JP2006173238A - ステージ装置、露光装置及びデバイスの製造方法 - Google Patents
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Abstract
【課題】 カウンターマスを有する2次元移動型ステージ装置であって、制御性を損なわずに大型化を回避しつつ、低コスト化が可能なステージ装置、露光装置等を提案する。
【解決手段】 ステージ装置40が、交差する第1方向(X)及び第2方向(Y)に往復移動可能な主移動体41と、第1方向に往復移動可能に配置されて、主移動体41の第1方向への移動時の反力を相殺する移動部材151,152と、主移動体41と移動部材151,152とを載置するとともに、第2方向に往復移動可能に配置されて、主移動体41の第2方向の移動時の反力を相殺するベース部材42と、を備える。
【選択図】 図4
【解決手段】 ステージ装置40が、交差する第1方向(X)及び第2方向(Y)に往復移動可能な主移動体41と、第1方向に往復移動可能に配置されて、主移動体41の第1方向への移動時の反力を相殺する移動部材151,152と、主移動体41と移動部材151,152とを載置するとともに、第2方向に往復移動可能に配置されて、主移動体41の第2方向の移動時の反力を相殺するベース部材42と、を備える。
【選択図】 図4
Description
本発明は、被加工物や被検査物等の試料を載置して定盤上を精密に2次元移動するステージ装置と、そのようなステージ装置を用いた露光装置等に関する。
回路パターンが描画されたマスク等に照明光(紫外線、X線、電子線等のエネルギー線)を照射して、等倍、所定の縮小倍率あるいは拡大倍率を有する投影光学系を介して感応基板(レジスト層が塗布された半導体ウエハやガラスプレート等)上に投影露光することにより、半導体デバイスや液晶表示デバイス等の回路パターンを形成するマイクロリソグラフィ装置が知られている。このようなマイクロリソグラフィ装置では、感応基板を載置してレーザ干渉計による位置サーボ制御の下で平面(XY平面)内で精密に2次元移動するステージ装置が設けられる。
ステージ装置では、可動ステージ本体をX方向或いはY方向に移動する際にリニアモータ等を駆動すると、可動ステージ本体の加速及び減速に伴って、可動ステージ本体の質量と加速度の積に応じた大きさの反力(ニュートン第3法則)が定盤に加わり、定盤と機械的に結合された投影光学系等に不要な振動を発生させたり、装置コラムに不要な応力を加えて構造物の機械的な配置、或いは構造物自体を歪ませたりする。この現象は、ステージの制御性能を劣化させるため、益々微細化する回路パターンの重ね合せ露光の精度を悪化させたり、投影パターン像のぶれによる解像不良を起こしたりする。そのため、今後量産化が進むと予測されている1G〜4Gビットクラス(最小線幅で0.2μm以下)の電子デバイスチップを製造する走査型の露光装置(ステップ・アンド・スキャン方式の露光装置)への適用には必ずしも十分ではない。
このため、主可動体を駆動する際に生じる運動エネルギーを吸収するために、逆方向に運動するカウンターマスを設け、反力や振動を抑えた、運動量保存則を利用したステージ装置が提案されている(特許文献1参照)。
特開2003−59797号公報
ステージ装置では、可動ステージ本体をX方向或いはY方向に移動する際にリニアモータ等を駆動すると、可動ステージ本体の加速及び減速に伴って、可動ステージ本体の質量と加速度の積に応じた大きさの反力(ニュートン第3法則)が定盤に加わり、定盤と機械的に結合された投影光学系等に不要な振動を発生させたり、装置コラムに不要な応力を加えて構造物の機械的な配置、或いは構造物自体を歪ませたりする。この現象は、ステージの制御性能を劣化させるため、益々微細化する回路パターンの重ね合せ露光の精度を悪化させたり、投影パターン像のぶれによる解像不良を起こしたりする。そのため、今後量産化が進むと予測されている1G〜4Gビットクラス(最小線幅で0.2μm以下)の電子デバイスチップを製造する走査型の露光装置(ステップ・アンド・スキャン方式の露光装置)への適用には必ずしも十分ではない。
このため、主可動体を駆動する際に生じる運動エネルギーを吸収するために、逆方向に運動するカウンターマスを設け、反力や振動を抑えた、運動量保存則を利用したステージ装置が提案されている(特許文献1参照)。
ところで、2次元移動するステージ装置のカウンターマスの方式としては、主可動体の四方にそれぞれカウンターマスを設ける方式(特許文献1参照)や、主可動体が載置される定盤をカウンターマスとして利用する方式等が提案されている。前者の方式では、主可動体の四方に配置されるカウンターマスに対して可動領域を確保しなければならないので、ステージ装置が大型化してしまい、特にステージ装置の保守作業性を悪化させてしまうという問題がある。一方、後者の方式では、大質量の定盤をカウンターマスとして利用するので、ステージ装置の大型化は避けられるが、定盤に回転力が加わりやすいので、この回転力を抑えるモータ類が必要となって機構が複雑化し、装置コストの上昇を招くという問題がある。
本発明は、上述した事情に鑑みてなされたもので、カウンターマスを有する2次元移動型ステージ装置であって、制御性を損なわずに大型化を回避しつつ、低コスト化が可能なステージ装置、露光装置、デバイスの製造方法を提案することを目的とする。
本発明に係るステージ装置、露光装置及びデバイスの製造方法では、上記課題を解決するために以下の手段を採用した。
第1の発明は、ステージ装置(40)が、交差する第1方向(X方向)及び第2方向(Y方向)に往復移動可能な主移動体(41)と、第1方向に往復移動可能に配置されて、主移動体の第1方向への移動時の反力を相殺する移動部材(151,152)と、主移動体と移動部材とを載置するとともに、第2方向に往復移動可能に配置されて、主移動体の第2方向の移動時の反力を相殺するベース部材(42)と、を備えるようにした。
この発明によれば、主可動体の第1方向への移動の反力は移動部材により緩和され、第2方向への移動の反力はベース部材により緩和されるようにしたので、ステージ装置の第2方向の幅を第1方向の幅に比べて小さくすることが可能となる。これにより、ステージ装置の大型化、重量化を防止することができ、保守時に主可動体へのアクセスが容易になる。
第1の発明は、ステージ装置(40)が、交差する第1方向(X方向)及び第2方向(Y方向)に往復移動可能な主移動体(41)と、第1方向に往復移動可能に配置されて、主移動体の第1方向への移動時の反力を相殺する移動部材(151,152)と、主移動体と移動部材とを載置するとともに、第2方向に往復移動可能に配置されて、主移動体の第2方向の移動時の反力を相殺するベース部材(42)と、を備えるようにした。
この発明によれば、主可動体の第1方向への移動の反力は移動部材により緩和され、第2方向への移動の反力はベース部材により緩和されるようにしたので、ステージ装置の第2方向の幅を第1方向の幅に比べて小さくすることが可能となる。これにより、ステージ装置の大型化、重量化を防止することができ、保守時に主可動体へのアクセスが容易になる。
上記構成において、移動部材(151,152)とベース部材(42)との間に推力を与えて、移動部材とベース部材との間の相対位置を変更可能なアクチュエータ(121,122)を備え、アクチュエータの推力を用いて、ベース部材の重心廻りに発生するモーメントを低減させるように構成することができる。
また、移動部材(151,152)は、第2方向に離間して配置された複数の部材で構成することができる。
また、第2方向に関してベース部材(42)を位置決めする位置決め機構(130)を更に設けることもできる。
また、ベース部材(42)の第3方向における重心位置を、主移動体(41)の第3方向における重心位置と略等しく設定してもよい。
また、移動部材(151,152)は、第2方向に離間して配置された複数の部材で構成することができる。
また、第2方向に関してベース部材(42)を位置決めする位置決め機構(130)を更に設けることもできる。
また、ベース部材(42)の第3方向における重心位置を、主移動体(41)の第3方向における重心位置と略等しく設定してもよい。
第2の発明は、基板ステージ(40)に保持された基板(W)上に所定のパターン(PA)を形成する露光装置(EX)において、基板ステージに、第1の発明のステージ装置(40)を用いるようにした。
この発明によれば、ステージ装置の第1方向及び第2方向の移動による反力(反動)が良好に相殺されるので、微細なパターンを基板上に形成することができる。しかも、ステージ装置の大型化が抑制されているので、保守作業を良好に行うことができる。
また、基板(W)が走査方向に移動している間に該基板に対して所定のパターン(PA)を形成する露光装置(EX)にあっては、第2方向を走査方向に設定してもよい。
この発明によれば、ステージ装置の第1方向及び第2方向の移動による反力(反動)が良好に相殺されるので、微細なパターンを基板上に形成することができる。しかも、ステージ装置の大型化が抑制されているので、保守作業を良好に行うことができる。
また、基板(W)が走査方向に移動している間に該基板に対して所定のパターン(PA)を形成する露光装置(EX)にあっては、第2方向を走査方向に設定してもよい。
第3の発明は、リソグラフィ工程を含むデバイスの製造方法において、リソグラフィ工程において第2の発明の露光装置(EX)を用いるようにした。
この発明によれば、微細なパターンを良好に形成できるので、高性能で低価格なデバイスを製造することが可能となる。
この発明によれば、微細なパターンを良好に形成できるので、高性能で低価格なデバイスを製造することが可能となる。
本発明によれば以下の効果を得ることができる。
ステージ装置の反力(反動)を抑制しつつ、ステージ装置の大型化、重量化を防止することができるので、良好な制御性と保守作業性を確保することができる。また、微細なパターンを良好に形成することが可能となる。更に、高性能で低価格なデバイスを製造することが可能となる。
ステージ装置の反力(反動)を抑制しつつ、ステージ装置の大型化、重量化を防止することができるので、良好な制御性と保守作業性を確保することができる。また、微細なパターンを良好に形成することが可能となる。更に、高性能で低価格なデバイスを製造することが可能となる。
以下、本発明のステージ装置、露光装置及びデバイスの製造方法実施形態について図を参照して説明する。
図1は、本発明の露光装置EXを示す概略構成図である。露光装置EXは、レチクル(マスク)Rとウエハ(基板)Wとを一次元方向に同期移動しつつ、レチクルRに形成されたパターンPAを投影光学系30を介してウエハW上の各ショット領域に転写するステップ・アンド・スキャン方式の走査型露光装置、すなわち、いわゆるスキャニング・ステッパである。
そして、露光装置EXは、露光光ELを射出する露光用光源5、露光光ELによりレチクルRを照明する照明光学系10、レチクルRを保持して移動可能なレチクルステージ20、レチクルRから射出される露光光ELをウエハW上に投射する投影光学系30、ウエハWを保持しつつ移動可能なウエハステージ40、及びこれら各構成装置を支持するフレーム部50等を備える。
なお、以下の説明において、投影光学系30の光軸AXと一致する方向をZ方向、Z方向に垂直な平面内でレチクルRとウエハWとの同期移動方向(走査方向)をY方向、Z方向及びY方向に垂直な方向(非査方向)をX方向とする。また、X方向、Y方向、及びZ方向まわりの回転(傾斜)方向をそれぞれ、θX方向、θY方向、及びθZ方向とする。
図1は、本発明の露光装置EXを示す概略構成図である。露光装置EXは、レチクル(マスク)Rとウエハ(基板)Wとを一次元方向に同期移動しつつ、レチクルRに形成されたパターンPAを投影光学系30を介してウエハW上の各ショット領域に転写するステップ・アンド・スキャン方式の走査型露光装置、すなわち、いわゆるスキャニング・ステッパである。
そして、露光装置EXは、露光光ELを射出する露光用光源5、露光光ELによりレチクルRを照明する照明光学系10、レチクルRを保持して移動可能なレチクルステージ20、レチクルRから射出される露光光ELをウエハW上に投射する投影光学系30、ウエハWを保持しつつ移動可能なウエハステージ40、及びこれら各構成装置を支持するフレーム部50等を備える。
なお、以下の説明において、投影光学系30の光軸AXと一致する方向をZ方向、Z方向に垂直な平面内でレチクルRとウエハWとの同期移動方向(走査方向)をY方向、Z方向及びY方向に垂直な方向(非査方向)をX方向とする。また、X方向、Y方向、及びZ方向まわりの回転(傾斜)方向をそれぞれ、θX方向、θY方向、及びθZ方向とする。
露光用光源5から射出される露光光ELとしては、例えば水銀ランプから射出される紫外域の輝線(g線、h線、i線)及びKrFエキシマレーザ光(波長248nm)等の遠紫外光(DUV光)や、ArFエキシマレーザ光(波長193nm)及びF2レーザ光(波長157nm)等の真空紫外光(VUV光)などが用いられる。
照明光学系10は、レチクルステージ20に支持されているレチクルRを露光光ELで照明するものであり、露光用光源5から射出された露光光ELの照度を均一化するオプティカルインテグレータ、オプティカルインテグレータからの露光光ELを集光するコンデンサレンズ、リレーレンズ系、露光光ELによるレチクルR上の照明領域をスリット状に設定する可変視野絞り等(いずれも不図示)を有している。そして、レチクルR上の所定の照明領域は、照明光学系10により均一な照度分布の露光光ELで照明される。
なお、照明光学系10の少なくともコンデンサレンズ等は、後述する本体コラム57上に支持される。
なお、照明光学系10の少なくともコンデンサレンズ等は、後述する本体コラム57上に支持される。
レチクルステージ20は、例えば真空吸着(又は静電吸着)によりレチクルRを保持しつつ移動可能な可動テーブル22と、テーブル22をXY平面内で移動可能に支持するレチクルステージベース21とからなる。可動テーブル22は、光軸AXに垂直な平面内、すなわちXY平面内で2次元移動可能及びθZ方向に微小回転可能であり、不図示のリニアモータ等により駆動される。
また、可動テーブル22上には移動鏡24が設けられ、また、移動鏡24に対向する位置にはレーザ干渉計26が設けられている。移動鏡24は、レチクルステージ20の位置を計測するためのレーザ干渉計26用のミラーである。これにより、可動テーブル22上のレチクルRの2次元方向(XY方向)の位置、及びθZ方向の回転角(場合によってはθx、θy方向の回転角も含む)は、レーザ干渉計26によりリアルタイムで計測される。そして、レーザ干渉計26の計測結果は不図示の制御装置に出力され、その計測結果に基づいてリニアモータ等を駆動することで、可動テーブル22に支持されているレチクルRのX方向、Y方向、θZ方向の位置、移動速度等が制御される。
なお、レチクルステージ20は、後述する本体コラム57上に支持される。
また、可動テーブル22上には移動鏡24が設けられ、また、移動鏡24に対向する位置にはレーザ干渉計26が設けられている。移動鏡24は、レチクルステージ20の位置を計測するためのレーザ干渉計26用のミラーである。これにより、可動テーブル22上のレチクルRの2次元方向(XY方向)の位置、及びθZ方向の回転角(場合によってはθx、θy方向の回転角も含む)は、レーザ干渉計26によりリアルタイムで計測される。そして、レーザ干渉計26の計測結果は不図示の制御装置に出力され、その計測結果に基づいてリニアモータ等を駆動することで、可動テーブル22に支持されているレチクルRのX方向、Y方向、θZ方向の位置、移動速度等が制御される。
なお、レチクルステージ20は、後述する本体コラム57上に支持される。
投影光学系30は、レチクルRのパターンを所定の投影倍率βでウエハWに投影露光するものである。投影光学系30は、ウエハW側の先端部に設けられた光学素子を含む複数の光学素子で構成されており、これら光学素子は鏡筒32で支持されている。投影光学系30の先端部の光学素子は、鏡筒32に対して着脱(交換)可能に設けられる。
投影光学系30は、投影倍率βが、例えば1/4、1/5、あるいは1/8の縮小系である。また、投影光学系30は、等倍系及び拡大系のいずれでもよい。
なお、投影光学系30の鏡筒32の外壁にはフランジ34が設けられ、後述する鏡筒保持コラム56の開口部56aに挿入されて、フランジ34を介して鏡筒保持コラム56に支持される。
投影光学系30は、投影倍率βが、例えば1/4、1/5、あるいは1/8の縮小系である。また、投影光学系30は、等倍系及び拡大系のいずれでもよい。
なお、投影光学系30の鏡筒32の外壁にはフランジ34が設けられ、後述する鏡筒保持コラム56の開口部56aに挿入されて、フランジ34を介して鏡筒保持コラム56に支持される。
ウエハステージ(ステージ装置、基板ステージ)40は、ウエハWを保持しつつ、X方向,Y方向,及びθZ方向の3自由度方向に移動可能なXYテーブル(主可動体)41と、XYテーブル41をXY平面内で移動可能に支持するウエハ定盤(ベース部材)42とを備えている。なお、XYテーブル41は、後述するリニアモータ等により駆動される。
また、XYテーブル41上には移動鏡44が設けられて、また、移動鏡44に対向する位置にはレーザ干渉計45が設けられている。XYテーブル41上のウエハWの2次元方向(XY方向)の位置、及びθZ方向の回転角(場合によっては、θX方向、θY方向の回転角も含む)は、レーザ干渉計45によりリアルタイムで計測される。そして、レーザ干渉計45の計測結果は、制御装置に出力され、その計測結果に基づいてリニアモータ等を駆動することで、XYテーブル41に支持されているウエハWのX軸方向,Y軸方向及びθZ方向の位置、移動速度等が制御される。
また、ウエハステージ40は、エアベアリング(エアパッド)43により、床面F上に浮上支持される。したがって、ウエハステージ40は、エアベアリング(エアパッド)43の作用によって殆ど摩擦の無い状態でX方向,Y方向及びθZ方向に、自由に微動することが可能となっている。
なお、ウエハステージ40の詳細構成については、後述する。
また、XYテーブル41上には移動鏡44が設けられて、また、移動鏡44に対向する位置にはレーザ干渉計45が設けられている。XYテーブル41上のウエハWの2次元方向(XY方向)の位置、及びθZ方向の回転角(場合によっては、θX方向、θY方向の回転角も含む)は、レーザ干渉計45によりリアルタイムで計測される。そして、レーザ干渉計45の計測結果は、制御装置に出力され、その計測結果に基づいてリニアモータ等を駆動することで、XYテーブル41に支持されているウエハWのX軸方向,Y軸方向及びθZ方向の位置、移動速度等が制御される。
また、ウエハステージ40は、エアベアリング(エアパッド)43により、床面F上に浮上支持される。したがって、ウエハステージ40は、エアベアリング(エアパッド)43の作用によって殆ど摩擦の無い状態でX方向,Y方向及びθZ方向に、自由に微動することが可能となっている。
なお、ウエハステージ40の詳細構成については、後述する。
フレーム部50は、防振マウント52、鏡筒保持コラム56、本体コラム57等を備える。
防振マウント52は、床面F上に設置されて露光装置EX全体の荷重を支えるとともに、床面Fから露光装置EXへの振動伝播の防止、露光装置EX本体において発生した振動の吸収、或いは露光装置EX本体の傾斜の防止を行う3個のアクティブな防振マウント52A,52B,52C(52Cは不図示)から構成される。各防振マウント52A,52B,52Cは、露光装置EXの自重を受けるとともに、内蔵のアクチュエータによってZ方向の推力を発生する上下動可能なピストン状の荷重印加部53A,53B,53C(53Cは不図示)を備えている。さらに、各荷重印加部53A,53B,53Cの上には、剛体部材54A,54B,54C(54Cは不図示)が固着されている。各剛体部材54A,54B,54Cは、投影光学系30が取り付けられる鏡筒保持コラム56の周囲3ヶ所に結合され、鏡筒保持コラム56の上に配置される投影光学系30や他の構造体(本体コラム57、レチクルステージ20等)の荷重を支える。
防振マウント52は、床面F上に設置されて露光装置EX全体の荷重を支えるとともに、床面Fから露光装置EXへの振動伝播の防止、露光装置EX本体において発生した振動の吸収、或いは露光装置EX本体の傾斜の防止を行う3個のアクティブな防振マウント52A,52B,52C(52Cは不図示)から構成される。各防振マウント52A,52B,52Cは、露光装置EXの自重を受けるとともに、内蔵のアクチュエータによってZ方向の推力を発生する上下動可能なピストン状の荷重印加部53A,53B,53C(53Cは不図示)を備えている。さらに、各荷重印加部53A,53B,53Cの上には、剛体部材54A,54B,54C(54Cは不図示)が固着されている。各剛体部材54A,54B,54Cは、投影光学系30が取り付けられる鏡筒保持コラム56の周囲3ヶ所に結合され、鏡筒保持コラム56の上に配置される投影光学系30や他の構造体(本体コラム57、レチクルステージ20等)の荷重を支える。
鏡筒保持コラム56は、中央に開口部56aを有する板状部材であり、投影光学系30を貫通支持する。そして、投影光学系30と鏡筒保持コラム56の間には、(キネマティックマウント)が設けられ、投影光学系30のあおり角を調整することができる。
また、鏡筒保持コラム56上の周囲3ヶ所には、フレーム状の本体コラム57A,57B,57C(57Cは不図示)が設けられ、その上方には上述したように、レチクルステージ20等が固定される。
また、鏡筒保持コラム56上の周囲3ヶ所には、フレーム状の本体コラム57A,57B,57C(57Cは不図示)が設けられ、その上方には上述したように、レチクルステージ20等が固定される。
次に、ウエハステージ40について詳述する。図2は、ウエハステージ40の構成を示す斜視図である。
上述したように、XYテーブル41とウエハ定盤42を備える。そして、XYテーブル41の上面には、ウエハWを吸着保持するウエハホルダ41aが配置される。また、下面には不図示のエアベアリングが配置されて、ウエハ定盤42上に非接触に支持される。
また、XYテーブル41の側面には、X方向とY方向に貫通する開口がそれぞれ設けられ、各開口にはXガイドバー102及びYガイドバー103が延設される。つまり、XYテーブル41は、Xガイドバー102及びYガイドバー103に沿って、X方向及びY方向に案内される。
上述したように、XYテーブル41とウエハ定盤42を備える。そして、XYテーブル41の上面には、ウエハWを吸着保持するウエハホルダ41aが配置される。また、下面には不図示のエアベアリングが配置されて、ウエハ定盤42上に非接触に支持される。
また、XYテーブル41の側面には、X方向とY方向に貫通する開口がそれぞれ設けられ、各開口にはXガイドバー102及びYガイドバー103が延設される。つまり、XYテーブル41は、Xガイドバー102及びYガイドバー103に沿って、X方向及びY方向に案内される。
ウエハステージ40のY方向の両端には、XYテーブル41をX方向に大きく移動させるリニアモータ105,106が設けられる。
リニアモータ105,106は、Yガイドバー103の両端に配置されてコイル巻き線を収納した可動子105A,106A(不図示)と、可動子105A,106AのZ方向の面に対向し、かつX方向に積層配置された板状の永久磁石からなる固定子105B,106Bとを組み合わせて構成される。
固定子105B,106Bが固定される部材は、X方向に延設された重量部材であって、カウンターマス(移動部材)151,152を構成する。すなわち、ウエハ定盤42とカウンターマス151,152との間には、それぞれリニアスライダー方式のエアベアリング(不図示)が配置されており、リニアモータ105,106を駆動してXYテーブル41をX方向に移動させた際には、カウンターマス151,152がその反動を抑える(反力をキャンセルする)ように、反対方向に直線移動するようになっている。
リニアモータ105,106は、Yガイドバー103の両端に配置されてコイル巻き線を収納した可動子105A,106A(不図示)と、可動子105A,106AのZ方向の面に対向し、かつX方向に積層配置された板状の永久磁石からなる固定子105B,106Bとを組み合わせて構成される。
固定子105B,106Bが固定される部材は、X方向に延設された重量部材であって、カウンターマス(移動部材)151,152を構成する。すなわち、ウエハ定盤42とカウンターマス151,152との間には、それぞれリニアスライダー方式のエアベアリング(不図示)が配置されており、リニアモータ105,106を駆動してXYテーブル41をX方向に移動させた際には、カウンターマス151,152がその反動を抑える(反力をキャンセルする)ように、反対方向に直線移動するようになっている。
ウエハステージ40のX方向の両端には、XYテーブル41をX方向に大きく移動させるリニアモータ115,116が設けられる。
リニアモータ115,116は、ウエハ定盤42上にコイル巻き線をY方向に積層配置した固定子115B,116Bと、固定子115B,116BのX方向の面に対向するように配置された板状の永久磁石からなり、Xガイドバー103の両端に固定された可動子115A,116Aとを組み合わせて構成される。
固定子115B,116Bが固定されるウエハ定盤42は、上述したように、X方向、Y方向及びθZ方向に移動可能であって、カウンターマスとして機能する。すなわち、リニアモータ115,116を駆動してXYテーブル41をY方向に移動させた際には、ウエハ定盤42がその反動を抑える(反力をキャンセルする)ように、反対方向に移動するようになっている。
リニアモータ115,116は、ウエハ定盤42上にコイル巻き線をY方向に積層配置した固定子115B,116Bと、固定子115B,116BのX方向の面に対向するように配置された板状の永久磁石からなり、Xガイドバー103の両端に固定された可動子115A,116Aとを組み合わせて構成される。
固定子115B,116Bが固定されるウエハ定盤42は、上述したように、X方向、Y方向及びθZ方向に移動可能であって、カウンターマスとして機能する。すなわち、リニアモータ115,116を駆動してXYテーブル41をY方向に移動させた際には、ウエハ定盤42がその反動を抑える(反力をキャンセルする)ように、反対方向に移動するようになっている。
また、カウンターマス151,152は、例えば、露光装置EX全体の僅かな傾斜や床面Fの僅かな振動等によって、X方向に僅かずつ変位してしまうという不都合を生じ得る。そこで、カウンターマス151,152をあるタイミングで自動的に中立位置に復帰させるために、リニアモータ(アクチュエータ)121,122(図3参照)がカウンターマス151,152のY方向の外側に設けられている。具体的には、リニアモータ121(122)の固定子121B(122B)はウエハ定盤42のY方向の側部に取り付けられ、可動子121A(122A)はカウンターマス151,152のY方向の側面に取り付けられる。
また、リニアモータ121,122は、カウンターマス151,152が所定の位置に移動させるためにも使用される。つまり、XYテーブル41とカウンターマス151,152との質量比は予め決まっているので、XYテーブル41の移動量(目標位置)が決まれば、運動量保存則を満足させるためのカウンターマス151,152の移動量(目標位置)が求まる。そこで、前記制御装置によって、カウンターマス151,152が所定の位置に移動するようにリニアモータ121,122を位置制御することで、XYテーブル41の移動によって生じる反力をキャンセルすることができる。また、制御装置を介して、リニアモータ121,122を、XYテーブル41移動時の反力の一部のみがキャンセルさせるような位置にカウンターマス151,152を位置決めするように制御することもできる。また、制御装置によって、リニアモータ121,122の速度が所定の速度となるような制御を行うことも可能である。
なお、リニアモータ121,122は、ローレンツ力を推力とするVCM型、磁力を推力とする電磁石型(ソーヤモータ等)のいずれであってもよい。磁石ユニットとコイルユニットをどちらに取り付けるかも任意であるが、固定子121B,122Bと可動子121A,122Aのうち、質量の大きい方をカウンターマス151,152に設けることが好ましい。カウンターマス151,152の質量を増大させてカウンターマス151,152に要求されるストロークを減少させることになるからである。
また、ウエハ定盤42の位置も、フレーム部50とウエハ定盤42とのY方向の間にバネダンパ機構(位置決め機構)130(図3参照)を設けて、自動的に中立位置に復帰させるようにしている。
また、リニアモータ121,122は、カウンターマス151,152が所定の位置に移動させるためにも使用される。つまり、XYテーブル41とカウンターマス151,152との質量比は予め決まっているので、XYテーブル41の移動量(目標位置)が決まれば、運動量保存則を満足させるためのカウンターマス151,152の移動量(目標位置)が求まる。そこで、前記制御装置によって、カウンターマス151,152が所定の位置に移動するようにリニアモータ121,122を位置制御することで、XYテーブル41の移動によって生じる反力をキャンセルすることができる。また、制御装置を介して、リニアモータ121,122を、XYテーブル41移動時の反力の一部のみがキャンセルさせるような位置にカウンターマス151,152を位置決めするように制御することもできる。また、制御装置によって、リニアモータ121,122の速度が所定の速度となるような制御を行うことも可能である。
なお、リニアモータ121,122は、ローレンツ力を推力とするVCM型、磁力を推力とする電磁石型(ソーヤモータ等)のいずれであってもよい。磁石ユニットとコイルユニットをどちらに取り付けるかも任意であるが、固定子121B,122Bと可動子121A,122Aのうち、質量の大きい方をカウンターマス151,152に設けることが好ましい。カウンターマス151,152の質量を増大させてカウンターマス151,152に要求されるストロークを減少させることになるからである。
また、ウエハ定盤42の位置も、フレーム部50とウエハ定盤42とのY方向の間にバネダンパ機構(位置決め機構)130(図3参照)を設けて、自動的に中立位置に復帰させるようにしている。
続いて、図3、図4を参照して、XYテーブル41、カウンターマス151,152及びウエハ定盤42の動作について説明する。
図3は、XYテーブル41をX方向に移動させた際のカウンターマス151,152の動作を模式的に表した図である。図4は、XYテーブル41をY方向に移動させた際のウエハ定盤42等の動作を模式的に表した図である。
まず、リニアモータ105,106によってXYテーブル41を+X方向に移動させると、その反動(反力)によってカウンターマス151,152が−X方向に移動する。このように、XYテーブル41を移動させる際に、同一質量(M1=M2)のカウンターマス151,152をXYテーブル41の進行方向とは逆向きに移動させることにより、ウエハステージ40に発生する振動(反動)を抑えるようにしている。そして、図3に示すように、XYテーブル41の重心位置が、移動方向(X方向)に直交する方向(Y方向)において中立位置(中間位置)にない場合には、XYテーブル41とカウンターマス151,152との間に発生させる推力F1,F2(リニアモータ105,106の推力)の比(F1:F2)をXYテーブル41の重心からカウンターマス151,152の重心(推力F1,F2の印加位置)への距離Y1,Y2の比(Y1:Y2)の反比に合わせる(F1:F2=Y2:Y1)ことにより、XYテーブル41にθZ方向の回転力が加わらないようにすることができる。
図3は、XYテーブル41をX方向に移動させた際のカウンターマス151,152の動作を模式的に表した図である。図4は、XYテーブル41をY方向に移動させた際のウエハ定盤42等の動作を模式的に表した図である。
まず、リニアモータ105,106によってXYテーブル41を+X方向に移動させると、その反動(反力)によってカウンターマス151,152が−X方向に移動する。このように、XYテーブル41を移動させる際に、同一質量(M1=M2)のカウンターマス151,152をXYテーブル41の進行方向とは逆向きに移動させることにより、ウエハステージ40に発生する振動(反動)を抑えるようにしている。そして、図3に示すように、XYテーブル41の重心位置が、移動方向(X方向)に直交する方向(Y方向)において中立位置(中間位置)にない場合には、XYテーブル41とカウンターマス151,152との間に発生させる推力F1,F2(リニアモータ105,106の推力)の比(F1:F2)をXYテーブル41の重心からカウンターマス151,152の重心(推力F1,F2の印加位置)への距離Y1,Y2の比(Y1:Y2)の反比に合わせる(F1:F2=Y2:Y1)ことにより、XYテーブル41にθZ方向の回転力が加わらないようにすることができる。
一方、リニアモータ115,116によってXYテーブル41を+Y方向に移動させると、その反動によってウエハ定盤42が−Y方向に移動する。このように、XYテーブル41を移動させる際に、ウエハ定盤42をXYテーブル41の進行方向とは逆向きに移動させることにより、ウエハステージ40に発生する振動(反動)を抑えるようにしている。
しかしながら、図4(a)に示すように、XYテーブル41の重心位置が、移動方向(Y方向)に直交する方向(X方向)において中立位置(中間位置)にない場合には、XYテーブル41を+Y方向に移動させた際に、ウエハ定盤42にθZ方向の回転力R1が加わってしまう。すなわち、リニアモータ115,116の推力F3,F4の比(F3:F4)をXYテーブル41の重心から推力F3,F4の印加位置への距離X1,X2の比(X1:X2)の反比に合わせる(F3:F4=X2:X1)と、XYテーブル41にはθZ方向の回転力が加わらないようにすることができるが、ウエハ定盤42の重心と推力F3,F4の印加位置とのX方向の位置が一致していないので、推力F3,F4がウエハ定盤42を回転させる力として作用してしまう。そして、結果として、XYテーブル41がウエハ定盤42とともに回転してしまう。つまり、図4(b)に示すように、推力F3,F4の合力をF5、ウエハ定盤42の重心位置とF5のX方向の距離X5とすると、ウエハ定盤42には、回転力R1(=F5・X5=F3・X3+F4・X4)が加わる。
しかしながら、図4(a)に示すように、XYテーブル41の重心位置が、移動方向(Y方向)に直交する方向(X方向)において中立位置(中間位置)にない場合には、XYテーブル41を+Y方向に移動させた際に、ウエハ定盤42にθZ方向の回転力R1が加わってしまう。すなわち、リニアモータ115,116の推力F3,F4の比(F3:F4)をXYテーブル41の重心から推力F3,F4の印加位置への距離X1,X2の比(X1:X2)の反比に合わせる(F3:F4=X2:X1)と、XYテーブル41にはθZ方向の回転力が加わらないようにすることができるが、ウエハ定盤42の重心と推力F3,F4の印加位置とのX方向の位置が一致していないので、推力F3,F4がウエハ定盤42を回転させる力として作用してしまう。そして、結果として、XYテーブル41がウエハ定盤42とともに回転してしまう。つまり、図4(b)に示すように、推力F3,F4の合力をF5、ウエハ定盤42の重心位置とF5のX方向の距離X5とすると、ウエハ定盤42には、回転力R1(=F5・X5=F3・X3+F4・X4)が加わる。
そこで、ウエハ定盤42に加わる回転力R1(ウエハ定盤42の重心G回りに発生するモーメント)を相殺させるように、リニアモータ121,122を駆動する。すなわち、リニアモータ121,122を駆動することにより、ウエハ定盤42に推力F6,F7を加えることができる。推力F6,F7の印加位置とウエハ定盤42の重心位置との距離Y3,Y4は既知であるため、推力F6,F7の大きさを調整することにより、ウエハ定盤42に、任意の回転力R2(=F6・Y3+F7・Y4)を与えることができる。つまり、上述した回転力R1は、推力F3,F4の大きさと位置X3,X4から求められるので、ウエハ定盤42に回転力R2を与えて回転力R1を打ち消すことが可能である(図4(b)参照)。
なお、リニアモータ121,122による推力F6,F7の反力は、カウンターマス151,152をX方向に移動させる力として作用するが、カウンターマス151,152が単独でX方向に移動するだけなので、新たな回転力が発生することはない。
なお、リニアモータ121,122は、常に回転力R1を完全に打ち消すように駆動される必要はない。回転力R1が許容される範囲である場合には、リニアモータ121,122を駆動しなくてもよい。また、回転力R1は、許容値になる程度の回転力R2を設定し、この回転力R2がウエハ定盤42に加わるようにしてもよい。
なお、リニアモータ121,122による推力F6,F7の反力は、カウンターマス151,152をX方向に移動させる力として作用するが、カウンターマス151,152が単独でX方向に移動するだけなので、新たな回転力が発生することはない。
なお、リニアモータ121,122は、常に回転力R1を完全に打ち消すように駆動される必要はない。回転力R1が許容される範囲である場合には、リニアモータ121,122を駆動しなくてもよい。また、回転力R1は、許容値になる程度の回転力R2を設定し、この回転力R2がウエハ定盤42に加わるようにしてもよい。
このように、ウエハステージ40は、XYテーブル41をX方向及びY方向に移動させた際に、運動量保存則が適用されるカウンターマス151,152及びウエハ定盤42の作用により、反動(反力)による振動とθZ方向の回転力の発生を良好に抑えることができる。そして、上述したような構成を用いることにより、ウエハステージ40(ウエハ定盤42)のX方向の幅を比較的小さく抑えることができ、ウエハステージ40の保守作業の際に、側方からXYテーブル41等へのアクセスが容易になる。
なお、ウエハステージ40(ウエハ定盤42)のY方向の幅は長くなるが、走査方向であるY方向の幅を長くすることにより、ウエハステージ40の安定性が増すという効果が得られる。
なお、ウエハステージ40(ウエハ定盤42)のY方向の幅は長くなるが、走査方向であるY方向の幅を長くすることにより、ウエハステージ40の安定性が増すという効果が得られる。
また、カウンターマス151,152及びウエハ定盤42の重心のZ方向の位置は、XYテーブル41の重心のZ方向の位置に一致させることが望ましい。XYテーブル41、カウンターマス151,152及びウエハ定盤42が移動した際に、θX方向及びθY方向の回転力(モーメント)を発生させないようにするためである。
なお、ウエハ定盤42の重心のZ方向をXYテーブル41の重心のZ方向の位置に一致させるために、ウエハ定盤42の外周部に重量体46A,46B(図1参照)を設け、この重量体46A,46BのZ方向の高さと重量を調整することにより、実現可能である。
上記実施形態においては、XYテーブル41は、リニアモータ105,106によってX方向に駆動され、リニアモータ115,116によってY方向に駆動される。また、リニアモータ105,106間の推力、又はリニアモータ105,106間の推力に差を設けてθZ方向に微小量駆動されるようになっている。更に、XYテーブル41上に6自由度で移動可能な微動テーブルを更に設けることで、ウエハWを6自由度で位置決めできるように構成してもよい。
また、ウエハ定盤42のモーメントを相殺するためにカウンターマス151,152を位置決めするためのリニアモータ121,122を用いたが、このモーメントを相殺するために独立したアクチュエータを設けてもよい。
また、バネダンパ機構130の代わりに、ウエハ定盤42を位置決めするためのアクチュエータを別途設けてもよい。
なお、ウエハ定盤42の重心のZ方向をXYテーブル41の重心のZ方向の位置に一致させるために、ウエハ定盤42の外周部に重量体46A,46B(図1参照)を設け、この重量体46A,46BのZ方向の高さと重量を調整することにより、実現可能である。
上記実施形態においては、XYテーブル41は、リニアモータ105,106によってX方向に駆動され、リニアモータ115,116によってY方向に駆動される。また、リニアモータ105,106間の推力、又はリニアモータ105,106間の推力に差を設けてθZ方向に微小量駆動されるようになっている。更に、XYテーブル41上に6自由度で移動可能な微動テーブルを更に設けることで、ウエハWを6自由度で位置決めできるように構成してもよい。
また、ウエハ定盤42のモーメントを相殺するためにカウンターマス151,152を位置決めするためのリニアモータ121,122を用いたが、このモーメントを相殺するために独立したアクチュエータを設けてもよい。
また、バネダンパ機構130の代わりに、ウエハ定盤42を位置決めするためのアクチュエータを別途設けてもよい。
なお、上述した実施の形態において示した動作手順、あるいは各構成部材の諸形状や組み合わせ等は一例であって、本発明の主旨から逸脱しない範囲においてプロセス条件や設計要求等に基づき種々変更可能である。例えば、上記実施形態では、本発明をウエハステージに適用した場合について説明したが、レチクルステージに適用することも可能である。また、本発明は、例えば以下のような変更をも含むものとする。
例えば、本発明は半導体素子の製造に用いられる露光装置だけではなく、液晶表示素子(LCD)等を含むディスプレイの製造に用いられてデバイスパターンをガラスプレート上へ転写する露光装置、薄膜磁気ヘッドの製造に用いられてデバイスパターンをセラミックウエハ上へ転写する露光装置、及びCCD等の撮像素子の製造に用いられる露光装置等にも適用することができる。更には、光露光装置、EUV露光装置、X線露光装置、及び電子線露光装置などで使用されるレチクル又はマスクを製造するために、ガラス基板又はシリコンウエハなどに回路パターンを転写する露光装置にも本発明を適用できる。ここで、DUV(遠紫外)光やVUV(真空紫外)光などを用いる露光装置では一般的に透過型レチクルが用いられ、レチクル基板としては石英ガラス、フッ素がドープされた石英ガラス、蛍石、フッ化マグネシウム、又は水晶などが用いられる。また、プロキシミティ方式のX線露光装置、又は電子線露光装置などでは透過型マスク(ステンシルマスク、メンブレンマスク)が用いられ、マスク基板としてはシリコンウエハなどが用いられる。
また、本発明が適用される露光装置の光源は、g線(436nm)、i線(365nm)、KrFエキシマレーザ(248nm)、ArFエキシマレーザ(193nm)、F2レーザ(157nm)のみならず、X線や電子線などの荷電粒子線を用いることができる。例えば、電子線を用いる場合には電子銃として、熱電子放射型のランタンヘキサボライト(LaB6)、タンタル(Ta)を用いることができる。さらに、電子線を用いる場合、マスクを用いる構成としてもよいし、マスクを用いずに直接基板上にパターンを形成する構成としてもよい。さらに、投影光学系の倍率は縮小系のみならず等倍および拡大系のいずれでもよい。
また、投影光学系としては、エキシマレーザなどの遠紫外線を用いる場合は硝材として石英や蛍石などの遠紫外線を透過する材料を用い、F2レーザやX線を用いる場合は反射屈折系または屈折系の光学系にし(このとき、レチクルも反射型タイプのものを用いる)、また、電子線を用いる場合には光学系として電子レンズおよび偏向器からなる電子光学系を用いればよい。なお、電子線が通過する光路は真空状態にすることはいうまでもない。
レチクルステージの移動により発生する反力は、カウンターマスを用いる場合の他、特開平8−330224号公報に記載されているようにフレーム部材を用いて機械的に床(大地)に逃がしてもよい。
次に、本発明の実施形態による露光装置及び露光方法をリソグラフィ工程で使用したマイクロデバイスの製造方法の実施形態について説明する。
図5は、マイクロデバイス(ICやLSI等の半導体チップ、液晶パネル、CCD、薄膜磁気ヘッド、マイクロマシン等)の製造例のフローチャートを示す図である。
まず、ステップS10(設計ステップ)において、マイクロデバイスの機能・性能設計(例えば、半導体デバイスの回路設計等)を行い、その機能を実現するためのパターン設計を行う。引き続き、ステップS11(マスク製作ステップ)において、設計した回路パターンを形成したマスク(レチクル)を製作する。一方、ステップS12(ウエハ製造ステップ)において、シリコン等の材料を用いてウエハを製造する。
図5は、マイクロデバイス(ICやLSI等の半導体チップ、液晶パネル、CCD、薄膜磁気ヘッド、マイクロマシン等)の製造例のフローチャートを示す図である。
まず、ステップS10(設計ステップ)において、マイクロデバイスの機能・性能設計(例えば、半導体デバイスの回路設計等)を行い、その機能を実現するためのパターン設計を行う。引き続き、ステップS11(マスク製作ステップ)において、設計した回路パターンを形成したマスク(レチクル)を製作する。一方、ステップS12(ウエハ製造ステップ)において、シリコン等の材料を用いてウエハを製造する。
次に、ステップS13(ウエハ処理ステップ)において、ステップS10〜ステップS12で用意したマスクとウエハを使用して、後述するように、リソグラフィ技術等によってウエハ上に実際の回路等を形成する。次いで、ステップS14(デバイス組立ステップ)において、ステップS13で処理されたウエハを用いてデバイス組立を行う。このステップS14には、ダイシング工程、ボンティング工程、及びパッケージング工程(チップ封入)等の工程が必要に応じて含まれる。最後に、ステップS15(検査ステップ)において、ステップS14で作製されたマイクロデバイスの動作確認テスト、耐久性テスト等の検査を行う。こうした工程を経た後にマイクロデバイスが完成し、これが出荷される。
図6は、半導体デバイスの場合におけるステップS13の詳細工程の一例を示す図である。
ステップS21(酸化ステップ)おいては、ウエハの表面を酸化させる。ステップS22(CVDステップ)においては、ウエハ表面に絶縁膜を形成する。ステップS23(電極形成ステップ)においては、ウエハ上に電極を蒸着によって形成する。ステップS24(イオン打込みステップ)においては、ウエハにイオンを打ち込む。以上のステップS21〜ステップS24のそれぞれは、ウエハ処理の各段階の前処理工程を構成しており、各段階において必要な処理に応じて選択されて実行される。
ステップS21(酸化ステップ)おいては、ウエハの表面を酸化させる。ステップS22(CVDステップ)においては、ウエハ表面に絶縁膜を形成する。ステップS23(電極形成ステップ)においては、ウエハ上に電極を蒸着によって形成する。ステップS24(イオン打込みステップ)においては、ウエハにイオンを打ち込む。以上のステップS21〜ステップS24のそれぞれは、ウエハ処理の各段階の前処理工程を構成しており、各段階において必要な処理に応じて選択されて実行される。
ウエハプロセスの各段階において、上述の前処理工程が終了すると、以下のようにして後処理工程が実行される。この後処理工程では、まず、ステップS25(レジスト形成ステップ)において、ウエハに感光剤を塗布する。引き続き、ステップS26(露光ステップ)において、上で説明したリソグラフィシステム(露光装置)及び露光方法によってマスクの回路パターンをウエハに転写する。次に、ステップS27(現像ステップ)においては露光されたウエハを現像し、ステップS28(エッチングステップ)において、レジストが残存している部分以外の部分の露出部材をエッチングにより取り去る。そして、ステップS29(レジスト除去ステップ)において、エッチングが済んで不要となったレジストを取り除く。これらの前処理工程と後処理工程とを繰り返し行うことによって、ウエハ上に多重に回路パターンが形成される。
また、半導体素子等のマイクロデバイスだけではなく、光露光装置、EUV露光装置、X線露光装置、及び電子線露光装置等で使用されるレチクル又はマスクを製造するために、マザーレチクルからガラス基板やシリコンウエハ等ヘ回路パターンを転写する露光装置にも本発明を適用できる。ここで、DUV(深紫外)やVUV(真空紫外)光等を用いる露光装置では、一般的に透過型レチクルが用いられ、レチクル基板としては石英ガラス、フッ素がドープされた石英ガラス、蛍石、フッ化マグネシウム、又は水晶等が用いられる。また、プロキシミティ方式のX線露光装置や電子線露光装置等では、透過型マスク(ステンシルマスク、メンブレンマスク)が用いられ、マスク基板としてはシリコンウエハ等が用いられる。なお、このような露光装置は、国際公開99/34255号パンフレット、国際公開99/50712号パンフレット、国際公開99/66370号パンフレット、特開平11−194479号、特開2000−12453号、特開2000−29202号等に開示されている。
また、本発明は、投影光学系と基板(ウエハ)との間に供給された液体を介して基板上に所定のパターンを形成する液浸露光装置にも、必要な液体対策を適宜施したうえで適用可能である。液浸露光装置の構造及び露光動作は、例えば、国際公開第99/49504号パンフレット、特開平6−124873号、及び特開平10−303114号に開示されている。また、本発明は、ツインステージ型の露光装置にも適用できる。ツインステージ型の露光装置の構造及び露光動作は、例えば、特開平10−163099号、特開平10−214783号、特表2000−505958号或いは米国特許6,208,407号に開示されている。また、本発明は、特開平11−135400号に開示されているように、ウエハ等の被処理基板を保持して移動可能な露光ステージと、各種計測部材やセンサを備えた計測ステージとを備えた露光装置にも適用することができる。
また、本発明は、投影光学系と基板(ウエハ)との間に供給された液体を介して基板上に所定のパターンを形成する液浸露光装置にも、必要な液体対策を適宜施したうえで適用可能である。液浸露光装置の構造及び露光動作は、例えば、国際公開第99/49504号パンフレット、特開平6−124873号、及び特開平10−303114号に開示されている。また、本発明は、ツインステージ型の露光装置にも適用できる。ツインステージ型の露光装置の構造及び露光動作は、例えば、特開平10−163099号、特開平10−214783号、特表2000−505958号或いは米国特許6,208,407号に開示されている。また、本発明は、特開平11−135400号に開示されているように、ウエハ等の被処理基板を保持して移動可能な露光ステージと、各種計測部材やセンサを備えた計測ステージとを備えた露光装置にも適用することができる。
40 ウエハステージ(ステージ装置、基板ステージ)
41 XYテーブル(主可動体)
42 ウエハ定盤(ベース部材)
121,122 リニアモータ(アクチュエータ)
130 バネダンパ機構(位置決め機構)
151,152 カウンターマス(移動部材)
W ウエハ(基板)
PA パターン
EX 露光装置
41 XYテーブル(主可動体)
42 ウエハ定盤(ベース部材)
121,122 リニアモータ(アクチュエータ)
130 バネダンパ機構(位置決め機構)
151,152 カウンターマス(移動部材)
W ウエハ(基板)
PA パターン
EX 露光装置
Claims (9)
- 交差する第1方向及び第2方向に往復移動可能な主移動体と、
前記第1方向に往復移動可能に配置されて、前記主移動体の前記第1方向への移動時の反力を相殺する移動部材と、
前記主移動体と前記移動部材とを載置するとともに、前記前記第2方向に往復移動可能に配置されて、前記主移動体の前記第2方向の移動時の反力を相殺するベース部材と、
を備えることを特徴とするステージ装置。 - 前記移動部材と前記ベース部材との間に推力を与えて、前記移動部材と前記ベース部材との間の相対位置を変更可能なアクチュエータを備え、
前記アクチュエータの推力を用いて、前記ベース部材の重心廻りに発生するモーメントを低減させることを特徴とする請求項1に記載のステージ装置。 - 前記移動部材は、前記第2方向に離間して配置される複数の部材からなることを特徴とする請求項1又は請求項2に記載のステージ装置。
- 前記第2方向に関して前記ベース部材を位置決めする位置決め機構を備えることを特徴とする請求項1から請求項3のうちいずれか一項に記載のステージ装置。
- 前記移動部材の前記第1方向と前記第2方向とに略直交する第3方向における重心位置は、前記主移動体の前記第3方向における重心位置と略等しいことを特徴とする請求項1から請求項4のうちいずれか一項に記載のステージ装置。
- 前記ベース部材の前記第3方向における重心位置は、前記主移動体の前記第3方向における重心位置と略等しいことを特徴とする請求項1から請求項5のうちいずれか一項に記載のステージ装置。
- 基板ステージに保持された基板上に所定のパターンを形成する露光装置において、
前記基板ステージに、請求項1から請求項6のうちいずれか一項に記載のステージ装置を用いることを特徴とする露光装置。 - 前記露光装置は、前記基板が走査方向に移動している間に該基板に対して所定のパターンを形成するものであって、
前記第2方向は前記走査方向であることを特徴する請求項7に記載の露光装置。 - リソグラフィ工程を含むデバイスの製造方法において、前記リソグラフィ工程において請求項7又は請求項8に記載の露光装置を用いることを特徴とするデバイスの製造方法。
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