NL9100202A - Lithografische inrichting met een hangende objecttafel. - Google Patents

Description

"Lithografische inrichting met een hangende objecttafel."

De uitvinding heeft betrekking op een lithografische inrichting met een lithografisch bestralingssysteem dat een vertikale, evenwijdig aan een z-richting gerichte hoofdas bezit en nabij een onderzijde is bevestigd aan een tot een gestel van de inrichting behorend montage-orgaan, alsmede met een onder het bestralingssysteem opgestelde positioneerinrichting door middel waarvan een objecttafel ten opzichte van het bestralingssysteem verplaatsbaar is over een zich loodrecht op de z-richting uitstrekkend geleidevlak van een met de positioneerinrichting gekoppeld steunorgaan.

Met behulp van een lithografische inrichting van de in de aanhef genoemde soort wordt op een op de objecttafel geplaatst substraat een lithografisch proces uitgevoerd, zoals bijvoorbeeld een optisch lithografisch proces waarbij het bestralingssysteem is voorzien van een lenssysteem met een lichtbron (bijvoorbeeld een UV-lichtbron), een röntgenlithografisch proces waarbij het bestralingssysteem is voorzien van een röntgenbron, of een elektrolithografisch proces, waarbij het bestralingssysteem is voorzien van een elektronenbuis. Uit het Amerikaanse octrooischrift 4,737,823 is een optisch lithografische inrichting van de in de aanhef genoemde soort bekend, waarbij het bestralingssysteem voorzien is van een lenssysteem dat nabij een onderzijde is bevestigd aan het montage-orgaan. Bij deze bekende lithografische inrichting is het steunorgaan een rechthoekige granieten steen die een onderdeel vormt van het gestel van de inrichting. Op het geleidevlak, dat gevormd is door een bovenzijde van het steunorgaan, zijn vier zich evenwijdig aan de z-richting uitstrekkende zuilen van het gestel bevestigd waaraan op enige afstand boven het steunorgaan het montage-orgaan, dat uitgevoerd is als een zich dwars op de hoofdas uitstrekkende plaat, met het lenssysteem is bevestigd. Aan een onderzijde is het steunor-gaan voorzien van gestelvoeten die elk zijn voorzien van een veerorgaan en een dempingsorgaan.

Een in het voorgaande omschreven constructie van het gestel heeft een relatief grote bouwhoogte van de inrichting in de z-richting tot gevolg. De bouwhoogte van de bekende lithografische inrichting is onder meer bepaald door de hoogte van het lenssysteem, de hoogte van de positioneerinrichting en het steunorgaan en de hoogte van de gestelvoeten. Een dergelijke bouwhoogte is in het bijzonder bij een toepassing van de inrichting in een geconditioneerde produktieruimte voor bijvoorbeeld geïntegreerde schakelingen bezwaarlijk.

Een doel van de uitvinding is een lithografische inrichting te verschaffen, waarvan de bouwhoogte relatief klein is.

De uitvinding heeft daartoe tot kenmerk, dat de positioneerinrichting en het steunorgaan als eenheid zijn opgesteld op een drager die is opgehangen aan het montage-orgaan. Door toepassing van een drager, die opgehangen is aan het montage-orgaan, is een constructie van het gestel mogelijk waarbij het montage-orgaan bevestigd is op de gestelvoeten en waarbij de positioneerinrichting en het steunorgaan tussen de gestelvoeten zijn opgesteld, zodat in de z-richting gezien een compacte constructie wordt verschaft.

Opgemerkt wordt, dat uit de Japanse octrooiaanvrage 61-41426 een optisch lithografische inrichting bekend is met een hangende objecttafel. De objecttafel is in dit geval echter samen met de ophangconstructie verplaatsbaar ten opzichte van het lenssyteem.

Een bijzondere uitvoeringsvorm van de lithografische inrichting volgens de uitvinding heeft tot kenmerk, dat het steunorgaan met behulp van een eerste elastisch koppelorgaan en een eerste dempingsorgaan is bevestigd aan de drager, terwijl de positioneerinrichting met behulp van een tweede elastisch koppelorgaan en een tweede dempingsorgaan is bevestigd aan het steunorgaan. Door toepassing van de genoemde koppelorganen en dempingsorganen en door een optimalisatie van de massa van het steunorgaan ten opzichte van de massa van de positioneerinrichting en de massa van het gestel is de positioneerinrichting mechanisch optimaal afgeschermd tegen externe trillingen, zoals bijvoorbeeld mechanische resonantietrillingen van het gestel van de inrichting.

Een verdere uitvoeringsvorm van de lithografische inrichting volgens de uitvinding, die in de richting van de hoofdas gezien een bijzonder stijve en lichte ophanging van de drager aan het montage-orgaan verschaft, heeft tot kenmerk, dat de drager van het steunorgaan en van de positioneerinrichting door middel van plaatvormige ophangelementen is opgehangen aan het montage-orgaan, waarbij elk van de ophangelementen zich uitstrekt in een vertikaal vlak dat evenwijdig is aan de hoofdas.

Een nog verdere uitvoeringsvorm van de lithografische inrichting volgens de uitvinding, die in een richting dwars op de hoofdas gezien een bijzonder stijve, lichte en compacte ophanging van de drager aan het montage-orgaan en een compacte constructie van het gestel verschaft, heeft tot kenmerk, dat de drager door middel van drie plaatvormige ophangelementen is opgehangen aan het montage-orgaan, waarbij het montage-orgaan met behulp van drie gestelvoeten is bevestigd op een basis van het gestel, terwijl de ophangelementen driehoeksgewijs zijn opgesteld en de genoemde vertikale vlakken onderling hoeken van nagenoeg 60° insluiten, waarbij elk van de gestelvoeten in een radiale richting ten opzichte van de hoofdas gezien nabij een buitenzijde van een van de ophangelementen is opgesteld.

Een bijzondere uitvoeringsvorm van de lithografische inrichting volgens de uitvinding heeft tot kenmerk, dat de door het steunorgaan en de positioneerinrichting gevormde eenheid ten opzichte van de drager en het montage-orgaan verplaatsbaar is in een richting dwars op de hoofdas. Door de genoemde eenheid te verplaatsen ten opzichte van de drager en het montage-orgaan is de positioneerinrichting met de object-tafel voor een bediener van de lithografische inrichting gemakkelijk toegankelijk voor bijvoorbeeld onderhoud of reparatie.

Een verdere uitvoeringsvorm van de lithografische inrichting volgens de uitvinding, waarbij de genoemde eenheid met behulp van een eenvoudige constructie verplaatsbaar is, heeft tot kenmerk, dat de door het steunorgaan en de positioneerinrichting gevormde eenheid ten opzichte van de drager en het montage-orgaan draaibaar is om een nagenoeg evenwijdig aan de hoofdas gerichte rotatie-as.

Een nog verdere uitvoeringsvorm van de lithografische inrichting volgens de uitvinding heeft tot kenmerk, dat de eenheid achtereenvolgens vanuit een bedrijfsstand, waarin het steunorgaan gekoppeld is aan de drager, volgens een eerste rotatiebeweging draaibaar is naar een eerste tussenstand, vanuit de eerste tussenstand volgens een tweede rotatiebeweging draaibaar is naar een tweede tussenstand en vanuit de tweede tussenstand volgens een derde rotatiebeweging draaibaar is naar een eindstand, waarin de eenheid zich geheel buiten het gestel bevindt. Doordat de eenheid volgens de drie genoemde rotatiebewegingen draaibaar is ten opzichte van het gestel kan de eenheid, in het bijzonder wanneer het gestel is voorzien van driehoeksgewijs opgestelde gestelvoeten en ophangelementen, op een praktische en doelmatige wijze tot buiten het gestel gebracht worden. Daarbij is de positioneerinrichting in de tweede tussenstand van de eenheid toegankelijk voor eenvoudige reinigingswerkzaamheden, terwijl de eenheid in de genoemde eindstand eenvoudig toegankelijk is voor reparatie.

Een bijzondere uitvoeringsvorm van de lithografische inrichting volgens de uitvinding, waarbij de eenheid nagenoeg wrijvingsloos ten opzichte van de drager draaibaar is, heeft tot kenmerk, dat het steunorgaan tijdens de eerste rotatiebeweging van de eenheid is gekoppeld aan een met het gestel verbonden rotatie-as en met behulp van een statisch fluïdumlager is geleid over een bovenvlak van de drager.

Een verdere uitvoeringsvorm van de lithografische inrichting volgens de uitvinding heeft tot kenmerk, dat het steunorgaan in de eerste tussenstand van de eenheid koppelbaar is aan een tweede draaiarm die draaibaar is ondersteund op een draaibaar aan het gestel bevestigde eerste draaiarm, waarbij tijdens de eerste rotatiebeweging van de eenheid de tweede draaiarm is geblokkeerd ten opzichte van de eerste draaiarm en de eerste draaiarm is geblokkeerd ten opzichte van het gestel, dat de tweede rotatiebeweging van de eenheid is gevormd door een draaibeweging van de tweede draaiarm ten opzichte van de eerste draaiarm, waarbij het steunorgaan aan de tweede draaiarm is gekoppeld en de eerste draaiarm is geblokkeerd ten opzichte van het gestel, dat de tweede draaiarm in de tweede tussenstand van de eenheid blokkeerbaar is ten opzichte van de eerste draaiarm en dat de derde rotatiebeweging van de eenheid is gevormd door een draaibeweging van de eerste draaiarm ten opzichte van het gestel, waarbij het steunorgaan aan de tweede draaiarm is gekoppeld en de tweede draaiarm ten opzichte van de eerste draaiarm is geblokkeerd. Door toepassing van de beide draaiarmen is de eenheid handmatig op een snelle en eenvoudige wijze draaibaar tot buiten het gestel.

De uitvinding wordt in het volgende nader toegelicht aan de hand van de tekening, waarin

Figuur 1 een perspectivisch aanzicht toont van een optisch lithografische inrichting volgens de uitvinding,

Figuur 2 een door een positioneerinrichting en een steunorgaan gevormde eenheid toont van de optisch lithografische inrichting volgens figuur 1,

Figuur 3a een schematische dwarsdoorsnede toont van de optisch lithografische inrichting volgens figuur 1, waarbij de eenheid volgens figuur 2 zich in een bedrijfsstand bevindt,

Figuur 3b een schematische dwarsdoorsnede toont van de optisch lithografische inrichting volgens figuur 1, waarbij de eenheid volgens figuur 2 zich in een eerste tussenstand bevindt,

Figuur 3c een schematische dwarsdoorsnede toont van de optisch lithografische inrichting volgens figuur 1, waarbij de eenheid volgens figuur 2 zich in een tweede tussenstand bevindt,

Figuur 3d een schematische dwarsdoorsnede toont van de optisch lithografische inrichting volgens figuur 1, waarbij de eenheid volgens figuur 2 zich in een eindstand bevindt,

Figuur 4a een dwarsdoorsnede toont van een koppelvoet van het steunorgaan volgens de lijn IVa-IVa in figuur 3d,

Figuur 4b een dwarsdoorsnede toont van een pneumatisch koppelorgaan van de drager volgens de lijn IVb-IVb in figuur 3d,

Figuur 5a een bovenaanzicht toont van een pneumatisch draaimechanisme waarmee de eenheid volgens figuur 2 draaibaar is van de in figuur 3a weergegeven bedrijfsstand naar de in figuur 3b weergegeven eerste tussenstand,

Figuur 5b een dwarsdoorsnede toont van het draaimechanisme volgens de lijn Vb-Vb in figuur 5a,

Figuur 5c een dwarsdoorsnede toont van het draaimechanisme volgens de lijn Vc-Vc in figuur 5a,

Figuur 6 een zijaanzicht toont van een uitzwaaimechanisme van de optisch lithografische inrichting volgens figuur 1,

Figuur 7 een zijaanzicht toont van een uiteinde van een draaiarm van het uitzwaaimechanisme volgens figuur 6,

Figuur 8 een bovenaanzicht toont van het uitzwaaimechanisme volgens figuur 6,

Figuur 9a een dwarsdoorsnede toont van het uiteinde van de draaiarm volgens de lijn IXa-IXa in figuur 7,

Figuur 9b een dwarsdoorsnede toont van het uiteinde van de draaiarm volgens de lijn IXb-IXb in figuur 7 en

Figuur 9c een dwarsdoorsnede toont van het uiteinde van de draaiarm volgens de lijn IXc-IXc in figuur 7.

De met de figuren 1 tot en met 9 geïllustreerde optisch lithografische inrichting is voorzien van een in figuur 1 slechts schematisch weergegeven optisch bestralingssysteem 1, dat een in een vertikale z-richting opgesteld lenssysteem 2 bezit. Het lenssysteem 2 heeft een evenwijdig aan de z-richting gerichte optische hoofdas 3 en is nabij een onderzijde voorzien van een montagering 4. Met behulp van de montagering 4 is het lenssysteem 2 bevestigd aan een montage-orgaan 5, dat een onderdeel vormt van een gestel 7 van de inrichting en dat is uitgevoerd als een zich in een vlak loodrecht op de optische hoofdas 3 uitstrekkende, driehoekige plaat. Nabij een bovenzijde van het lenssysteem 2 is de optisch lithografische inrichting voorzien van een maskermanipu-lator 9 voor het positioneren en ondersteunen van een masker 11 ten opzichte van het lenssysteem 2. In bedrijf wordt een van een lichtbron 13 van het bestralingssysteem 1 afkomstige lichtbundel via spiegels 15 en 17 van het bestralingssysteem 1 geleid door het masker 11, dat bijvoorbeeld een patroon bevat van een geïntegreerde halfgeleiderschakeling, en door middel van het lenssysteem 2 gefocusseerd op een substraat, zoals bijvoorbeeld een halfgeleidersubstraat 19, dat op een objecttafel 21 is aangebracht. Op deze wijze wordt het genoemde patroon op een gereduceerde schaal afgebeeld op het halfgeleidersubstraat 19. De objecttafel 21 is verplaatsbaar evenwijdig aan een x-richting, die loodrecht op de optische hoofdas 3 staat, en evenwijdig aan een y-richting, die loodrecht op de optische hoofdas 3 en de x-richting staat. Door een stapsgewijze verplaatsing van de objecttafel 21 evenwijdig aan de x-richting en de y- richting naar verschillende belichtingsposities kan het halfgeleidersubstraat 19 worden belicht op een groot aantal met identieke geïntegreerde schakelingen corresponderende plaatsen. Opgemerkt wordt, dat het massazwaartepunt van het lenssysteem 2 nabij een zich dwars op de z-richting uitstrekkend middenvlak van de montagering 4 is gelegen, zodat met behulp van de montagering 4 een stabiele ondersteuning van het lenssysteem 2 ten opzichte van het gestel 7 wordt verschaft.

Het montage-orgaan 5 is voorzien van drie hoekdelen 23 die elk rusten op een gestelvoet 25. In figuur 1 zijn slechts twee hoekdelen 23 en twee gestelvoeten 25 zichtbaar. De gestelvoeten 25 zijn daarbij opgesteld op een basisdeel 27 van het gestel 7, dat met behulp van stelorganen 29 op een vlakke ondergrond is geplaatst. Met behulp van de gestelvoeten 25, die elk voorzien zijn van een in figuur 1 niet nader weergegeven veerorgaan en dempingsorgaan van een op zichzelf gebruikelijke soort, is de optisch lithografische inrichting in een richting evenwijdig aan de z-richting en in een richting dwars op de z-richting laagfrequent (3 Hz) afgeveerd ten opzichte van de ondergrond. Op deze wijze wordt voorkomen dat trillingen van de ondergrond, die een nauwkeurige werking van de optisch lithografische inrichting nadelig beïnvloeden, via de gestelvoeten 25 worden doorgeleid naar het montage-orgaan 5 en naar het lenssysteem 2.

Zoals in figuur 2 in detail is weergegeven is de objecttafel 21 met behulp van een zogenaamde luchtvoet 31, die voorzien is van een statisch gaslager, geleid over een zich loodrecht op de optische hoofdas 3 uitstrekkend bovenvlak 33 van een steunorgaan 35 dat uitgevoerd is als een granieten steen. De objecttafel 21 is over het bovenvlak 33 verplaatsbaar door middel van een positioneerinrichting 37 die drie lineaire elektrische motoren 39, 41 en 43 bevat. Zoals is weergegeven in figuur 2 bevat de lineaire motor 39 een zich evenwijdig aan de x-richting uitstrekkende x-stator 45 en een aan de objecttafel 21 bevestigde x-translator 47 waarmee de objecttafel 21 langs de x-stator 45 evenwijdig aan de x-richting verplaatsbaar is. De lineaire motoren 41 en 43 bevatten respectievelijk een zich evenwijdig aan de y-richting uitstrekkende y-stator 49 met een aan een eerste uiteinde 51 van de x-stator 45 bevestigde y-translator 53 en een zich evenwijdig aan de y-richting uitstrekkende y-stator 55 met een aan een tweede uiteinde 57 van de x-stator 45 bevestigde y-translator 59. De y-statoren 49 en 55 zijn bevestigd aan een raamvormig frame 61 van de positioneerinrichting 37, dat nabij zijn hoeken is bevestigd op het bovenvlak 33 van het steunorgaan 35. Zoals in figuur 2 is weergeven zijn daarbij tussen het frame 61 en het bovenvlak 33 van het steunorgaan 35 rubberplaten 63 aangebracht. Door toepassing van de rubberplaten 63 wordt voorkomen dat hoogfrequente trillingen, zoals bijvoorbeeld eigentrillingen van het gestel 7, via het steunorgaan 35 en het frame 61 worden doorgeleid naar de objecttafel 21. Met behulp van de lineaire motoren 41 en 43 is de objecttafel 21 verplaatsbaar evenwijdig aan de y-richting en over een zeer beperkte hoek draaibaar om een evenwijdig aan de optische hoofdas 3 gerichte rotatie-as. Opgemerkt wordt, dat de luchtvoet 31 en de positioneerinrichting 37 met de in een H-vorm ten opzichte van elkaar opgestelde lineaire motoren 39, 41 en 43 op zichzelf bekend zijn uit het Amerikaanse octrooischrift 4,737,823.

Zoals in de figuren 1 en 2 is weergegeven vormen het steunorgaan 35 en de positioneerinrichting 37 een eenheid 65 die is aangebracht op een drager 67 van het gestel 7. De figuren 3a tot en met 3d tonen dat de drager 67 gevormd is door een zich loodrecht op de optische hoofdas 3 uitstrekkende, hoofdzakelijk driehoekige plaat met hoofdzijden 69 die zich elk tussen twee gestelvoeten 25 uitstrekken. Een bovenzijde 71 van de drager 67 is voorzien van drie in de figuren 3a tot en met 3d slechts schematisch weergegeven pneumatische koppelorganen 73, die in een in figuur 3a weergegeven be-drijfsstand van de eenheid 65 in ingrijping zijn met drie aan een onderzijde 75 van het steunorgaan 35 aangebrachte koppelvoeten 77 van het steunorgaan 35. In het navolgende worden de koppelorganen 73 van de drager 67 en de koppelvoeten 77 van het steunorgaan 35 nader beschreven. De drager 67 is door middel van drie plaatvormige ophangelementen 79, 81 en 83 opgehangen aan een in figuur 1 aangegeven onderzijde 85 van het montage-orgaan 5. In figuur 1 zijn slechts de ophangelementen 79 en 81 gedeeltelijk zichtbaar, terwijl in de figuren 3a tot en met 3d de ophangelementen 79, 81 en 83 in doorsnede zijn getoond. De ophangelementen 79, 81 en 83 zijn elk gevormd door een zich in een vertikaal vlak evenwijdig aan de optische hoofdas 3 uitstrekkende plaat, waarbij de genoemde vertikale vlakken onderling hoeken van nagenoeg 60° insluiten. Door toepassing van de ophangelementen 79, 81 en 83 wordt een ophangconstructie van de drager 67 aan het montage-orgaan 5 verschaft, waarbij de door het steunorgaan 35 en de positioneerinrichting 37 gevormde eenheid 65 tussen de gestelvoeten 25 is opgesteld. Op deze wijze wordt zowel in de z-richting gezien als dwars op de z-richting gezien een compacte constructie van de optisch lithografische inrichting verkregen. Verder bezit de genoemde ophangconstructie door toepassing van de ophangelementen 79, 81 en 83 een hoge stijfheid in de richting van de optische hoofdas 3 en in een richting loodrecht op de optische hoofdas 3. Bovendien wordt door toepassing van de ophangconstructie bereikt, dat het massazwaartepunt van de verplaatsbare delen van de positioneerinrichting 37 nabij een zich dwars op de z-richting uitstrekkend middenvlak van de gestelvoeten 25 is gelegen. In het genoemde middenvlak bevinden zich de in het voorgaande reeds genoemde veerorganen en dempingsorganen van de gestelvoeten 25. Ongewenste bewegingen van het gestel 7 op de gestelvoeten 25, die veroorzaakt worden door door de bewegende delen van de positioneerinrichting 37 via het steunorgaan 35 op het gestel 7 uitgeoefende reactiekrachten, worden daardoor beperkt.

Door de compacte constructie van de optisch lithografische inrichting in de z-richting wordt bereikt, dat een toelaatbare bouwhoogte van de inrichting niet wordt overschreden. De toelaatbare bouwhoogte wordt bepaald door een beschikbare hoogte in een bedrijfsruimte van de inrichting, zoals bijvoorbeeld een geconditioneerde produktieruimte voor geïntegreerde schakelingen. Mede door de compacte constructie van de inrichting is de positioneerinrichting 37 met de obj eettafel 21 in de in figuur 3a getoonde bedrijfsstand echter wat moeilijker toegankelijk voor een bediener van de inrichting voor bijvoorbeeld onderhoud of reparaties. Om de positioneerinrichting 37 toegankelijk te maken voor onderhoud is de inrichting voorzien van een in de figuren 3a tot en met 3d slechts schematisch weergegeven pneumatisch draaimechanisme 87, dat aan de drager 67 is bevestigd, en een uitzwaaimechanisme 89, dat aan het basisdeel 27 van het gestel 7 is bevestigd. Met behulp van het pneumatische draaimechanisme 87 is de eenheid 65 ten opzichte van de drager 67 draaibaar om een evenwijdig aan de optische hoofdas 3 gerichte rotatiepen 91 van de drager 67 vanuit de in figuur 3a weergegeven bedrijfsstand naar een in figuur 3b weergegeven eerste tussenstand. In de eerste tussenstand is de positioneerinrichting 37 toegankelijk voor bijvoorbeeld eenvoudige reinigingswerkzaamheden. Het uitzwaaimechanisme 89 is voorzien van een eerste draaiarm 93, die ten opzichte van het gestel 7 draaibaar is om een evenwijdig aan de optische hoofdas 3 gerichte eerste schamierpen 95 van het basisdeel 27, en van een tweede draaiarm 97, die ten opzichte van de eerste draaiarm 93 draaibaar is om een evenwijdig aan de optische hoofdas 3 gerichte tweede schamierpen 99 van de eerste draaiarm 93. Met behulp van het uitzwaaimechanisme 89 is de eenheid 65 vanuit de in figuur 3b weergegeven eerste tussenstand draaibaar naar een in figuur 3c weergegeven tweede tussenstand door een rotatie van de tweede draaiarm 97 ten opzichte van de eerste draaiarm 93. Vanuit de tweede tussenstand is de eenheid 65 draaibaar naar een in figuur 3d weergegeven eindstand door een rotatie van de eerste draaiarm 93 ten opzichte van het gestel 7. In de in figuur 3d getoonde eindstand bevindt de eenheid 65 zich geheel buiten het gestel 7 en is de positioneerinrichting eenvoudig toegankelijk voor onderhoud of reparatie. In het navolgende worden het pneumatische draaimechanisme 87 en het uitzwaaimechanisme 89 in detail beschreven.

Zoals in het voorgaande is beschreven is het steunorgaan 35 in de in figuur 3a weergegeven bedrijfsstand met behulp van de pneumatische koppelorganen 73 en de koppelvoeten 77 aan de drager 67 gekoppeld. Zoals is weergegeven in de figuren 3d en 4a is elke koppelvoet 77 voorzien van een C-vormige Idemplaat 101 met benen 103 die aan een schijfvormig deel 105 van de betreffende koppelvoet 77 is geschroefd. De koppelvoet 77 is verder voorzien van een cirkelcilindrisch deel 107 dat in een in de onderzijde 75 van het steunorgaan 35 aangebracht boorgat 109 is gelijmd. In het cirkelcilindrische deel 107 van de koppelvoet 77 zijn een eerste boorgat 111 en een ten opzichte van het eerste boorgat 111 in diameter gereduceerd tweede boorgat 113 aangebracht. In het tweede boorgat 113 is een cirkelcilindrisch uiteinde 115 gelijmd van een steunpen 117 die zich met speling in het eerste boorgat 111 bevindt. De steunpen 117 is verder voorzien van twee veijongingen, die elk een zogenaamd elastisch scharnier 119 vormen, en van een steunvlak 121. Tenslotte is de koppelvoet 77 voorzien van een schijfvormige rubberplaat 123, die tussen het schijfvormige deel 105 en het cirkelcilindrische deel 107 is gelijmd.

Zoals is weergegeven in de figuren 3d en 4b is elk pneumatisch koppelorgaan 73 voorzien van twee hefbomen 125 die bevestigd zijn aan een rotatiepen 127, waarbij de rotatiepen 127 draaibaar is gelagerd in een aan de drager 67 bevestigd blok 129. Elke hefboom 125 is nabij een eerste uiteinde 131 voorzien van een klemelement 133 en is nabij een tweede uiteinde 135 bevestigd aan een zuiger 137 met afdichtring 139, die verplaatsbaar is in een cilinder 141. Verder zijn in de bovenzijde 71 van de drager 67 twee boorgaten 143 aangebracht. In elk boorgat 143 is een onder voorspanning staande mechanische schroefveer 145 aangebracht die aanligt tegen een veerhouder 147 van een van de hefbomen 125. Het blok 129 in verder voorzien van drie contactvlakken 149 (zie figuur 3d).

In de in figuur 3a weergegeven bedrijfsstand rust het steunvlak 121 van elke koppelvoet 77 op de drie contactvlakken 149 van een van de koppelorganen 73. Daarbij bevinden de beide benen 103 van de C-vormige klemplaat 101 zich onder de beide klemelementen 133 van het koppelorgaan 73. De klemelementen 133 worden onder veerkracht van de mechanische schroefveren 145 tegen de benen 103 van de klemplaat 101 gedrukt, zodat het steunvlak 121 van de steunpen 117 stevig tegen de drie contactvlakken 149 van het blok 127 wordt gedrukt.

Door toepassing van de steunpennen 117 wordt een in de z-richting gezien stijve koppeling van de eenheid 65 aan de drager 67 verschaft. In een richting dwars op de z-richting zijn de steunpennen 117 door toepassing van de elastische scharnieren 119 elastisch vervormbaar, zodat thermische uitzettingsverschillen tussen het steunorgaan 35 en de drager 67 worden opgevangen door elastische vervorming van de steunpennen 117. Door toepassing van de schijfvormige rubberplaten 123 wordt voorkomen dat hoogfrequente trillingen, zoals bijvoorbeeld eigentrillingen van het gestel 7, via de koppelorganen 73 en de koppelvoeten 77 worden doorgeleid naar het steunorgaan 35. Door de rubberplaten 123 in combinatie met de reeds in het voorgaande genoemde rubberplaten 63 toe te passen en door een optimalisatie van de massa van het steunorgaan 35 ten opzichte van de massa van de positioneerinrichting 37 en de massa van het gestel 7, is de positioneerinrichting 37 mechanisch optimaal afgeschermd tegen de genoemde eigentrillingen van het gestel 7.

Zoals in het voorgaande is opgemerkt is de eenheid 65 door middel van het pneumatische draaimechanisme 87 draaibaar vanuit de in figuur 3a weergegeven bedrijfsstand naar de in figuur 3b weergegeven eerste tussenstand. Het in de figuren 5a tot en met 5c weergegeven draaimechanisme 87 is voorzien van een draaiboom 151 die draaibaar is om een evenwijdig aan de optische hoofdas 3 gerichte draaias 153. De draaias 153 is verbonden met een blok 155 dat bevestigd is op de drager 67 en dat voorzien is van een zich dwars op de draaias 153 uitstrekkende uitsparing 157. Nabij een onderzijde 159 is de draaiboom 151 overlangs voorzien van een sleuf 161. Verder is het draaimechanisme 87 voorzien van een pneumatische aandrijfmotor 163 die aan een onderzijde 165 van de drager 67 is bevestigd. Een uitgaande as 167 van de aandrijfmotor 163, die evenwijdig aan de draaias 153 is gericht, is nabij een uiteinde voorzien van een dwarsarm 169. Op de dwarsarm 169 is excentrisch ten opzichte van de uitgaande as 167 een rolorgaan 171 aangebracht, waarbij het rolorgaan 171 zich nagenoeg zonder speling bevindt tussen zijwanden 173 en 175 van de genoemde sleuf 161. Door de dwarsarm 169 te verdraaien met behulp van de pneumatische aandrijfmotor 163 wordt de draaiboom 151 gedraaid om de draaias 153.

Zoals in figuur 5b is weergegeven is in het blok 155 en in de drager 67 een boorgat 177 aangebracht, dat co-axiaal is gelegen ten opzichte van de genoemde draaias 153. In het boorgat 177 is de in het voorgaande genoemde rotatiepen 91 aangebracht, die in het boorgat 177 schuifbaar is met behulp van een eerste pneumatische korteslagcilinder 179. Zoals is weergegeven in de figuren 5a en 5c is aan de draaiboom 151 een koppelmechanisme 181 bevestigd met een blok 183, dat voorzien is van een zich dwars op de draaias 153 uitstrekkende uitsparing 185 en van een boorgat 187. In het boorgat 187 is een blokkeerpen 189 schuifbaar met behulp van een tweede pneumatische korteslagcilinder 191. Een in de figuren 3a tot en met 3d weergegeven koppelplaat 193, die aan de onderzijde 75 van het steunorgaan 35 is bevestigd en die voorzien is van een eerste boorgat 195 en een tweede boorgat 197, bevindt zich in de in figuur 3a getoonde bedrijfsstand in de genoemde uitsparingen 157 en 185. Daarbij is het eerste boorgat 195, dat een diameter bezit die gelijk is aan de diameter van het boorgat 177, co-axiaal gelegen ten opzichte van het boorgat 177 en is het tweede boorgat 197, dat een diameter bezit die gelijk is aan de diameter van het boorgat 187, co-axiaal gelegen ten opzichte van het boorgat 187 (zie figuren 5b en 5c).

Om de eenheid 65 vanuit de bedrijfsstand naar de eerste tussenstand te draaien worden de rotatiepen 91 en de blokkeerpen 189 door middel van respectievelijk de eerste korteslagcilinder 179 en de tweede korteslagcilinder 191 in respectievelijk het eerste boorgat 195 en het tweede boorgat 197 geschoven, waardoor de eenheid 65 via de koppelplaat 193 wordt gekoppeld aan de draaiboom 151. Vervolgens wordt de eenheid 65 ontkoppeld van de drager 67 door toevoer van perslucht in de cilinders 141 van de koppelorganen 73. Daarbij worden gelijktijdig drie aan de onderzijde 75 van het steunorgaan 35 bevestigde statische gaslagers 199 in bedrijf gesteld, waarna de eenheid 65 met behulp van het draaimechanisme 87 wordt gedraaid om de rotatiepen 91. Daarbij is de eenheid 65 door toepassing van de statische gaslagers 199 nagenoeg wrijvingsloos geleid over de bovenzijde 71 van de drager 67.

Zoals op schematische wijze is weergegeven in de figuren 3a tot en met 3d is op de bovenzijde 71 van de drager 67 een koppelmechanisme 201 bevestigd. Het koppelmechanisme 201 is van eenzelfde soort als het koppelmechanisme 181 van de draaiboom 151 en is in de figuren 3a tot en met 3d niet nader gedetailleerd weergegeven. Verder is aan de onderzijde 75 van het steunorgaan 35 een verdere koppelplaat 203 met een boorgat 205 bevestigd. Nadat de eenheid 65 vanuit de eerste tussenstand in de bedrijfsstand is teruggedraaid, wordt de eenheid 65 met behulp van het koppelmechanisme 201 in een nauwkeurige stand ten opzichte van de drager 67 gebracht door een in de figuren niet getoonde blokkeerpen van het koppelmechanisme 201 in het boorgat 205 van de koppelplaat 203 te schuiven. Daarna worden de statische gaslagers 199 buiten bedrijf gesteld en wordt de eenheid 65 aan de drager 67 gekoppeld met behulp van de koppelorganen 73 door afvoer van de perslucht uit de cilinders 141. Tenslotte wordt de koppelplaat 203 ontkoppeld van het koppelmechanisme 201 en worden de rotatiepen 91 en de blokkeerpen 189 met behulp van respectievelijk de eerste korteslagcilinder 179 en de tweede korteslagcilinder 191 weggeschoven uit het eerste boorgat 195 en het tweede boorgat 197 van de koppelplaat 193.

In de in figuur 3b weergegeven eerste tussenstand rust het steunorgaan 35 met de onderzijde 75 op een steunplaat 207 van de tweede draaiarm 97 van het uitzwaaimechanisme 89. De steunplaat 207 strekt zich langs de tweede draaiarm 97 uit en is gelegen in een vlak dwars op de optische hoofdas 3. Verder rust het steunorgaan 35 in de eerste tussenstand op een steunwiel 209, dat draaibaar is bevestigd aan een uiteinde 211 van de eerste draaiarm 93 van het uitzwaaimechanisme 89. Verder zijn ter ondersteuning van het steunorgaan 35 in de eerste tussenstand de statische gaslagers 199 in werking.

Zoals is weergegeven in figuur 8 is in de steunplaat 207 een uitsparing 213 aangebracht. In de eerste tussenstand bevindt zich in de uitsparing 213 een in de figuren 3a tot en met 3d aangegeven vergrendelingspal 215 die aan de onderzijde 75 van het steunorgaan 35 is bevestigd. De tweede draaiarm 97 is voorzien van een vergrendelingsmechanisme 217 met een haak 219, die in de eerste tussenstand met behulp van een luchtcilinder 221 rond de vergrendelingspal 215 getrokken wordt. Op deze wijze wordt de eenheid 65 gekoppeld aan de tweede draaiarm 97 van het uitzwaaimechanisme 89. Door daarna met behulp van de eerste en de tweede korteslagcilinder 179 en 191 de rotatiepen 91 en de blokkeerpen 189 uit respectievelijk het eerste en het tweede boorgat 195 en 197 van de koppelplaat 193 te schuiven wordt de eenheid ontkoppeld van het draaimechanisme 87.

Zoals weergegeven is in de figuren 6, 7 en 8 is de eerste draaiarm 93 voorzien van een eerste schamierhuis 223 met een boorgat 225. Met behulp van het eerste schamierhuis 223 is de eerste draaiarm 93 draaibaar om de in het voorgaande reeds genoemde eerste schamierpen 95 die bevestigd is aan het basisdeel 27. De tweede draaiarm 97 is voorzien van een tweede schamierhuis 227 met een boorgat 229. Met behulp van het tweede schamierhuis 227 is de tweede draaiarm 97 draaibaar om de tweede schamierpen 99 die bevestigd is aan twee horizontale platen 230 van het eerste schamierhuis 223. De eerste draaiarm 93 is verder voorzien van een schuifarm 231 met sleuven 233. De schuifarm 231 is schuifbaar langs bouten 235, die door de sleuven 233 heen in de eerste draaiarm 93 zijn geschroefd. Nabij een eerste uiteinde 237 is de schuifarm 231 voorzien van een koppelpen 239. De koppelpen 239 is in ingrijping met een uitsparing 241 van een koppelplaat 243 die bevestigd is aan het tweede schamierhuis 227. Door toepassing van de koppelpen 239 en de koppelplaat 243 wordt de schuifarm 231 langs de bouten 235 geschoven indien de tweede draaiarm wordt gedraaid om de tweede schamierpen 99.

Zoals in detail is weergegeven in de figuren 7 en 9a is de schuifarm 231 nabij een tweede uiteinde 245 voorzien van een eerste uitsparing 247. Verder is aan het uiteinde 211 van de eerste draaiarm 93 een kantelhefboom 249 met handgreep 251 bevestigd. De kantelhefboom 249 is draaibaar om een bout 253, die in het uiteinde 211 van de eerste draaiarm 93 is geschroefd en is voorzien van een vergrendelinspal 255. In de eerste tussenstand van de eenheid 65 bevindt de schuifarm 231 zich in een in figuur 7 weergegeven positie, waarbij de vergrendelingspal 255 van de kantelhefboom 249 met behulp van een mechanische veer 257 in de eerste uitsparing 247 van de schuifarm 231 wordt gehouden. Op deze wijze is de tweede draaiarm 97 geblokkeerd ten opzichte van de eerste draaiarm 93 in de bedrijfsstand, tijdens het draaien van de eenheid 65 vanuit de bedrijfsstand naar de eerste tussenstand en in de eérste tussenstand.

Zoals in detail is weergegeven in de figuren 7 en 9b is het uiteinde 211 van de eerste draaiarm 93 voorzien van een vergrendelingsbout 259 die draaibaar is in een in het uiteinde 211 aangebracht boorgat 261. Zoals in figuur 9b wordt getoond is de vergrendelingsbout 259 voorzien van een C-vormig uiteinde 263 met een cirkelvormige buitenwand 265, die langs een cirkelvormige binnenwand 267 van het boorgat 261 is geleid, en met een cirkelvormige binnenwand 269, die excentrisch is aangebracht ten opzichte van de buitenwand 265. In de eerste tussenstand van de eenheid 65 is het C-vormig uiteinde 263 van de vergrendelingsbout 259 in ingrijping met een blokkeerpal 271, die bevestigd is aan het basisdeel 27 van het gestel 7 en die in figuur 9b schematisch wordt getoond. Daarbij wordt een verdraaiing van de vergrendelingsbout 259 voorkomen door een vaste blokkeerpen 273, die aan het uiteinde 211 van de eerste draaiarm 93 is bevestigd, en door een blokkeerblok 275, dat aan het tweede uiteinde 245 van de schuifarm 231 is bevestigd en dat zich in de eerste tussenstand van de eenheid 65 in een in figuur 7 getoonde positie bevindt. Op deze wijze is de eerste draaiarm 93 in de bedrijfsstand, tijdens het draaien van de eenheid 65 vanuit de bedrijfsstand naar de eerste tussenstand en in de eerste tussenstand geblokkeerd ten opzichte van het gestel 7.

Om de eenheid 65 vanuit de eerste tussenstand naar de tweede tussenstand te draaien wordt de kantelhefboom 249 tegen veerkracht van de mechanische veer 257 in met de hand gedraaid om de bout 253, zodat de vergrendelingspal 255 van de kantelhefboom 249 vrijkomt uit de eerste uitsparing 247 van de schuifarm 231 en zodat de tweede draaiarm 97 wordt gedeblokkeerd ten opzichte van de eerste draaiarm. Vervolgens wordt de tweede draaiarm 97 met de hand gedraaid om de tweede schamierpen 99, waarbij de onderzijde 75 van het steunorgaan 35 over het steunwiel 209 wordt geleid. Tijdens het draaien van de eenheid 65 vanuit de eerste tussenstand naar de tweede tussenstand blijven de statische gaslagers 199 in werking, zodat een stabiele ondersteuning van de eenheid 65 verschaft wordt. Bij het bereiken van de tweede tussenstand is de schuifarm 231 zover verschoven dat de vergrendelingspal 255 van de kantelhefboom 249 onder invloed van de mechanische veer 257 in een tweede uitsparing 277 van de schuifarm 231 wordt getrokken. Aldus wordt de tweede draaiarm 97 in de tweede tussenstand geblokkeerd ten opzichte van de eerste draaiarm 93. In de tweede tussenstand worden de statische gaslagers 199 buiten bedrijf gesteld aangezien de eenheid 65 in deze tussenstand op een stabiele wijze wordt ondersteund door de steunplaat 207 van de tweede draaiarm 97 en door het steunwiel 209 van de eerste draaiarm 93. Bij het buiten bedrijf stellen van de statische gaslagers 199 wordt automatisch een in de figuren 7 en 9c weergegeven beveiligingspal 279 door middel van een aan het uiteinde 211 van de eerste draaiarm 93 bevestigde verdere pneumatische korteslagcilinder 281 in een uitsparing 283 van de kantelhefboom 249 geschoven. Door toepassing van de beveiligingspal 279 wordt voorkomen dat de vergrendelingspal 255 van de kantelhefboom 249 uit de tweede uitsparing 279 wordt gehaald en eenheid 65 in de eerste tussenstand wordt teruggedraaid indien de statische gaslagers 199 buiten bedrijf zijn.

In de in figuur 3c getoonde tweede tussenstand van de eenheid 65 is de schuifarm 231 zover verschoven, dat het in de figuren 7 en 9b getoonde blokkeerblok 275 van de schuifarm 231 het C-vormige uiteinde 263 van de vergrendelingsbout 259 juist vrijlaat en de vergrendelingsbout 259 draaibaar is. Door de vergrendelingsbout 259 te draaien over een hoek van nagenoeg 180° komt de aan het basisdeel 27 bevestigde blokkeerpal 271 vrij en wordt de eerste draaiarm 93 gedeblokkeerd ten opzichte van het gestel 7. De eerste draaiarm 93 is nu met de hand draaibaar om de eerste schamierpen 95 vanuit de tweede tussenstand naar de in figuur 3d getoonde eindstand.

Zoals is weergegeven in de figuren 7 en 9c is nabij het uiteinde 211 van de eerste draaiarm 93 een beveiligingshefboom 285 aangebracht, die draaibaar is om een rotatiepen 287 en die voorzien is van een aanslag 289. In een uitsparing 291 van de beveiligingshefboom 285 en een uitsparing 293 van het uiteinde 211 van de eerste draaiarm 93 is onder voorspanning een verdere mechanische veer 295 aangebracht. Indien de eerste draaiarm 93 in de tweede tussenstand van de eenheid 65 is geblokkeerd ten opzichte van het basisdeel 27, wordt de beveiligingshefboom 285 tegen veerkracht van de mechanische veer 295 in in een in figuur 9c weergegeven positie gehouden doordat de aanslag 289 van de beveiligingshefboom 285 tegen het basisdeel 27 rust. In deze positie van de beveiligingshefboom 285 is de kantelhefboom 249 draaibaar. Indien de eerste draaiarm vanaf het basisdeel 27 is weggedraaid, wordt de beveiligingshefboom 285 onder invloed van de mechanische veer 295 tot tegen het schachtdeel 297 van de vergrendelingsbout 259 gedraaid, dat ten opzichte van het boorgat 261 een gereduceerde diameter bezit. In deze positie van de beveiligingshefboom 285 stuit de kantelhefboom 249 bij een verdraaiing op de beveiligingshefboom 285, zodat de tweede draaiarm 97 niet kan worden gedeblokkeerd ten opzichte van de eerste hefboom.

Opgemerkt wordt dat in plaats van de plaatvormige drager 67 ook andere dragers toepasbaar zijn, zoals bijvoorbeeld een raamvormige drager. In plaats van de drager 67 kan ook een constructie toegepast worden, waarbij het steunorgaan 35 voorzien is van een aantal bevestigingsorganen waarmee het steunorgaan 35 bevestigd is aan de ophangelementen 79, 81 en 83. Door toepassing van een plaatvormige drager 67 worden echter een aantal constructieve voordelen verkregen, zoals bijvoorbeeld de toepassing van het draaimechanisme 87 met de statische gaslagers 199.

Verder wordt opgemerkt, dat in plaats van de plaatvormige ophangelementen 79, 81 en 83 ook andere ophangelementen, zoals bijvoorbeeld staafvormige ophangelementen, of een ander aantal ophangelementen toepasbaar zijn. Door toepassing van de drie plaatvormige ophangelementen 79, 81 en 83 wordt echter, zoals reeds werd beschreven, een bijzonder stijve en compacte ophanging van de drager 67 aan de onderzijde 85 van het montage-orgaan 5 verschaft. Opgemerkt wordt verder, dat de drager 67 ook aan een bovenzijde van het montage-orgaan 5 kan worden opgehangen, bijvoorbeeld door middel van een beugelconstructie. Essentieel is echter in dit opzicht, dat de drager 67 met de eenheid 65 is opgesteld tussen de gestelvoeten 25, zodat een bijzonder compacte constructie van de optisch lithografische inrichting in de z-richting verkregen wordt.

Verder wordt opgemerkt, dat door toepassing van de rubberplaten 63 tussen de positioneerinrichting 37 en het steunorgaan 35 en van de rubberplaten 123 tussen het steunorgaan 35 en de drager 67 op een in constructief opzicht bijzonder eenvoudige wijze wordt bereikt, dat de positioneerinrichting 37 wordt afgeschermd tegen mechanische trillingen van het gestel 7. In plaats van de rubberplaten 63 en de rubberplaten 123 kunnen ook andere veerorganen of combinaties van een veerorgaan en een dempingsorgaan worden toegepast, waardoor een grotere bandbreedte kan worden bereikt. In het algemeen leidt dit echter tot een ingewikkeldere constructie van de genoemde eenheid 65.

Verder wordt opgemerkt, dat in het bijzonder bij een compacte constructie van het gestel 7 met driehoeksgewijs opgestelde gestelvoeten 25 en ophangelementen 79, 81 en 83 een verplaatsing van de eenheid 65 tot buiten het gestel 7 mogelijk wordt gemaakt door toepassing van het draaimechanisme 87 in combinatie met het uitzwaaimechanisme 89, waarbij de eenheid 65 volgens drie opeenvolgende rotatiebewegingen vanuit de bedrijfsstand naar de eindstand draaibaar is. Ook bij andere lithografische inrichtingen, waarbij het gestel een minder compacte constructie of meer dan drie gestelvoeten 25 bezit of waarbij het steunorgaan een basisdeel vormt van het gestel, kan een verplaatsingsmechanisme worden toegepast door middel waarvan alleen de positioneerinrichting of een door de positioneerinrichting en het steunorgaan gevormde eenheid ten opzichte van het gestel verplaatsbaar is. In plaats van een of meer rotatiebewegingen kan daarbij ook een translatiebeweging van de positioneerinrichting of van de eenheid toegepast worden. Bij toepassing van een translatiebeweging kan het verplaatsingsmechanisme bijvoorbeeld voorzien zijn van een of meer rechte geleiderails, waarbij het steunorgaan voorzien is van rolorganen.

Opgemerkt wordt verder, dat in plaats van het draaimechanisme 87 ook een op zichzelf eenvoudiger draaimechanisme kan worden toegepast, waarbij de eenheid 65 handmatig vanuit de bedrijfsstand draaibaar is naar de eerste tussenstand. Door toepassing van het draaimechanisme 87, waarbij de eenheid 65 door middel van een aandrijfmotor 163 wordt gedraaid, en het koppelmechanisme 201 is echter een nauwkeurigere plaatsing van de eenheid 65 in de bedrijfsstand mogelijk.

Tenslotte wordt opgemerkt, dat de in het voorgaande beschreven optisch lithografische inrichting bij uitstek geschikt is voor het belichten van halfgeleidersubstraten bij de produktie van geïntegreerde elektronische schakelingen.

Een dergelijke lithografische inrichting is echter ook toepasbaar bij de fabrikage van andere produkten die voorzien zijn van strukturen met detailafmetingen in de orde van mikrometers, waarbij met behulp van de inrichting maskerpatronen moeten worden afgebeeld op een substraat. Te denken valt daarbij aan strukturen van geïntegreerde optische systemen of aan geleidings- en detektiepatronen van magnetische-domeinen geheugens en aan strukturen van vloeibaar kristal beeldweergeefpatronen.

Claims (9)

1. Lithografische inrichting met een lithografisch bestralingssysteem dat een vertikale, evenwijdig aan een z-richting gerichte hoofdas bezit en nabij een onderzijde is bevestigd aan een tot een gestel van de inrichting behorend montage-orgaan, alsmede met een onder het bestralingssysteem opgestelde positioneerinrichting door middel waarvan een objecttafel ten opzichte van het bestralingssysteem verplaatsbaar is over een zich loodrecht op de z-richting uitstrekkend geleidevlak van een met de positioneerinrichting gekoppeld steunorgaan, met het kenmerk, dat de positioneerinrichting en het steunorgaan als eenheid zijn opgesteld op een drager die is opgehangen aan het montage-orgaan.

2. Lithografische inrichting volgens conclusie 1, met het kenmerk, dat het steunorgaan met behulp van een eerste elastisch koppelorgaan en een eerste dempingsorgaan is bevestigd aan de drager, terwijl de positioneerinrichting met behulp van een tweede elastisch koppelorgaan en een tweede dempingsorgaan is bevestigd aan het steunorgaan.

3. Lithografische inrichting volgens conclusie 1 of 2, met het kenmerk, dat de drager van het steunorgaan en van de positioneerinrichting door middel van plaatvormige ophangelementen is opgehangen aan het montage-orgaan, waarbij elk van de ophangelementen zich uitstrekt in een vertikaal vlak dat evenwijdig is gericht aan de hoofdas.

4. Lithografische inrichting volgens conclusie 3, met het kenmerk, dat de drager door middel van drie plaatvormige ophangelementen is opgehangen aan het montage-orgaan, waarbij het montage-orgaan met behulp van drie gestelvoeten is bevestigd op een basis van het gestel, terwijl de ophangelementen driehoeksgewijs zijn opgesteld en de genoemde vertikale vlakken onderling hoeken van nagenoeg 60° insluiten, waarbij elk van de gestelvoeten in een radiale richting ten opzichte van de hoofdas gezien nabij een buitenzijde van een van de ophangelementen is opgesteld.

5. Lithografische inrichting volgens een der voorgaande conclusies, met het kenmerk, dat de door het steunorgaan en de positioneerinrichting gevormde eenheid ten opzichte van de drager en het montage-orgaan verplaatsbaar is in een richting dwars op de hoofdas.

6. Lithografische inrichting volgens een der voorgaande conclusies, met het kenmerk, dat de door het steunorgaan en de positioneerinrichting gevormde eenheid ten opzichte van de drager en het montage-orgaan draaibaar is om een nagenoeg evenwijdig aan de hoofdas gerichte rotatie-as.

7. Lithografische inrichting volgens conclusie 6, met het kenmerk, dat de eenheid achtereenvolgens vanuit een bedrijfsstand, waarin het steunorgaan gekoppeld is aan de drager, volgens een eerste rotatiebeweging draaibaar is naar een eerste tussenstand, vanuit de eerste tussenstand volgens een tweede rotatiebeweging draaibaar is naar een tweede tussenstand en vanuit de tweede tussenstand volgens een derde rotatiebeweging draaibaar is naar een eindstand, waarin de eenheid zich geheel buiten het gestel bevindt.

8. Lithografische inrichting volgens conclusie 7, met het kenmerk, dat het steunorgaan tijdens de eerste rotatiebeweging van de eenheid is gekoppeld aan een met het gestel verbonden rotatie-as en met behulp van een statisch fluïdumlager is geleid over een bovenvlak van de drager.

9. Lithografische inrichting volgens conclusie 7 of 8, met het kenmerk, dat het steunorgaan in de eerste tussenstand van de eenheid koppelbaar is aan een tweede draaiarm die draaibaar is ondersteund op een draaibaar aan het gestel bevestigde eerste draaiarm, waarbij tijdens de eerste rotatiebeweging van de eenheid de tweede draaiarm is geblokkeerd ten opzichte van de eerste draaiarm en de eerste draaiarm is geblokkeerd ten opzichte van het gestel, dat de tweede rotatiebeweging van de eenheid is gevormd door een draaibeweging van de tweede draaiarm ten opzichte van de eerste draaiarm, waarbij het steunorgaan aan de tweede draaiarm is gekoppeld en de eerste draaiarm is geblokkeerd ten opzichte van het gestel, dat de tweede draaiarm in de tweede tussenstand van de eenheid blokkeerbaar is ten opzichte van de eerste draaiarm en dat de derde rotatiebeweging van de eenheid is gevormd door een draaibeweging van de eerste draaiarm ten opzichte van het gestel, waarbij het steunorgaan aan de tweede draaiarm is gekoppeld en de tweede draaiarm ten opzichte van de eerste draaiarm is geblokkeerd.