JP4914885B2 - リソグラフィ投影装置に使うための平衡位置決めシステム - Google Patents
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Claims (14)
- リソグラフィ投影装置であって、
放射線の投影ビーム(PB)を供給するための放射線システム(LA,IL)と、
マスク(MA)を保持するための第1物体テーブル(MT)と、
基板(W)を保持するための第2物体テーブル(WT)と、
前記マスクの被照射部分を前記基板の目標部分(C)上に結像するための投影システム(PL)と、
前記物体テーブル(MT,WT)の少なくとも1つにおける対向側面に沿って配置された第1平衡質量(20)および第2平衡質量(30)と、
前記第1および第2平衡質量(20,30)がその対向側面に沿って配置された物体テーブル(MT,WT)を移動させるための第1モータ(18)および第2モータ(17)であって、各モータは2つの協働する電磁部材を有し、第1の電磁部材は、前記第1および第2平衡質量(20,30)がその対向側面に沿って配置された物体テーブル(MT,WT)に、機能できる状態で関連付けられており、第2の電磁部材は、前記第1および第2平衡質量(20,30)の少なくとも1つに、機能できる状態で関連付けられている、第1モータ(18)および第2モータ(17)と、
上部表面が実質的に平坦かつ水平である基盤構造(40,50)と
を含み、
前記第1および第2平衡質量(20,30)は、少なくとも第1方向(Y)に移動できるようになっており、それにより、前記第1および第2平衡質量(20,30)がその対向側面に沿って配置された物体テーブル(MT,WT)を平衡状態にすることができるようになっており、
前記第1および第2平衡質量(20,30)がその対向側面に沿って配置された物体テーブル(MT,WT)は、支持構造によって支持され、
前記第1および第2平衡質量(20,30)は、前記実質的に平坦で水平な上部表面に作用する複数の軸受(21,22,23,31,32,33)によって、前記第1方向(Y)に実質的に直交する第3方向(Z)で支持され、
前記基盤構造(40,50)の実質的に平坦で水平な上部表面に作用する前記軸受(21,22,23,31,32,33)の独立した運動は、前記第1および第2平衡質量(20,30)を前記第1方向(Y)回りに回転運動させ、また前記第1および第2平衡質量(20,30)は、前記基盤構造(40,50)の実質的に垂直な壁(42,52)に対して作用する柔軟な軸受(24,25,34,35)の独立した運動による支承によって、それぞれの軸受位置で第2方向(X)に運動することが許容される投影装置。 - 請求項1に記載する投影装置において、
前記第1方向(Y)は、前記第1および第2平衡質量(20,30)がその対向側面に沿って配置された物体テーブル(MT,WT)が移動する方向と実質的に平行である投影装置。 - 請求項1に記載する投影装置において、
前記第1および第2平衡質量(20,30)がその対向側面に沿って配置された物体テーブル(MT,WT)は、軸受を備えており、
当該軸受は、前記支持構造の平面状の上部表面に作用して、前記第1および第2平衡質量(20,30)がその対向側面に沿って配置された物体テーブル(MT,WT)を実質的に摩擦なしに前記支持構造に対して相対的に移動させることができるように構成されている投影装置。 - 請求項1に記載する投影装置において、
前記第1および第2平衡質量(20,30)は、実質的に広い移動範囲に亘って前記第1方向(Y)に移動することができる投影装置。 - 請求項1に記載する投影装置において、
前記第1および第2平衡質量(20,30)の質量は、それぞれ、前記第1および第2平衡質量(20,30)がその対向側面に沿って配置された物体テーブル(MT,WT)の質量の2〜10倍である投影装置。 - 請求項1に記載する投影装置において、
前記第1および第2のモータ(18,17)は、前記第1および第2平衡質量(20,30)がその対向側面に沿って配置された物体テーブル(MT,WT)に装着されたアーマチュアと、前記第1および第2平衡質量(20,30)のそれぞれに装着された長尺状のステータとを含むリニアモータを含む投影装置。 - 請求項1に記載する投影装置において、
さらに、前記第1および第2平衡質量(20,30)の長期累積並進(ドリフト)を制限するためのドリフト制御システム(130)を含む投影装置。 - 請求項7に記載する投影装置において、
前記ドリフト制御システム(130)は、前記第1および第2平衡質量(20,30)に力を加えることができる、サーボ制御システム(132)とアクチュエータ(133)とを含み、それにより、前記第1平衡質量(20)、前記第2平衡質量(30)、および、前記第1および第2平衡質量(20,30)がその対向側面に沿って配置された物体テーブル(MT,WT)の組合せ質量中心を所望の位置に偏倚するようになっている投影装置。 - 請求項1に記載する投影装置において、
前記第1および第2平衡質量(20,30)がその対向側面に沿って配置された物体テーブル(MT,WT)は、前記第1物体テーブル(MT)又は前記第2物体テーブル(WT)を含む投影装置。 - 請求項1に記載する投影装置において、
前記第1の電磁部材はコイルを含み、かつ、前記第2の電磁部材は磁石を含む、あるいは、前記第1の電磁部材は磁石を含み、かつ、前記第2の電磁部材はコイルを含む投影装置。 - 請求項1に記載する投影装置において、
前記支持構造および前記第1および第2平衡質量(20,30)は、共通のベースフレームに支持されている投影装置。 - 請求項1に記載する投影装置において、
前記第1および第2平衡質量(20,30)がその対向側面に沿って配置された物体テーブル(MT,WT)は、空気軸受によって支持されている投影装置。 - 請求項1に記載する投影装置において、
前記各モータ(18,17)は、さらに、ロングストローク位置決めモジュールを含む投影装置。 - 放射線の投影ビーム(PB)を供給するための放射線システム(LA,IL)と、
マスク(MA)を保持するための第1物体テーブル(MT)と、
基板(W)を保持するための第2物体テーブル(WT)と、
前記マスクの被照射部分を前記基板の目標部分(C)上に結像するための投影システム(PL)と、
前記物体テーブル(MT,WT)の少なくとも1つにおける対向側面に沿って配置された第1平衡質量(20)および第2平衡質量(30)と、
前記第1および第2平衡質量(20,30)がその対向側面に沿って配置された物体テーブル(MT,WT)を移動させるための第1モータ(18)および第2モータ(17)であって、各モータは2つの協働する電磁部材を有し、第1の電磁部材は、前記第1および第2平衡質量(20,30)がその対向側面に沿って配置された物体テーブル(MT,WT)に、機能できる状態で関連付けられており、第2の電磁部材は、前記第1および第2平衡質量(20,30)の少なくとも1つに、機能できる状態で関連付けられている、第1モータ(18)および第2モータ(17)とを含み、
前記第1および第2平衡質量(20,30)は、少なくとも第1方向(Y)に移動できるようになっており、それにより、前記第1および第2平衡質量(20,30)がその対向側面に沿って配置された物体テーブル(MT,WT)を平衡状態にすることができるようになっており、
前記第1および第2平衡質量(20,30)がその対向側面に沿って配置された物体テーブル(MT,WT)は、第3平衡質量(60)によって支持されており、
前記第3平衡質量(60)は、前記物体テーブル(MT,WT)の下の空間において、前記物体テーブル(MT,WT)の下部表面に作用する柔軟な複数の軸受(71,72,73)を介して前記第1方向(Y)と実質的に直交する第3方向(Z)に支持し、かつ、前記第3平衡質量(60)の下部表面に作用する柔軟な複数の軸受(61,62,63)によって前記第3方向(Z)に支持されている投影装置。
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