブル(MT,WT)を移動させるための第1モータ(18)および第2モータ(17)であって、各モータは2つの協働する電磁部材を有し、第1の電磁部材は、前記第1および第2平衡質量(20,30)がその対向側面に沿って配置された物体テーブル(MT,WT)に、機能できる状態で関連付けられており、第2の電磁部材は、前記第1および第2平衡質量(20,30)の少なくとも1つに、機能できる状態で関連付けられている、第1モータ(18)および第2モータ(17)と、
上部表面が実質的に平坦かつ水平である基盤構造(40,50)と
を含み、
前記第1および第2平衡質量(20,30)は、少なくとも第1方向(Y)に移動できるようになっており、それにより、前記第1および第2平衡質量(20,30)がその対向側面に沿って配置された物体テーブル(MT,WT)を平衡状態にすることができるようになっており、
前記第1および第2平衡質量(20,30)がその対向側面に沿って配置された物体テーブル(MT,WT)は、支持構造によって支持され、
前記第1および第2平衡質量(20,30)は、前記実質的に平坦で水平な上部表面に作用する複数の軸受(21,22,23,31,32,33)によって、前記第1方向(Y)に実質的に直交する第3方向(Z)で支持され、
前記基盤構造(40,50)の実質的に平坦で水平な上部表面に作用する前記軸受(21,22,23,31,32,33)の独立した運動は、前記第1および第2平衡質量(20,30)を前記第1方向(Y)回りに回転運動させる投影装置。 - リソグラフィ投影装置であって、
放射線の投影ビーム(PB)を供給するための放射線システム(LA,IL)と、
マスク(MA)を保持するための第1物体テーブル(MT)と、
基板(W)を保持するための第2物体テーブル(WT)と、
前記マスクの被照射部分を前記基板の目標部分(C)上に結像するための投影システム(PL)と、
前記物体テーブル(MT,WT)の少なくとも1つにおける対向側面に沿って配置された第1平衡質量(20)および第2平衡質量(30)と、
前記第1および第2平衡質量(20,30)がその対向側面に沿って配置された物体テーブル(MT,WT)を移動させるための第1モータ(18)および第2モータ(17)であって、各モータは2つの協働する電磁部材を有し、第1の電磁部材は、前記第1および第2平衡質量(20,30)がその対向側面に沿って配置された物体テーブル(MT,WT)に、機能できる状態で関連付けられており、第2の電磁部材は、前記第1および第2平衡質量(20,30)の少なくとも1つに、機能できる状態で関連付けられている、第1モータ(18)および第2モータ(17)と、
上部表面が実質的に平坦かつ水平である基盤構造(40,50)と
を含み、
前記第1および第2平衡質量(20,30)は、少なくとも第1方向(Y)に移動できるようになっており、それにより、前記第1および第2平衡質量(20,30)がその対向側面に沿って配置された物体テーブル(MT,WT)を平衡状態にすることができるようになっており、
前記第1および第2平衡質量(20,30)がその対向側面に沿って配置された物体テーブル(MT,WT)は、支持構造によって支持され、
前記第1および第2平衡質量(20,30)は、前記実質的に平坦で水平な上部表面に作用する複数の軸受(21,22,23,31,32,33)によって、前記第1方向(Y)に実質的に直交する第3方向(Z)で支持され、
前記軸受(21,22,23,31,32,33)は、前記第3方向(Z)に低剛性であり、それにより、前記第1および第2平衡質量(20,30)の少なくとも1つは、前記第3方向(Z)に移動できるようになっている投影装置。 - リソグラフィ投影装置であって、
放射線の投影ビーム(PB)を供給するための放射線システム(LA,IL)と、
マスク(MA)を保持するための第1物体テーブル(MT)と、
基板(W)を保持するための第2物体テーブル(WT)と、
前記マスクの被照射部分を前記基板の目標部分(C)上に結像するための投影システム(PL)と、
前記物体テーブル(MT,WT)の少なくとも1つにおける対向側面に沿って配置された第1平衡質量(20)および第2平衡質量(30)と、
前記第1および第2平衡質量(20,30)がその対向側面に沿って配置された物体テーブル(MT,WT)を移動させるための第1モータ(18)および第2モータ(17)であって、各モータは2つの協働する電磁部材を有し、第1の電磁部材は、前記第1および第2平衡質量(20,30)がその対向側面に沿って配置された物体テーブル(MT,WT)に、機能できる状態で関連付けられており、第2の電磁部材は、前記第1および第2平衡質量(20,30)の少なくとも1つに、機能できる状態で関連付けられている、第1モータ(18)および第2モータ(17)とを含み、
前記第1および第2平衡質量(20,30)は、少なくとも第1方向(Y)に移動できるようになっており、それにより、前記第1および第2平衡質量(20,30)がその対向側面に沿って配置された物体テーブル(MT,WT)を平衡状態にすることができるようになっており、
前記第1および第2平衡質量(20,30)がその対向側面に沿って配置された物体テーブル(MT,WT)は、支持構造によって支持され、
前記第1および第2平衡質量(20,30)の質量中心と、前記第1および第2平衡質量(20,30)がその対向側面に沿って配置された物体テーブル(MT,WT)の質量中心とは、前記第1方向(Y)に実質的に直交する第3方向(Z)に、100mm未満の間隔で位置している投影装置。 - リソグラフィ投影装置であって、
放射線の投影ビーム(PB)を供給するための放射線システム(LA,IL)と、
マスク(MA)を保持するための第1物体テーブル(MT)と、
基板(W)を保持するための第2物体テーブル(WT)と、
前記マスクの被照射部分を前記基板の目標部分(C)上に結像するための投影システム(PL)と、
前記物体テーブル(MT,WT)の少なくとも1つにおける対向側面に沿って配置された第1平衡質量(20)および第2平衡質量(30)と、
前記第1および第2平衡質量(20,30)がその対向側面に沿って配置された物体テーブル(MT,WT)を移動させるための第1モータ(18)および第2モータ(17)であって、各モータは2つの協働する電磁部材を有し、第1の電磁部材は、前記第1および第2平衡質量(20,30)がその対向側面に沿って配置された物体テーブル(MT,WT)に、機能できる状態で関連付けられており、第2の電磁部材は、前記第1および第2平衡質量(20,30)の少なくとも1つに、機能できる状態で関連付けられている、第1モータ(18)および第2モータ(17)とを含み、
前記第1および第2平衡質量(20,30)は、少なくとも第1方向(Y)に移動できるようになっており、それにより、前記第1および第2平衡質量(20,30)がその対向側面に沿って配置された物体テーブル(MT,WT)を平衡状態にすることができるようになっており、
前記第1および第2平衡質量(20,30)がその対向側面に沿って配置された物体テーブル(MT,WT)は、支持構造によって支持され、
前記第1および第2平衡質量(20,30)がその対向側面に沿って配置された物体テーブル(MT,WT)は、前記第1および第2平衡質量(20,30)がその対向側面に沿って配置された物体テーブル(MT,WT)と前記第1平衡質量(20)との間に作用する前記第1のモータ(18)、および、前記第1および第2平衡質量(20,30)がその対向側面に沿って配置された物体テーブル(MT,WT)と前記第2平衡質量(30)との間に作用する前記第2のモータ(17)によって、前記第1方向(Y)に駆動される投影装置。 - 請求項5に記載する投影装置において、
前記第1および第2平衡質量(20,30)がその対向側面に沿って配置された物体テーブル(MT,WT)は、第3のモータ(19)によって、前記第1方向(Y)に実質的に直交する第2方向(X)に移動することができ、当該第3のモータ(19)の作用線は、少なくとも、前記第1および第2平衡質量(20,30)がその対向側面に沿って配置された物体テーブル(MT,WT)の質量中心を通過する作用線である投影装置。 - リソグラフィ投影装置であって、
放射線の投影ビーム(PB)を供給するための放射線システム(LA,IL)と、
マスク(MA)を保持するための第1物体テーブル(MT)と、
基板(W)を保持するための第2物体テーブル(WT)と、
前記マスクの被照射部分を前記基板の目標部分(C)上に結像するための投影システム(PL)と、
前記物体テーブル(MT,WT)の少なくとも1つにおける対向側面に沿って配置された第1平衡質量(20)および第2平衡質量(30)と、
前記第1および第2平衡質量(20,30)がその対向側面に沿って配置された物体テーブル(MT,WT)を移動させるための第1モータ(18)および第2モータ(17)であって、各モータは2つの協働する電磁部材を有し、第1の電磁部材は、前記第1および第2平衡質量(20,30)がその対向側面に沿って配置された物体テーブル(MT,WT)に、機能できる状態で関連付けられており、第2の電磁部材は、前記第1および第2平衡質量(20,30)の少なくとも1つに、機能できる状態で関連付けられている、第1モータ(18)および第2モータ(17)とを含み、
前記第1および第2平衡質量(20,30)は、少なくとも第1方向(Y)に移動できるようになっており、それにより、前記第1および第2平衡質量(20,30)がその対向側面に沿って配置された物体テーブル(MT,WT)を平衡状態にすることができるようになっており、
前記第1および第2平衡質量(20,30)がその対向側面に沿って配置された物体テーブル(MT,WT)は、支持構造によって支持され、
前記第1および第2モータ(18,17)は、前記第1および第2平衡質量(20,30)に互いに反対方向の力を加えて、前記第1および第2平衡質量(20,30)がその対向側面に沿って配置された物体テーブル(MT,WT)を回転させるように構成されている投影装置。 - リソグラフィ投影装置であって、
放射線の投影ビーム(PB)を供給するための放射線システム(LA,IL)と、
マスク(MA)を保持するための第1物体テーブル(MT)と、
基板(W)を保持するための第2物体テーブル(WT)と、
前記マスクの被照射部分を前記基板の目標部分(C)上に結像するための投影システム(PL)と、
前記物体テーブル(MT,WT)の少なくとも1つにおける対向側面に沿って配置された第1平衡質量(20)および第2平衡質量(30)と、
前記第1および第2平衡質量(20,30)がその対向側面に沿って配置された物体テーブル(MT,WT)を移動させるための第1モータ(18)および第2モータ(17)であって、各モータは2つの協働する電磁部材を有し、第1の電磁部材は、前記第1および第2平衡質量(20,30)がその対向側面に沿って配置された物体テーブル(MT,WT)に、機能できる状態で関連付けられており、第2の電磁部材は、前記第1および第2平衡質量(20,30)の少なくとも1つに、機能できる状態で関連付けられている、第1モータ(18)および第2モータ(17)とを含み、
前記第1および第2平衡質量(20,30)は、少なくとも第1方向(Y)に移動できるようになっており、それにより、前記第1および第2平衡質量(20,30)がその対向側面に沿って配置された物体テーブル(MT,WT)を平衡状態にすることができるようになっており、
前記第1および第2平衡質量(20,30)がその対向側面に沿って配置された物体テーブル(MT,WT)は、支持構造によって支持され、
前記第1および第2モータ(18,17)は、前記第1および第2平衡質量(20,30)に互いに反対方向の力を加えて、前記第1および第2平衡質量(20,30)がその対向側面に沿って配置された物体テーブル(MT,WT)を前記支持構造の平面状の表面に直交する軸(Z)の周りに回転(Rz)させるように構成されている投影装置。 - リソグラフィ投影装置であって、
放射線の投影ビーム(PB)を供給するための放射線システム(LA,IL)と、
マスク(MA)を保持するための第1物体テーブル(MT)と、
基板(W)を保持するための第2物体テーブル(WT)と、
前記マスクの被照射部分を前記基板の目標部分(C)上に結像するための投影システム(PL)と、
前記物体テーブル(MT,WT)の少なくとも1つにおける対向側面に沿って配置された第1平衡質量(20)および第2平衡質量(30)と、
前記第1および第2平衡質量(20,30)がその対向側面に沿って配置された物体テーブル(MT,WT)を移動させるための第1モータ(18)および第2モータ(17)であって、各モータは2つの協働する電磁部材を有し、第1の電磁部材は、前記第1および第2平衡質量(20,30)がその対向側面に沿って配置された物体テーブル(MT,WT)に、機能できる状態で関連付けられており、第2の電磁部材は、前記第1および第2平衡質量(20,30)の少なくとも1つに、機能できる状態で関連付けられている、第1モータ(18)および第2モータ(17)とを含み、
前記第1および第2平衡質量(20,30)は、少なくとも第1方向(Y)に移動できるようになっており、それにより、前記第1および第2平衡質量(20,30)がその対向側面に沿って配置された物体テーブル(MT,WT)を平衡状態にすることができるようになっており、
前記第1および第2平衡質量(20,30)がその対向側面に沿って配置された物体テーブル(MT,WT)は、支持構造によって支持され、
前記支持構造の上部表面は水平であり、
前記第1および第2モータ(18,17)は、前記第1および第2平衡質量(20,30)に互いに反対方向の力を加えて、前記第1および第2平衡質量(20,30)がその対向側面に沿って配置された物体テーブル(MT,WT)を前記水平な上部表面に直交する軸(Z)の周りに回転(Rz)させるように構成されている投影装置。 - リソグラフィ投影装置であって、
放射線の投影ビーム(PB)を供給するための放射線システム(LA,IL)と、
マスク(MA)を保持するための第1物体テーブル(MT)と、
基板(W)を保持するための第2物体テーブル(WT)と、
前記マスクの被照射部分を前記基板の目標部分(C)上に結像するための投影システム(PL)と、
前記物体テーブル(MT,WT)の少なくとも1つを位置決めするための平衡物体テーブル位置決めシステムと、
前記平衡物体テーブル位置決めシステムにより位置決めされる物体テーブル(MT,WT)における対向側面に沿って配置される第1平衡質量(20)および第2平衡質量(30)であって、少なくとも第1方向(Y)および第2方向(X)に移動できるようになっている第1平衡質量(20)および第2平衡質量(30)とを含み、
ここで、前記平衡物体テーブル位置決めシステムは、
前記平衡物体テーブル位置決めシステムにより位置決めされる物体テーブル(MT,WT)を移動させるための一対のモータ(18,17)であって、各モータは2つの協働する電磁部材を有し、第1の電磁部材は前記平衡物体テーブル位置決めシステムにより位置決めされる物体テーブル(MT,WT)に搭載され、第2の電磁部材は前記第1および第2平衡質量(20,30)の少なくとも1つに搭載されている、一対のモータ、
を含む投影装置。 - リソグラフィ投影装置であって、
放射線の投影ビーム(PB)を供給するための放射線システム(LA,IL)と、
マスク(MA)を保持するためのマスクテーブル(MT)と、
基板(W)を保持するためのウェハテーブル(WT)と、
前記マスクの被照射部分を前記基板の目標部分(C)上に結像するための投影システム(PL)と、
前記マスクテーブル(MT)を位置決めするための平衡マスクテーブル位置決めシステムとを含み、
前記平衡マスクテーブル位置決めシステムは、
前記マスクテーブル(MT)と、
前記マスクテーブル(MT)の対向側面に沿って独立して配置される第1平衡質量(20)および第2平衡質量(30)であって、少なくとも第1方向(Y)および第2方向(X)に移動できるようになっている第1平衡質量(20)および第2平衡質量(30)と、
前記第1および第2平衡質量(20,30)を支持する少なくとも1つの軸受と、
前記マスクテーブル(MT)を移動させるための一対のモータ(18,17)であって、各モータは2つの協働する電磁部材を有し、第1の電磁部材は前記マスクテーブル(MT)に搭載され、第2の電磁部材は前記第1および第2平衡質量(20,30)の少なくとも1つに搭載されている、一対のモータと、
を含む投影装置。 - リソグラフィ投影装置であって、
放射線の投影ビーム(PB)を供給するための放射線システム(LA,IL)と、
マスク(MA)を保持するための第1物体テーブル(MT)と、
基板(W)を保持するための第2物体テーブル(WT)と、
前記マスクの被照射部分を前記基板の目標部分(C)上に結像するための投影システム(PL)と、
前記物体テーブル(MT,WT)の少なくとも1つを位置決めするための平衡物体テーブル位置決めシステムとを含み、
前記平衡物体テーブル位置決めシステムは、
前記平衡物体テーブル位置決めシステムにより位置決めされる物体テーブル(MT,WT)における対向側面に沿って配置される第1平衡質量(20)および第2平衡質量(30)であって、前記対向側面に直交した断面は実質的に中実である第1平衡質量(20)および第2平衡質量(30)と、
前記第1および第2平衡質量(20,30)が少なくとも第1方向(Y)および第2方向(X)に移動できるように支持するための軸受と、
個別のアクチュエータであって、それぞれが、前記平衡物体テーブル位置決めシステムにより位置決めされる物体テーブル(MT,WT)と前記第1および第2平衡質量(20,30)の少なくとも1つとに力を加えることができるようになっている個別のアクチュエータと、
前記第1および第2平衡質量(20,30)のドリフトを制限するドリフト制御システム(130)と、
を含む投影装置。
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
EP99310371 | 1999-12-21 |
Related Parent Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2000404376A Division JP4279449B2 (ja) | 1999-12-21 | 2000-12-19 | リソグラフィ投影装置に使うための平衡位置決めシステム |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2009141371A JP2009141371A (ja) | 2009-06-25 |
JP4621765B2 true JP4621765B2 (ja) | 2011-01-26 |
Family
ID=8241828
Family Applications (4)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2000404376A Expired - Fee Related JP4279449B2 (ja) | 1999-12-21 | 2000-12-19 | リソグラフィ投影装置に使うための平衡位置決めシステム |
JP2005155600A Expired - Lifetime JP4490875B2 (ja) | 1999-12-21 | 2005-05-27 | リソグラフィ投影装置に使うための平衡位置決めシステム |
JP2008321451A Expired - Fee Related JP4914885B2 (ja) | 1999-12-21 | 2008-12-17 | リソグラフィ投影装置に使うための平衡位置決めシステム |
JP2008321432A Expired - Fee Related JP4621765B2 (ja) | 1999-12-21 | 2008-12-17 | リソグラフィ投影装置に使うための平衡位置決めシステム |
Family Applications Before (3)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2000404376A Expired - Fee Related JP4279449B2 (ja) | 1999-12-21 | 2000-12-19 | リソグラフィ投影装置に使うための平衡位置決めシステム |
JP2005155600A Expired - Lifetime JP4490875B2 (ja) | 1999-12-21 | 2005-05-27 | リソグラフィ投影装置に使うための平衡位置決めシステム |
JP2008321451A Expired - Fee Related JP4914885B2 (ja) | 1999-12-21 | 2008-12-17 | リソグラフィ投影装置に使うための平衡位置決めシステム |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (3) | US6449030B1 (ja) |
JP (4) | JP4279449B2 (ja) |
KR (1) | KR100570252B1 (ja) |
DE (1) | DE60033773T2 (ja) |
TW (1) | TW546551B (ja) |
Families Citing this family (53)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
TW546551B (en) * | 1999-12-21 | 2003-08-11 | Asml Netherlands Bv | Balanced positioning system for use in lithographic apparatus |
JP3814453B2 (ja) | 2000-01-11 | 2006-08-30 | キヤノン株式会社 | 位置決め装置、半導体露光装置およびデバイス製造方法 |
TW588222B (en) * | 2000-02-10 | 2004-05-21 | Asml Netherlands Bv | Cooling of voice coil motors in lithographic projection apparatus |
JP4474020B2 (ja) * | 2000-06-23 | 2010-06-02 | キヤノン株式会社 | 移動装置及び露光装置 |
EP1189018B1 (de) * | 2000-09-15 | 2009-02-25 | Vistec Electron Beam GmbH | Sechsachsiges Positioniersystem mit magnetfeldfreiem Raum |
US6593997B1 (en) | 2000-11-16 | 2003-07-15 | Nikon Corporation | Stage assembly including a reaction assembly |
US6885430B2 (en) * | 2000-11-16 | 2005-04-26 | Nikon Corporation | System and method for resetting a reaction mass assembly of a stage assembly |
US6958808B2 (en) * | 2000-11-16 | 2005-10-25 | Nikon Corporation | System and method for resetting a reaction mass assembly of a stage assembly |
US6603531B1 (en) * | 2000-11-16 | 2003-08-05 | Nikon Corporation | Stage assembly including a reaction assembly that is connected by actuators |
US6757053B1 (en) | 2000-11-16 | 2004-06-29 | Nikon Corporation | Stage assembly including a reaction mass assembly |
US6906334B2 (en) * | 2000-12-19 | 2005-06-14 | Nikon Corporation | Curved I-core |
US6987558B2 (en) * | 2001-01-16 | 2006-01-17 | Nikon Corporation | Reaction mass for a stage device |
JP2002283174A (ja) * | 2001-03-26 | 2002-10-03 | Fanuc Ltd | 直線駆動装置 |
JP2003059797A (ja) * | 2001-08-09 | 2003-02-28 | Canon Inc | 移動装置、ステージ装置及び露光装置 |
US6597435B2 (en) * | 2001-10-09 | 2003-07-22 | Nikon Corporation | Reticle stage with reaction force cancellation |
JP4011919B2 (ja) * | 2002-01-16 | 2007-11-21 | キヤノン株式会社 | 移動装置及び露光装置並びに半導体デバイスの製造方法 |
CN1252538C (zh) * | 2002-02-12 | 2006-04-19 | Asml荷兰有限公司 | 光刻装置和器件制造方法 |
JP3679767B2 (ja) * | 2002-02-26 | 2005-08-03 | キヤノン株式会社 | ステージ位置決め装置及びその制御方法、露光装置、半導体デバイスの製造方法 |
US6724466B2 (en) * | 2002-03-26 | 2004-04-20 | Nikon Corporation | Stage assembly including a damping assembly |
US7061577B2 (en) | 2002-03-26 | 2006-06-13 | Nikon Corporation | Image adjustor including damping assembly |
US7268504B2 (en) * | 2002-05-24 | 2007-09-11 | Kollomorgen Corporation | Stator position feedback controller |
KR100522885B1 (ko) * | 2002-06-07 | 2005-10-20 | 에이에스엠엘 네델란즈 비.브이. | 리소그래피장치 및 디바이스제조방법 |
KR100573665B1 (ko) * | 2002-09-30 | 2006-04-24 | 에이에스엠엘 네델란즈 비.브이. | 리소그래피장치 및 디바이스 제조방법 |
JP3962669B2 (ja) * | 2002-10-08 | 2007-08-22 | キヤノン株式会社 | 移動装置及び露光装置並びにデバイスの製造方法 |
JP2004152902A (ja) * | 2002-10-29 | 2004-05-27 | Canon Inc | 位置決め装置 |
US6963821B2 (en) * | 2003-02-11 | 2005-11-08 | Nikon Corporation | Stage counter mass system |
CN101980087B (zh) | 2003-04-11 | 2013-03-27 | 株式会社尼康 | 浸没曝光设备以及浸没曝光方法 |
TWI347741B (en) * | 2003-05-30 | 2011-08-21 | Asml Netherlands Bv | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
US20040252287A1 (en) * | 2003-06-11 | 2004-12-16 | Michael Binnard | Reaction frame assembly that functions as a reaction mass |
KR101674329B1 (ko) | 2003-06-19 | 2016-11-08 | 가부시키가이샤 니콘 | 노광 장치 및 디바이스 제조방법 |
TWI245163B (en) | 2003-08-29 | 2005-12-11 | Asml Netherlands Bv | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
US7221433B2 (en) | 2004-01-28 | 2007-05-22 | Nikon Corporation | Stage assembly including a reaction assembly having a connector assembly |
US7589822B2 (en) | 2004-02-02 | 2009-09-15 | Nikon Corporation | Stage drive method and stage unit, exposure apparatus, and device manufacturing method |
US7224432B2 (en) * | 2004-05-14 | 2007-05-29 | Canon Kabushiki Kaisha | Stage device, exposure apparatus, and device manufacturing method |
EP1805544A1 (en) * | 2004-10-27 | 2007-07-11 | Carl Zeiss SMT AG | A six degree of freedom (dof) actuator reaction mass |
US7193683B2 (en) * | 2005-01-06 | 2007-03-20 | Nikon Corporation | Stage design for reflective optics |
US7456935B2 (en) * | 2005-04-05 | 2008-11-25 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method utilizing a positioning device for positioning an object table |
US7696652B2 (en) * | 2005-11-01 | 2010-04-13 | Asml Netherlands B.V. | Electromagnetic actuator, method of manufacturing a part of an electromagnetic actuator, and lithographic apparatus comprising and electromagnetic actuator |
US20070268475A1 (en) * | 2006-05-16 | 2007-11-22 | Nikon Corporation | System and method for controlling a stage assembly |
US7502103B2 (en) * | 2006-05-31 | 2009-03-10 | Asml Netherlands B.V. | Metrology tool, system comprising a lithographic apparatus and a metrology tool, and a method for determining a parameter of a substrate |
US7538273B2 (en) * | 2006-08-08 | 2009-05-26 | Asml Netherlands B.V. | Cable connection to decrease the passing on of vibrations from a first object to a second object |
US20080285004A1 (en) * | 2007-05-18 | 2008-11-20 | Nikon Corporation | Monolithic, Non-Contact Six Degree-of-Freedom Stage Apparatus |
NL1036161A1 (nl) * | 2007-11-20 | 2009-05-25 | Asml Netherlands Bv | Combination of structure and an active damping system, and a lithographic apparatus. |
WO2009110202A1 (ja) * | 2008-03-07 | 2009-09-11 | 株式会社ニコン | 移動体装置及び露光装置 |
US8144310B2 (en) | 2008-04-14 | 2012-03-27 | Asml Netherlands B.V. | Positioning system, lithographic apparatus and device manufacturing method |
WO2011108170A1 (ja) * | 2010-03-04 | 2011-09-09 | 株式会社安川電機 | ステージ装置 |
DE102011006024A1 (de) * | 2011-03-24 | 2012-09-27 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Anordnung zur Vibrationsisolation einer Nutzlast |
TW201312300A (zh) * | 2011-09-12 | 2013-03-16 | Mapper Lithography Ip Bv | 目標定位裝置,驅動目標定位裝置方法及包含此目標定位裝置之微影系統 |
NL2009902A (en) | 2011-12-27 | 2013-07-01 | Asml Netherlands Bv | Lithographic apparatus and device manufacturing method. |
NL2010628A (en) | 2012-04-27 | 2013-10-29 | Asml Netherlands Bv | Lithographic apparatus comprising an actuator, and method for protecting such actuator. |
CN103809384B (zh) * | 2012-11-12 | 2016-03-09 | 上海微电子装备有限公司 | 工件台与掩模台公用的平衡质量系统及光刻机 |
US9910367B2 (en) | 2014-04-16 | 2018-03-06 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus, method for positioning an object in a lithographic apparatus and device manufacturing method |
DE102019207940A1 (de) * | 2019-05-29 | 2020-12-03 | Brose Fahrzeugteile SE & Co. Kommanditgesellschaft, Würzburg | Verfahren zum dynamischen Wuchten eines Rotationskörpers |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0863231A (ja) * | 1994-06-27 | 1996-03-08 | Nikon Corp | 目標物移動装置、位置決め装置及び可動ステージ装置 |
WO2001027978A1 (fr) * | 1999-10-07 | 2001-04-19 | Nikon Corporation | Substrat, dispositif a etage, procede d'attaque d'etage, systeme d'exposition et procede d'exposition |
Family Cites Families (47)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6018918A (ja) | 1983-07-13 | 1985-01-31 | Canon Inc | ステージ装置 |
US4781067A (en) | 1987-04-30 | 1988-11-01 | Sonoscan, Inc. | Balanced scanning mechanism |
US5523193A (en) | 1988-05-31 | 1996-06-04 | Texas Instruments Incorporated | Method and apparatus for patterning and imaging member |
JP2960423B2 (ja) | 1988-11-16 | 1999-10-06 | 株式会社日立製作所 | 試料移動装置及び半導体製造装置 |
EP0393994B1 (en) | 1989-04-17 | 1994-06-15 | SHARP Corporation | A linear driving apparatus |
NL8902471A (nl) | 1989-10-05 | 1991-05-01 | Philips Nv | Tweetraps positioneerinrichting. |
JPH03273607A (ja) | 1990-03-23 | 1991-12-04 | Canon Inc | 移動テーブル装置 |
DE59105735D1 (de) | 1990-05-02 | 1995-07-20 | Fraunhofer Ges Forschung | Belichtungsvorrichtung. |
JP2752248B2 (ja) | 1990-11-30 | 1998-05-18 | シャープ株式会社 | リニアモータ装置 |
NL9100202A (nl) | 1991-02-05 | 1992-09-01 | Asm Lithography Bv | Lithografische inrichting met een hangende objecttafel. |
NL9100407A (nl) | 1991-03-07 | 1992-10-01 | Philips Nv | Optisch lithografische inrichting met een krachtgecompenseerd machinegestel. |
US5301013A (en) | 1991-07-30 | 1994-04-05 | U.S. Philips Corporation | Positioning device having two manipulators operating in parallel, and optical lithographic device provided with such a positioning device |
JP2714502B2 (ja) * | 1991-09-18 | 1998-02-16 | キヤノン株式会社 | 移動ステージ装置 |
US5229872A (en) | 1992-01-21 | 1993-07-20 | Hughes Aircraft Company | Exposure device including an electrically aligned electronic mask for micropatterning |
EP0557100B1 (en) | 1992-02-21 | 1999-01-13 | Canon Kabushiki Kaisha | Stage driving system |
US5477304A (en) | 1992-10-22 | 1995-12-19 | Nikon Corporation | Projection exposure apparatus |
JP3277581B2 (ja) | 1993-02-01 | 2002-04-22 | 株式会社ニコン | ステージ装置および露光装置 |
US5537186A (en) | 1993-08-03 | 1996-07-16 | Canon Kabushiki Kaisha | Movable stage mechanism and exposure apparatus using the same |
JP3073879B2 (ja) | 1994-03-25 | 2000-08-07 | キヤノン株式会社 | 除振装置 |
US5874820A (en) | 1995-04-04 | 1999-02-23 | Nikon Corporation | Window frame-guided stage mechanism |
US5528118A (en) | 1994-04-01 | 1996-06-18 | Nikon Precision, Inc. | Guideless stage with isolated reaction stage |
US5715064A (en) | 1994-06-17 | 1998-02-03 | International Business Machines Corporation | Step and repeat apparatus having enhanced accuracy and increased throughput |
US6246204B1 (en) | 1994-06-27 | 2001-06-12 | Nikon Corporation | Electromagnetic alignment and scanning apparatus |
US5826129A (en) | 1994-06-30 | 1998-10-20 | Tokyo Electron Limited | Substrate processing system |
US5623853A (en) | 1994-10-19 | 1997-04-29 | Nikon Precision Inc. | Precision motion stage with single guide beam and follower stage |
US5763966A (en) | 1995-03-15 | 1998-06-09 | Hinds; Walter E. | Single plane motor system generating orthogonal movement |
JP3506158B2 (ja) | 1995-04-14 | 2004-03-15 | 株式会社ニコン | 露光装置及び走査型露光装置、並びに走査露光方法 |
TW316874B (ja) | 1995-05-30 | 1997-10-01 | Philips Electronics Nv | |
US5750897A (en) | 1995-06-14 | 1998-05-12 | Canon Kabushiki Kaisha | Active anti-vibration apparatus and method of manufacturing the same |
WO1997033205A1 (en) | 1996-03-06 | 1997-09-12 | Philips Electronics N.V. | Differential interferometer system and lithographic step-and-scan apparatus provided with such a system |
JP3571471B2 (ja) | 1996-09-03 | 2004-09-29 | 東京エレクトロン株式会社 | 処理方法,塗布現像処理システム及び処理システム |
JP3548353B2 (ja) * | 1996-10-15 | 2004-07-28 | キヤノン株式会社 | ステージ装置およびこれを用いた露光装置ならびにデバイス製造方法 |
US5815246A (en) | 1996-12-24 | 1998-09-29 | U.S. Philips Corporation | Two-dimensionally balanced positioning device, and lithographic device provided with such a positioning device |
KR100512450B1 (ko) | 1996-12-24 | 2006-01-27 | 에이에스엠엘 네델란즈 비.브이. | 두개의물체홀더를가진이차원적으로안정화된위치설정장치와이런위치설정장치를구비한리소그래픽장치 |
US6170622B1 (en) | 1997-03-07 | 2001-01-09 | Canon Kabushiki Kaisha | Anti-vibration apparatus and anti-vibration method thereof |
USRE40043E1 (en) | 1997-03-10 | 2008-02-05 | Asml Netherlands B.V. | Positioning device having two object holders |
US5981118A (en) | 1997-04-11 | 1999-11-09 | Fujitsu Ltd. | Method for charged particle beam exposure with fixed barycenter through balancing stage scan |
US6028376A (en) * | 1997-04-22 | 2000-02-22 | Canon Kabushiki Kaisha | Positioning apparatus and exposure apparatus using the same |
US6408045B1 (en) * | 1997-11-11 | 2002-06-18 | Canon Kabushiki Kaisha | Stage system and exposure apparatus with the same |
US5959427A (en) * | 1998-03-04 | 1999-09-28 | Nikon Corporation | Method and apparatus for compensating for reaction forces in a stage assembly |
JP4109747B2 (ja) | 1998-05-07 | 2008-07-02 | キヤノン株式会社 | アクティブ除振装置および露光装置 |
TWI242113B (en) | 1998-07-17 | 2005-10-21 | Asml Netherlands Bv | Positioning device and lithographic projection apparatus comprising such a device |
US6252234B1 (en) | 1998-08-14 | 2001-06-26 | Nikon Corporation | Reaction force isolation system for a planar motor |
US6286655B1 (en) | 1999-04-29 | 2001-09-11 | Advanced Sorting Technologies, Llc | Inclined conveyor |
TWI264617B (en) | 1999-12-21 | 2006-10-21 | Asml Netherlands Bv | Balanced positioning system for use in lithographic apparatus |
TW546551B (en) | 1999-12-21 | 2003-08-11 | Asml Netherlands Bv | Balanced positioning system for use in lithographic apparatus |
US6281655B1 (en) | 1999-12-23 | 2001-08-28 | Nikon Corporation | High performance stage assembly |
-
2000
- 2000-12-12 TW TW089126470A patent/TW546551B/zh not_active IP Right Cessation
- 2000-12-19 US US09/739,098 patent/US6449030B1/en not_active Expired - Lifetime
- 2000-12-19 JP JP2000404376A patent/JP4279449B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 2000-12-19 KR KR1020000078676A patent/KR100570252B1/ko not_active IP Right Cessation
- 2000-12-19 DE DE60033773T patent/DE60033773T2/de not_active Expired - Fee Related
-
2002
- 2002-08-02 US US10/209,926 patent/US6671036B2/en not_active Expired - Lifetime
-
2003
- 2003-08-28 US US10/649,608 patent/US6924882B2/en not_active Expired - Lifetime
-
2005
- 2005-05-27 JP JP2005155600A patent/JP4490875B2/ja not_active Expired - Lifetime
-
2008
- 2008-12-17 JP JP2008321451A patent/JP4914885B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 2008-12-17 JP JP2008321432A patent/JP4621765B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0863231A (ja) * | 1994-06-27 | 1996-03-08 | Nikon Corp | 目標物移動装置、位置決め装置及び可動ステージ装置 |
WO2001027978A1 (fr) * | 1999-10-07 | 2001-04-19 | Nikon Corporation | Substrat, dispositif a etage, procede d'attaque d'etage, systeme d'exposition et procede d'exposition |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP4279449B2 (ja) | 2009-06-17 |
US20040041994A1 (en) | 2004-03-04 |
KR20010067452A (ko) | 2001-07-12 |
US6924882B2 (en) | 2005-08-02 |
JP2009135507A (ja) | 2009-06-18 |
US20020048009A1 (en) | 2002-04-25 |
US20020191173A1 (en) | 2002-12-19 |
JP2001351856A (ja) | 2001-12-21 |
DE60033773T2 (de) | 2007-11-08 |
US6449030B1 (en) | 2002-09-10 |
DE60033773D1 (de) | 2007-04-19 |
KR100570252B1 (ko) | 2006-04-12 |
TW546551B (en) | 2003-08-11 |
US6671036B2 (en) | 2003-12-30 |
JP2005333145A (ja) | 2005-12-02 |
JP4914885B2 (ja) | 2012-04-11 |
JP2009141371A (ja) | 2009-06-25 |
JP4490875B2 (ja) | 2010-06-30 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP4621765B2 (ja) | リソグラフィ投影装置に使うための平衡位置決めシステム | |
KR100573669B1 (ko) | 리소그래피 장치용 균형화 위치결정시스템 | |
US6788386B2 (en) | Lithographic apparatus and device manufacturing method | |
US7656062B2 (en) | Split coil linear motor for z force | |
JP2004343104A (ja) | リソグラフィ装置、デバイス製造方法、及びそれによって製造されたデバイス | |
JP2000056483A (ja) | 位置決め装置、およびその装置を含んで成る平板印刷投影装置 | |
JP3927924B2 (ja) | リソグラフィ装置およびデバイス製造方法 | |
JP2004343105A (ja) | リソグラフィ装置およびデバイス製造方法 | |
US20070267995A1 (en) | Six Degree-of-Freedom Stage Apparatus | |
US20050231141A1 (en) | Moving apparatus, exposure apparatus, and device manufacturing method | |
EP1111469B1 (en) | Lithographic apparatus with a balanced positioning system | |
EP1111470B1 (en) | Lithographic apparatus with a balanced positioning system | |
JP6862543B2 (ja) | モータアセンブリ、リソグラフィ装置、及びデバイス製造方法 | |
US7692768B2 (en) | Iron core motor driven automatic reticle blind | |
JP2003282432A (ja) | デバイスの製造方法 | |
EP1335248A1 (en) | Lithographic apparatus and device manufacturing method | |
JP2008218652A (ja) | 露光装置およびリソグラフィシステム |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20100615 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20100908 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20101004 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20101101 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20131105 Year of fee payment: 3 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 4621765 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |