JPH04319956A - リソグラフ装置 - Google Patents
リソグラフ装置Info
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- JPH04319956A JPH04319956A JP4020147A JP2014792A JPH04319956A JP H04319956 A JPH04319956 A JP H04319956A JP 4020147 A JP4020147 A JP 4020147A JP 2014792 A JP2014792 A JP 2014792A JP H04319956 A JPH04319956 A JP H04319956A
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/20—Exposure; Apparatus therefor
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F16—ENGINEERING ELEMENTS AND UNITS; GENERAL MEASURES FOR PRODUCING AND MAINTAINING EFFECTIVE FUNCTIONING OF MACHINES OR INSTALLATIONS; THERMAL INSULATION IN GENERAL
- F16F—SPRINGS; SHOCK-ABSORBERS; MEANS FOR DAMPING VIBRATION
- F16F15/00—Suppression of vibrations in systems; Means or arrangements for avoiding or reducing out-of-balance forces, e.g. due to motion
- F16F15/02—Suppression of vibrations of non-rotating, e.g. reciprocating systems; Suppression of vibrations of rotating systems by use of members not moving with the rotating systems
- F16F15/04—Suppression of vibrations of non-rotating, e.g. reciprocating systems; Suppression of vibrations of rotating systems by use of members not moving with the rotating systems using elastic means
-
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- F16F15/02—Suppression of vibrations of non-rotating, e.g. reciprocating systems; Suppression of vibrations of rotating systems by use of members not moving with the rotating systems
- F16F15/022—Suppression of vibrations of non-rotating, e.g. reciprocating systems; Suppression of vibrations of rotating systems by use of members not moving with the rotating systems using dampers and springs in combination
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
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- F16F—SPRINGS; SHOCK-ABSORBERS; MEANS FOR DAMPING VIBRATION
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- F16F15/02—Suppression of vibrations of non-rotating, e.g. reciprocating systems; Suppression of vibrations of rotating systems by use of members not moving with the rotating systems
- F16F15/023—Suppression of vibrations of non-rotating, e.g. reciprocating systems; Suppression of vibrations of rotating systems by use of members not moving with the rotating systems using fluid means
- F16F15/0232—Suppression of vibrations of non-rotating, e.g. reciprocating systems; Suppression of vibrations of rotating systems by use of members not moving with the rotating systems using fluid means with at least one gas spring
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70691—Handling of masks or workpieces
- G03F7/70716—Stages
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、Ｚ方向に平行な垂直の
主光軸を有し、下側の近傍で装置のフレームに属する取
付部材に取付けたリソグラフ放射線発生装置と、前記放
射線発生装置の下方に配置した位置決め装置とを具え、
この位置決め装置に連結した支持部材のＺ方向に直交す
る案内表面にわたり前記放射線発生装置に対してオブジ
ェクトテーブルを移動自在にしたリソグラフ装置に関す
るものである。
主光軸を有し、下側の近傍で装置のフレームに属する取
付部材に取付けたリソグラフ放射線発生装置と、前記放
射線発生装置の下方に配置した位置決め装置とを具え、
この位置決め装置に連結した支持部材のＺ方向に直交す
る案内表面にわたり前記放射線発生装置に対してオブジ
ェクトテーブルを移動自在にしたリソグラフ装置に関す
るものである。
【０００２】
【従来の技術】上述の種類のリソグラフ装置は、オブジ
ェクトテーブルに配置したサブストレートにリソグラフ
処理を施す、例えば、放射線発生装置にレンズ系および
光源（例えばＵＶ光源）を設けた光学リソグラフ処理、
または放射線発生装置にＸ線源を設けたＸ線リソグラフ
処理、または放射線発生装置にエレクトロン管を設けた
電子リソグラフ処理を施すのに使用する。米国特許第４
７３７８２３ 号には、放射線発生装置にレンズ系を設
け、このレンズ系を下側の近傍で取付部材に取付けた光
学リソグラフ装置が記載されている。この既知のリソグ
ラフ装置においては、支持部材を矩形の花崗石スラブに
より形成し、このスラブが装置フレームの一部を構成し
ている。 Ｚ方向に平行なフレームの４個の支柱を支持部材の上面
で形成される案内面に取付け、主軸に交差する方向に延
びるプレートとして構成した取付部材をレンズ系ととも
に支持部材の上方に僅かに離れた位置に固定する。支持
部材の下側には下方フレーム支持体を設け、各下方フレ
ーム支持体にはばね部材と減衰部材とを設ける。
ェクトテーブルに配置したサブストレートにリソグラフ
処理を施す、例えば、放射線発生装置にレンズ系および
光源（例えばＵＶ光源）を設けた光学リソグラフ処理、
または放射線発生装置にＸ線源を設けたＸ線リソグラフ
処理、または放射線発生装置にエレクトロン管を設けた
電子リソグラフ処理を施すのに使用する。米国特許第４
７３７８２３ 号には、放射線発生装置にレンズ系を設
け、このレンズ系を下側の近傍で取付部材に取付けた光
学リソグラフ装置が記載されている。この既知のリソグ
ラフ装置においては、支持部材を矩形の花崗石スラブに
より形成し、このスラブが装置フレームの一部を構成し
ている。 Ｚ方向に平行なフレームの４個の支柱を支持部材の上面
で形成される案内面に取付け、主軸に交差する方向に延
びるプレートとして構成した取付部材をレンズ系ととも
に支持部材の上方に僅かに離れた位置に固定する。支持
部材の下側には下方フレーム支持体を設け、各下方フレ
ーム支持体にはばね部材と減衰部材とを設ける。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかし、上述のフレー
ム構造によれば、Ｚ方向の装置の高さが極めて大きくな
る。既知のリソグラフ装置の構造上の高さは、特に、レ
ンズ系の高さ、位置決め部材および支持部材の高さ、お
よび下方フレーム部材の高さによって決まる。このよう
な構造上の高さは、例えば集積回路のための条件を調整
した製造室における装置に適用するには欠点となる。
ム構造によれば、Ｚ方向の装置の高さが極めて大きくな
る。既知のリソグラフ装置の構造上の高さは、特に、レ
ンズ系の高さ、位置決め部材および支持部材の高さ、お
よび下方フレーム部材の高さによって決まる。このよう
な構造上の高さは、例えば集積回路のための条件を調整
した製造室における装置に適用するには欠点となる。
【０００４】従って、本発明の目的は、構造上の高さが
比較的小さいリソグラフ装置を得るにある。
比較的小さいリソグラフ装置を得るにある。
【０００５】
【課題を解決するための手段】この目的を達成するため
、本発明リソグラフ装置は前記位置決め装置および支持
部材をユニットとして前記取付部材に懸架したキャリヤ
に位置決めしたことを特徴とする。取付部材から懸架し
たキャリヤを使用することにより取付部材を下方フレー
ム支持体に取付け、位置決め装置および支持部材を下方
フレーム支持体間に配置できるフレーム構造となり、Ｚ
方向にコンパクトな構造を得ることができるようになる
。
、本発明リソグラフ装置は前記位置決め装置および支持
部材をユニットとして前記取付部材に懸架したキャリヤ
に位置決めしたことを特徴とする。取付部材から懸架し
たキャリヤを使用することにより取付部材を下方フレー
ム支持体に取付け、位置決め装置および支持部材を下方
フレーム支持体間に配置できるフレーム構造となり、Ｚ
方向にコンパクトな構造を得ることができるようになる
。
【０００６】特開昭６２−２００７２４号には、懸架オ
ブジェクトテーブルを有する光学リソグラフ装置につい
て記載されている。しかしこのオブジェクトテーブルは
レンズ系に対して懸架構造も一緒に移動する。
ブジェクトテーブルを有する光学リソグラフ装置につい
て記載されている。しかしこのオブジェクトテーブルは
レンズ系に対して懸架構造も一緒に移動する。
【０００７】本発明リソグラフ装置の好適な実施例にお
いては、前記支持部材を、第１弾性連結部材および第１
減衰部材により前記キャリヤに連結し、前記位置決め装
置を、第２弾性連結部材および第２減衰部材により前記
支持部材に連結する。この連結部材および減衰部材を使
用し、また位置決め装置の質量およびフレームの質量に
対して支持部材の質量を最適化することによって位置決
め装置を外部振動、例えば装置フレームの機械的共振か
ら最適な機械的遮蔽が得られる。
いては、前記支持部材を、第１弾性連結部材および第１
減衰部材により前記キャリヤに連結し、前記位置決め装
置を、第２弾性連結部材および第２減衰部材により前記
支持部材に連結する。この連結部材および減衰部材を使
用し、また位置決め装置の質量およびフレームの質量に
対して支持部材の質量を最適化することによって位置決
め装置を外部振動、例えば装置フレームの機械的共振か
ら最適な機械的遮蔽が得られる。
【０００８】更に、本発明リソグラフ装置の他の実施例
においては、主軸の方向に見てキャリヤの取付部材から
の懸架を特に堅固かつ軽量に行うため、前記支持部材お
よび前記位置決め装置の前記キャリヤを、前記主軸に平
行な垂直面上に延びているプレート状懸架素子により取
付部材に懸架する。
においては、主軸の方向に見てキャリヤの取付部材から
の懸架を特に堅固かつ軽量に行うため、前記支持部材お
よび前記位置決め装置の前記キャリヤを、前記主軸に平
行な垂直面上に延びているプレート状懸架素子により取
付部材に懸架する。
【０００９】更に、本発明リソグラフ装置の他の好適な
実施例においては、主軸に交差する方向に見てキャリヤ
の取付部材からの懸架を堅固、軽量かつコンパクトにし
、またフレームをコンパクトな構造にするため前記キャ
リヤを、３個のプレート状の懸架素子により前記取付部
材から懸架し、前記取付部材を３個の下方フレーム支持
体によりフレームのベースに固着し、前記懸架素子は、
三角形状に配置し、前記懸架素子の垂直面が互いにほぼ
６０°の角度をなすようにし、前記主軸に対する半径方
向に見て下方フレーム支持体の各々を各個の懸架素子の
外側の近傍に配置する。
実施例においては、主軸に交差する方向に見てキャリヤ
の取付部材からの懸架を堅固、軽量かつコンパクトにし
、またフレームをコンパクトな構造にするため前記キャ
リヤを、３個のプレート状の懸架素子により前記取付部
材から懸架し、前記取付部材を３個の下方フレーム支持
体によりフレームのベースに固着し、前記懸架素子は、
三角形状に配置し、前記懸架素子の垂直面が互いにほぼ
６０°の角度をなすようにし、前記主軸に対する半径方
向に見て下方フレーム支持体の各々を各個の懸架素子の
外側の近傍に配置する。
【００１０】更に本発明リソグラフ装置の他の好適な実
施例においては、前記支持部材および位置決め装置によ
り形成したユニットを、前記キャリヤおよび前記取付部
材に対して前記主軸に交差する方向に移動自在にする。 この構成によれば、ユニットがキャリヤおよび取付部材
に対して移動するため、オブジェクトテーブルを有する
位置決め装置は、リソグラフ装置のオペレータが保守ま
たは修理のためにアクセスしやすくなる。
施例においては、前記支持部材および位置決め装置によ
り形成したユニットを、前記キャリヤおよび前記取付部
材に対して前記主軸に交差する方向に移動自在にする。 この構成によれば、ユニットがキャリヤおよび取付部材
に対して移動するため、オブジェクトテーブルを有する
位置決め装置は、リソグラフ装置のオペレータが保守ま
たは修理のためにアクセスしやすくなる。
【００１１】更に、本発明リソグラフ装置の他の好適な
実施例においては、ユニットを簡単な構造により移動自
在にするため、前記支持部材および位置決め装置により
構成されるユニットを、前記キャリヤおよび取付部材に
対して前記主軸にほぼ平行な方向に回転軸線の周りに回
転自在にする。
実施例においては、ユニットを簡単な構造により移動自
在にするため、前記支持部材および位置決め装置により
構成されるユニットを、前記キャリヤおよび取付部材に
対して前記主軸にほぼ平行な方向に回転軸線の周りに回
転自在にする。
【００１２】更に本発明リソグラフ装置の他の好適な実
施例においては、前記ユニットは、前記支持部材が前記
キャリヤに連結した動作位置から第１中間位置への第１
回転移動による回転と、前記第１中間位置から第２中間
位置への第２回転移動による回転と、前記第２中間位置
から前記ユニット全体が前記フレームの外部に露出する
第３回転移動による回転を行うことができる構成とする
。ユニットは３段階の回転移動によりフレームに対して
回転できるため、特にフレームに三角形配置の下方フレ
ーム支持体および懸架素子を設けた場合にユニットをフ
レームの外側に実際的に有効に引き出すことができる。 これによりユニットの第２中間位置では僅かなクリーニ
ング作業のためにアクセスでき、また端部位置では修理
のためのアクセスが容易になる。
施例においては、前記ユニットは、前記支持部材が前記
キャリヤに連結した動作位置から第１中間位置への第１
回転移動による回転と、前記第１中間位置から第２中間
位置への第２回転移動による回転と、前記第２中間位置
から前記ユニット全体が前記フレームの外部に露出する
第３回転移動による回転を行うことができる構成とする
。ユニットは３段階の回転移動によりフレームに対して
回転できるため、特にフレームに三角形配置の下方フレ
ーム支持体および懸架素子を設けた場合にユニットをフ
レームの外側に実際的に有効に引き出すことができる。 これによりユニットの第２中間位置では僅かなクリーニ
ング作業のためにアクセスでき、また端部位置では修理
のためのアクセスが容易になる。
【００１３】更に、本発明リソグラフ装置の他の好適な
実施例においては、前記ユニットの前記第１回転移動中
、前記支持部材を前記フレームに連結した回転軸に連結
し、また静的流体軸受により前記キャリヤの上面にわた
り案内される構成とする。この構成により、ユニットは
キャリヤに対して摩擦なく回転することができる。
実施例においては、前記ユニットの前記第１回転移動中
、前記支持部材を前記フレームに連結した回転軸に連結
し、また静的流体軸受により前記キャリヤの上面にわた
り案内される構成とする。この構成により、ユニットは
キャリヤに対して摩擦なく回転することができる。
【００１４】更に本発明リソグラフ装置の他の好適な実
施例においては、前記ユニットが第１中間位置にあると
きは、前記支持部材を、前記フレームに回転自在に取付
けた第１回転アームに回転自在に支持した第２回転アー
ムに連結可能にし、前記第１回転移動中前記第２回転ア
ームを前記第１回転アームに対してロックし、前記第１
回転アームを前記フレームに対してロックし、前記ユニ
ットの第２回転移動は前記支持部材を前記第２回転アー
ムに連結しかつ前記第１回転アームを前記フレームに対
してロックする間に前記第１回転アームに対する前記第
２回転アームの回転移動により行い、前記ユニットが前
記第２中間位置にあるときは、前記第２回転アームを前
記第１回転アームに対してロック可能にし、また前記支
持部材を前記第２回転アームに連結しかつこの第２回転
アームを前記第１回転アームにロックする間に前記ユニ
ットの第３回転移動を、前記フレームに対する第１回転
アームの回転移動により行う構成とする。２個の回転ア
ームを使用することは、ユニットを手により迅速かつ簡
単にフレームの外側に回転することができることを意味
する。
施例においては、前記ユニットが第１中間位置にあると
きは、前記支持部材を、前記フレームに回転自在に取付
けた第１回転アームに回転自在に支持した第２回転アー
ムに連結可能にし、前記第１回転移動中前記第２回転ア
ームを前記第１回転アームに対してロックし、前記第１
回転アームを前記フレームに対してロックし、前記ユニ
ットの第２回転移動は前記支持部材を前記第２回転アー
ムに連結しかつ前記第１回転アームを前記フレームに対
してロックする間に前記第１回転アームに対する前記第
２回転アームの回転移動により行い、前記ユニットが前
記第２中間位置にあるときは、前記第２回転アームを前
記第１回転アームに対してロック可能にし、また前記支
持部材を前記第２回転アームに連結しかつこの第２回転
アームを前記第１回転アームにロックする間に前記ユニ
ットの第３回転移動を、前記フレームに対する第１回転
アームの回転移動により行う構成とする。２個の回転ア
ームを使用することは、ユニットを手により迅速かつ簡
単にフレームの外側に回転することができることを意味
する。
【００１５】
【実施例】次に、図面につき本発明の好適な実施例を説
明する。
明する。
【００１６】図１〜図９に示す光学リソグラフ装置には
、放射線発生装置１（図１には単に線図的にしか示さな
い）を設け、この装置１は、垂直Ｚ方向に配置したレン
ズ系２を有する。レンズ系２は、Ｚ方向に平行な方向に
延びる主光軸３を有し、また下方側には取付リング４を
設ける。取付リング４によりレンズ系２を、装置のフレ
ーム７の一部をなす取付部材５に取り付け、またこの取
付部材５は主光軸３に直交する平面上の三角形プレート
として構成する。レンズ系２の上方側の近傍において、
光学リソグラフ装置にマスクマニピュレータ９を設け、
このマニピュレータによりレンズ系２に対してマスク１
１を位置決め及び支持する。操作中、放射線発生装置１
の光源１３から発生する光ビームは、放射線発生装置１
のミラー１５、１７を介して、例えば、集積半導体回路
のパターンを有するマスク１１に案内し、例えば、オブ
ジェクトテーブル２１上に配置した半導体サブストレー
ト１９のようなサブストレートに向けてレンズ系２によ
り集束する。このようにして、マスクのパターンは半導
体サブストレート１９上に縮尺されて結像する。オブジ
ェクトテーブル２１は主光軸３に直交するＸ方向に平行
に、また主光軸３及びＸ方向に直交するＹ方向に平行に
移動することができる。半導体サブストレート１９は、
オブジェクトテーブル２１のＸ方向及びＹ方向に平行に
異なる照射位置への段進移動により同一の集積回路に対
応する多数の位置で照射される。レンズ系２の重心は、
Ｚ方向に交差する取付リング４の中心面の近傍に位置し
、この取付リング４によってフレーム７に対するレンズ
系２の安定支持が得られる。
、放射線発生装置１（図１には単に線図的にしか示さな
い）を設け、この装置１は、垂直Ｚ方向に配置したレン
ズ系２を有する。レンズ系２は、Ｚ方向に平行な方向に
延びる主光軸３を有し、また下方側には取付リング４を
設ける。取付リング４によりレンズ系２を、装置のフレ
ーム７の一部をなす取付部材５に取り付け、またこの取
付部材５は主光軸３に直交する平面上の三角形プレート
として構成する。レンズ系２の上方側の近傍において、
光学リソグラフ装置にマスクマニピュレータ９を設け、
このマニピュレータによりレンズ系２に対してマスク１
１を位置決め及び支持する。操作中、放射線発生装置１
の光源１３から発生する光ビームは、放射線発生装置１
のミラー１５、１７を介して、例えば、集積半導体回路
のパターンを有するマスク１１に案内し、例えば、オブ
ジェクトテーブル２１上に配置した半導体サブストレー
ト１９のようなサブストレートに向けてレンズ系２によ
り集束する。このようにして、マスクのパターンは半導
体サブストレート１９上に縮尺されて結像する。オブジ
ェクトテーブル２１は主光軸３に直交するＸ方向に平行
に、また主光軸３及びＸ方向に直交するＹ方向に平行に
移動することができる。半導体サブストレート１９は、
オブジェクトテーブル２１のＸ方向及びＹ方向に平行に
異なる照射位置への段進移動により同一の集積回路に対
応する多数の位置で照射される。レンズ系２の重心は、
Ｚ方向に交差する取付リング４の中心面の近傍に位置し
、この取付リング４によってフレーム７に対するレンズ
系２の安定支持が得られる。
【００１７】取付部材５には３個のコーナー部分２３を
設け、各コーナー部分を下方フレーム支持体２５に載置
する。２個のコーナー部分２３及び２個の下方フレーム
支持体２５のみが図１に見える。下方フレーム支持体２
５をフレーム７のベース部分２７に配置し、このベース
部分２７を調整部材２９により平坦な基礎上に配置する
。それぞれそれ自体既知であり図１には詳細に示さない
ばね部材及び減衰部材を設けた下方フレーム支持体２５
により、光学リソグラフ装置は、Ｚ方向に平行な方向及
びＺ方向に交差する方向に基礎上で低周波数（３Ｈｚ）
のばね弾性支持を受ける。このようにして、光学リソ
グラフ装置の正確な操作に悪影響を与える基礎の振動は
、下方フレーム支持体２５を介して取付部材５及びレン
ズ系２に伝達される。
設け、各コーナー部分を下方フレーム支持体２５に載置
する。２個のコーナー部分２３及び２個の下方フレーム
支持体２５のみが図１に見える。下方フレーム支持体２
５をフレーム７のベース部分２７に配置し、このベース
部分２７を調整部材２９により平坦な基礎上に配置する
。それぞれそれ自体既知であり図１には詳細に示さない
ばね部材及び減衰部材を設けた下方フレーム支持体２５
により、光学リソグラフ装置は、Ｚ方向に平行な方向及
びＺ方向に交差する方向に基礎上で低周波数（３Ｈｚ）
のばね弾性支持を受ける。このようにして、光学リソ
グラフ装置の正確な操作に悪影響を与える基礎の振動は
、下方フレーム支持体２５を介して取付部材５及びレン
ズ系２に伝達される。
【００１８】図２に詳細に示すように、オブジェクトテ
ーブル２１は、静的ガス軸受を設けたいわゆる空気静力
学的フット３１により、主光軸３に直交する花崗岩スラ
ブの形式の支持部材３５の上面３３にわたり案内する。 オブジェクトテーブル２１は上面３３にわたり、３個の
リニア電動モータ３９、４１、４３を有する位置決め装
置３７により移動することができる。図２に示すように
、リニアモータ３９は、Ｘ方向に平行なＸステータ４５
と、オブジェクトテーブル２１に固着したＸトランスレ
ータ４７とを有し、オブジェクトテーブル２１はＸステ
ータ４５に沿ってＸ方向に平行に移動することができる
。リニアモータ４１、４３も、それぞれＸステータ４５
の第１端部５１に固着したＹトランスレータ５３に掛合
してＹ方向に平行に延びるＹステータ４９と、Ｘステー
タ４５の第２端部５７に固着したＹトランスレータ５９
に掛合してＹ方向に平行に延びるＹステータ５５とを有
する。Ｙステータ４９、５５を、位置決め装置３７のウ
ィンドウフレーム６１に固着し、このウィンドウフレー
ムはコーナーの近傍を支持部材３５の上面３３に固着す
る。図２に示すように、ゴムプレート６３をフレーム６
１と支持部材３５の上面３３との間に設ける。ゴムプレ
ート６３を使用することにより、例えば、フレーム７の
固有振動のような高周波数振動が、支持部材３５及びフ
レーム６１を介してオブジェクトテーブル２１に伝達す
るのを防止する。オブジェクトテーブル２１は、リニア
モータ４１、４３によりＹ方向に平行な方向に移動でき
、また主光軸３に平行な回転軸線の周りに極めて限定さ
れた角度にわたり回転することができる。空気静力学的
フット３１及び互いにＨ形に配置したリニアモータ３９
、４１、４３を有する位置決め装置３７は、それ自体米
国特許第４，７３７，８２３号に記載されている。
ーブル２１は、静的ガス軸受を設けたいわゆる空気静力
学的フット３１により、主光軸３に直交する花崗岩スラ
ブの形式の支持部材３５の上面３３にわたり案内する。 オブジェクトテーブル２１は上面３３にわたり、３個の
リニア電動モータ３９、４１、４３を有する位置決め装
置３７により移動することができる。図２に示すように
、リニアモータ３９は、Ｘ方向に平行なＸステータ４５
と、オブジェクトテーブル２１に固着したＸトランスレ
ータ４７とを有し、オブジェクトテーブル２１はＸステ
ータ４５に沿ってＸ方向に平行に移動することができる
。リニアモータ４１、４３も、それぞれＸステータ４５
の第１端部５１に固着したＹトランスレータ５３に掛合
してＹ方向に平行に延びるＹステータ４９と、Ｘステー
タ４５の第２端部５７に固着したＹトランスレータ５９
に掛合してＹ方向に平行に延びるＹステータ５５とを有
する。Ｙステータ４９、５５を、位置決め装置３７のウ
ィンドウフレーム６１に固着し、このウィンドウフレー
ムはコーナーの近傍を支持部材３５の上面３３に固着す
る。図２に示すように、ゴムプレート６３をフレーム６
１と支持部材３５の上面３３との間に設ける。ゴムプレ
ート６３を使用することにより、例えば、フレーム７の
固有振動のような高周波数振動が、支持部材３５及びフ
レーム６１を介してオブジェクトテーブル２１に伝達す
るのを防止する。オブジェクトテーブル２１は、リニア
モータ４１、４３によりＹ方向に平行な方向に移動でき
、また主光軸３に平行な回転軸線の周りに極めて限定さ
れた角度にわたり回転することができる。空気静力学的
フット３１及び互いにＨ形に配置したリニアモータ３９
、４１、４３を有する位置決め装置３７は、それ自体米
国特許第４，７３７，８２３号に記載されている。
【００１９】図１及び図２に示すように、支持部材３５
及び位置決め装置３７は、フレーム７のキャリヤ６７に
設けたユニット６５を構成する。図３〜図６に示すよう
に、キャリヤ６７は、主光軸３に直交し、２個の下方フ
レーム支持体２５間に延びている大側辺６９を有するほ
ぼ三角形のプレートにより形成される。キャリヤ６７の
上面７１には、３個の空気連結部材７３（図３〜図６に
は線図的にのみ示す）を設け、図３に示すユニット６５
の動作状態においては、これら空気連結部材７３が支持
体部材３５の下面に設けた３個の連結ベース７７に掛合
する。キャリヤ６７の連結部材７３及び支持体部材３５
の連結ベース７７については以下に詳細に説明する。キ
ャリヤ６７は、図１に示すように、３個のプレート状懸
架素子７９、８１及び８３により、取付部材５の下側面
８５から懸架する。図１においては懸架素子７９、８１
のみが部分的に見えており、図３〜図６には懸架素子７
９、８１及び８３の断面が見えている。懸架素子７９、
８１及び８３は、それぞれ主光軸３に平行な垂直平面上
に延びているプレートにより形成し、互いに隣接する関
連の垂直平面はほぼ６０度の角度をなす。懸架素子７９
、８１及び８３の使用により、取付部材５にキャリヤ６
７を懸架する構成を与え、支持部材３５及び位置決め装
置３７により形成されるユニット６５は下方フレーム支
持体２５間に配置される。このようにして、Ｚ方向及び
このＺ方向に交差する方向の双方に見て光学リソグラフ
装置のコンパクトな構造が得られる。更に、この懸架構
成は、懸架素子７９、８１及び８３を使用することによ
り、主光軸３の方向及び主光軸３に直交する方向に高い
剛性を示す。更に、懸架構成を使用することによって、
位置決め装置３７の可動部分の重心を、Ｚ方向に交差す
る下方フレーム支持体２５の中心平面の近傍に配置する
ことができる。上述の下方フレーム支持体２５のばね部
材及び減衰部材はこの中心平面に存在する。 このことにより、位置決め装置３７の可動部分により生
ずる反作用力が支持部材３５を介してフレーム７に対し
て加わり、下方フレーム支持体２５上で生ずるフレーム
７の好ましくない移動を制限することができる。
及び位置決め装置３７は、フレーム７のキャリヤ６７に
設けたユニット６５を構成する。図３〜図６に示すよう
に、キャリヤ６７は、主光軸３に直交し、２個の下方フ
レーム支持体２５間に延びている大側辺６９を有するほ
ぼ三角形のプレートにより形成される。キャリヤ６７の
上面７１には、３個の空気連結部材７３（図３〜図６に
は線図的にのみ示す）を設け、図３に示すユニット６５
の動作状態においては、これら空気連結部材７３が支持
体部材３５の下面に設けた３個の連結ベース７７に掛合
する。キャリヤ６７の連結部材７３及び支持体部材３５
の連結ベース７７については以下に詳細に説明する。キ
ャリヤ６７は、図１に示すように、３個のプレート状懸
架素子７９、８１及び８３により、取付部材５の下側面
８５から懸架する。図１においては懸架素子７９、８１
のみが部分的に見えており、図３〜図６には懸架素子７
９、８１及び８３の断面が見えている。懸架素子７９、
８１及び８３は、それぞれ主光軸３に平行な垂直平面上
に延びているプレートにより形成し、互いに隣接する関
連の垂直平面はほぼ６０度の角度をなす。懸架素子７９
、８１及び８３の使用により、取付部材５にキャリヤ６
７を懸架する構成を与え、支持部材３５及び位置決め装
置３７により形成されるユニット６５は下方フレーム支
持体２５間に配置される。このようにして、Ｚ方向及び
このＺ方向に交差する方向の双方に見て光学リソグラフ
装置のコンパクトな構造が得られる。更に、この懸架構
成は、懸架素子７９、８１及び８３を使用することによ
り、主光軸３の方向及び主光軸３に直交する方向に高い
剛性を示す。更に、懸架構成を使用することによって、
位置決め装置３７の可動部分の重心を、Ｚ方向に交差す
る下方フレーム支持体２５の中心平面の近傍に配置する
ことができる。上述の下方フレーム支持体２５のばね部
材及び減衰部材はこの中心平面に存在する。 このことにより、位置決め装置３７の可動部分により生
ずる反作用力が支持部材３５を介してフレーム７に対し
て加わり、下方フレーム支持体２５上で生ずるフレーム
７の好ましくない移動を制限することができる。
【００２０】Ｚ方向に見て光学リソグラフ装置がコンパ
クトな構造であることにより、装置の構造上の許容高さ
を越えることがなくなる。構造上の許容高さは、装置の
操作室例えば、集積回路のための空調した製造室に利用
できる高さにより決まる。しかし、装置がコンパクトな
構造であることは、図３に示す動作状態においてオブジ
ェクトテーブル２１を有する位置決め装置３７に装置オ
ペレータが、例えば、保守又は修理のためにアクセスし
にくくなるという結果にもなる。保守のため位置決め装
置３７にアクセスしやすくするために、装置には、キャ
リヤ６７に固着した空気回転機構８７（図３〜図６には
線図的にしか示さない）と、フレーム７のベース部分２
７に固着した回動機構８９とを設ける。空気回転機構８
７によりユニット６５はキャリヤ６７に対して、主光軸
３に平行なキャリヤ６７の回転ピン９１の周りに図３に
示す動作位置から図４に示す第１中間位置に回転するこ
とができる。この第１中間位置においては、ミラークリ
ーニング作業のために位置決め装置３７にアクセスする
ことができる。回動機構８９には、フレーム７に対して
、主光軸３に平行に指向するベース部分２７の第１ヒン
ジピン９５の周りに回転することができる第１回転アー
ム９３と、主光軸３に平行に指向する第１回転アーム９
３の第２ヒンジピン９９の周りに第１回転アーム９３に
対して回転することができる第２回転アーム９７とを設
ける。この回動機構８９により、第２回転アーム９７の
第１回転アーム９３に対する回転によって、ユニット６
５は図４に示す第１中間位置から図５に示す第２中間位
置に回転することができる。更に、第１回転アーム９３
のフレーム７に対する回転により、ユニット６５は第２
中間位置から図６に示す端部位置に回転することができ
る。 図６に示す端部位置においては、ユニット６５全体がフ
レーム７の外側に露出し、保守及び修理のために位置決
め装置にアクセスすることができる。空気回転機構８７
及び回動機構８９については以下に詳細に説明する。
クトな構造であることにより、装置の構造上の許容高さ
を越えることがなくなる。構造上の許容高さは、装置の
操作室例えば、集積回路のための空調した製造室に利用
できる高さにより決まる。しかし、装置がコンパクトな
構造であることは、図３に示す動作状態においてオブジ
ェクトテーブル２１を有する位置決め装置３７に装置オ
ペレータが、例えば、保守又は修理のためにアクセスし
にくくなるという結果にもなる。保守のため位置決め装
置３７にアクセスしやすくするために、装置には、キャ
リヤ６７に固着した空気回転機構８７（図３〜図６には
線図的にしか示さない）と、フレーム７のベース部分２
７に固着した回動機構８９とを設ける。空気回転機構８
７によりユニット６５はキャリヤ６７に対して、主光軸
３に平行なキャリヤ６７の回転ピン９１の周りに図３に
示す動作位置から図４に示す第１中間位置に回転するこ
とができる。この第１中間位置においては、ミラークリ
ーニング作業のために位置決め装置３７にアクセスする
ことができる。回動機構８９には、フレーム７に対して
、主光軸３に平行に指向するベース部分２７の第１ヒン
ジピン９５の周りに回転することができる第１回転アー
ム９３と、主光軸３に平行に指向する第１回転アーム９
３の第２ヒンジピン９９の周りに第１回転アーム９３に
対して回転することができる第２回転アーム９７とを設
ける。この回動機構８９により、第２回転アーム９７の
第１回転アーム９３に対する回転によって、ユニット６
５は図４に示す第１中間位置から図５に示す第２中間位
置に回転することができる。更に、第１回転アーム９３
のフレーム７に対する回転により、ユニット６５は第２
中間位置から図６に示す端部位置に回転することができ
る。 図６に示す端部位置においては、ユニット６５全体がフ
レーム７の外側に露出し、保守及び修理のために位置決
め装置にアクセスすることができる。空気回転機構８７
及び回動機構８９については以下に詳細に説明する。
【００２１】上述のように、図３の動作位置では、空気
連結部材７３及び連結ベース７７によって支持部材３５
をキャリヤ６７に連結する。図６及び図７（ａ）に示す
ように、各連結ベース７７には、この連結ベース７７の
ディスク状部分１０５ にねじ連結する脚１０３を有す
るＣ字状クランププレート１０１ を設ける。連結ベー
ス７７には、更に、支持部材３５の下面７５に穿孔した
孔１０９ に接着した円筒形部分１０７ を設ける。穿
孔した第１の孔１１１ 及びこの第１の孔よりも小さい
直径の第２の孔１１３ を連結ベース７７の円筒形部分
１０７ に設ける。第１孔１１１ にクリアランスを有
して配置される支持ピン１１７ の円筒形端部１１５
を第２孔１１３ に接着する。支持ピン１１７ には、
更に、直径が減少して弾性ヒンジ１１９ をなす２個の
部分と、支持面１２１ を設ける。最後に、連結ベース
７７にディスク状ゴムプレート１２３ を設け、このゴ
ムプレート１２３をディスク状部分１０５ と円筒形部
分１０７ との間に設ける。
連結部材７３及び連結ベース７７によって支持部材３５
をキャリヤ６７に連結する。図６及び図７（ａ）に示す
ように、各連結ベース７７には、この連結ベース７７の
ディスク状部分１０５ にねじ連結する脚１０３を有す
るＣ字状クランププレート１０１ を設ける。連結ベー
ス７７には、更に、支持部材３５の下面７５に穿孔した
孔１０９ に接着した円筒形部分１０７ を設ける。穿
孔した第１の孔１１１ 及びこの第１の孔よりも小さい
直径の第２の孔１１３ を連結ベース７７の円筒形部分
１０７ に設ける。第１孔１１１ にクリアランスを有
して配置される支持ピン１１７ の円筒形端部１１５
を第２孔１１３ に接着する。支持ピン１１７ には、
更に、直径が減少して弾性ヒンジ１１９ をなす２個の
部分と、支持面１２１ を設ける。最後に、連結ベース
７７にディスク状ゴムプレート１２３ を設け、このゴ
ムプレート１２３をディスク状部分１０５ と円筒形部
分１０７ との間に設ける。
【００２２】図６及び図７（ｂ）に示すように、各空気
連結部材７３に２個のレバー１２５ を設け、これら２
個のレバー１２５ を回転ピン１２７ に固着し、この
ピン１２７ を、キャリヤ６７に固着したブロック１２
９ に支承する。各レバー１２５ には、第１端部１３
１ の近傍でクランプ素子１３３ を設け、第２端部１
３５ の近傍でシリンダ１４１ 内で移動可能なシール
リング１３９ を有するピストン１３７ に固着する。 更に、キャリヤ６７の上面７１には、２個の孔１４３
を穿孔する。レバー１２５ のうちの一方のばねホルダ
１４７ に圧着するプリテンションを与えた機械的螺旋
ばね１４５ を孔１４３ に設ける。ブロック１２９
には、更に、３個の接触面１４９ （図６参照）を設け
る。
連結部材７３に２個のレバー１２５ を設け、これら２
個のレバー１２５ を回転ピン１２７ に固着し、この
ピン１２７ を、キャリヤ６７に固着したブロック１２
９ に支承する。各レバー１２５ には、第１端部１３
１ の近傍でクランプ素子１３３ を設け、第２端部１
３５ の近傍でシリンダ１４１ 内で移動可能なシール
リング１３９ を有するピストン１３７ に固着する。 更に、キャリヤ６７の上面７１には、２個の孔１４３
を穿孔する。レバー１２５ のうちの一方のばねホルダ
１４７ に圧着するプリテンションを与えた機械的螺旋
ばね１４５ を孔１４３ に設ける。ブロック１２９
には、更に、３個の接触面１４９ （図６参照）を設け
る。
【００２３】図３に示す動作条件では、各連結ベース７
７の支持面１２１を、連結部材７３の３個の接触面１４
９ に圧着させる。このとき、Ｃ字状クランププレート
１０１ の２個の脚１０３ は連結部材７３の２個のク
ランプ素子１３３ の下方に位置する。機械的螺旋ばね
１４５ のばね圧の下にクランプブレード１０１ の脚
１０３ にクランプ素子１３３ が圧着し、支持ピン１
１７ の支持面１２１はブロック１２７ の３個の接触
面１４９ に確実に圧着する。
７の支持面１２１を、連結部材７３の３個の接触面１４
９ に圧着させる。このとき、Ｃ字状クランププレート
１０１ の２個の脚１０３ は連結部材７３の２個のク
ランプ素子１３３ の下方に位置する。機械的螺旋ばね
１４５ のばね圧の下にクランプブレード１０１ の脚
１０３ にクランプ素子１３３ が圧着し、支持ピン１
１７ の支持面１２１はブロック１２７ の３個の接触
面１４９ に確実に圧着する。
【００２４】支持ピン１１７ の使用により、ユニット
６５をＺ方向に見てキャリヤ６７に堅固に連結する。弾
性ヒンジ１１９ を使用したため、Ｚ方向に交差する方
向に支持ピン１１７は弾性変形し、支持部材３５とキャ
リヤ６７との間の熱膨張の差を支持ピン１１７ の弾性
変形により吸収する。ディスク状ゴムプレート１２３
の使用により、フレーム７の固有振動のような高周波振
動が連結部材７３及び連結ベース７７を介して支持部材
３５に伝達するのを防止する。ゴムプレート１２３を上
述のゴムプレート６３との組み合わせて使用し、また支
持部材３５の質量を位置決め装置３７の質量及びフレー
ム７の質量に対して最適化することにより、位置決め装
置３７のフレーム７の固有振動に対する機械的な遮蔽を
最適にする。
６５をＺ方向に見てキャリヤ６７に堅固に連結する。弾
性ヒンジ１１９ を使用したため、Ｚ方向に交差する方
向に支持ピン１１７は弾性変形し、支持部材３５とキャ
リヤ６７との間の熱膨張の差を支持ピン１１７ の弾性
変形により吸収する。ディスク状ゴムプレート１２３
の使用により、フレーム７の固有振動のような高周波振
動が連結部材７３及び連結ベース７７を介して支持部材
３５に伝達するのを防止する。ゴムプレート１２３を上
述のゴムプレート６３との組み合わせて使用し、また支
持部材３５の質量を位置決め装置３７の質量及びフレー
ム７の質量に対して最適化することにより、位置決め装
置３７のフレーム７の固有振動に対する機械的な遮蔽を
最適にする。
【００２５】上述のように、ユニット６５を空気回転機
構８７により図３の動作位置から第４図の中間位置に回
転することができる。図８の（ａ）〜（ｃ）に示した回
転機構８７には、主光軸３に平行な回転軸線１５３ の
周りに回転可能なスイッチバー１５１ を設ける。回転
軸線１５３ を、キャリヤ６７に固着しかつ回転軸線１
５３ に交差する方向に延びる窪み１５７ を設けたブ
ロック１５５ に連結する。スイッチバー１５１ の下
面１５９の近傍に長手方向の溝孔１６１ を設ける。回
転機構８７には、キャリヤ６７の下面１６５に固着した
空気駆動モータ１６３ を設ける。回転軸線１５３ に
平行な駆動モータ１６３の出力軸１６７ の端部の近傍
に側方アーム１６９ を設ける。ローラ部材１７１ を
側方アーム１６９ 上に出力軸１６７ に対して偏心さ
せて設け、ローラ部材１７１ は溝孔１６１ の側壁１
７３ 、１７５ 間にほぼクリアランスなしに配置する
。側方アーム１６９が空気駆動モータ１６３ により回
転するとき、スイッチバー１５１ を回転軸線１５３
の周りに回転する。
構８７により図３の動作位置から第４図の中間位置に回
転することができる。図８の（ａ）〜（ｃ）に示した回
転機構８７には、主光軸３に平行な回転軸線１５３ の
周りに回転可能なスイッチバー１５１ を設ける。回転
軸線１５３ を、キャリヤ６７に固着しかつ回転軸線１
５３ に交差する方向に延びる窪み１５７ を設けたブ
ロック１５５ に連結する。スイッチバー１５１ の下
面１５９の近傍に長手方向の溝孔１６１ を設ける。回
転機構８７には、キャリヤ６７の下面１６５に固着した
空気駆動モータ１６３ を設ける。回転軸線１５３ に
平行な駆動モータ１６３の出力軸１６７ の端部の近傍
に側方アーム１６９ を設ける。ローラ部材１７１ を
側方アーム１６９ 上に出力軸１６７ に対して偏心さ
せて設け、ローラ部材１７１ は溝孔１６１ の側壁１
７３ 、１７５ 間にほぼクリアランスなしに配置する
。側方アーム１６９が空気駆動モータ１６３ により回
転するとき、スイッチバー１５１ を回転軸線１５３
の周りに回転する。
【００２６】図８の（ｂ）に示すように、孔１７７ を
ブロック１５５ 及びキャリヤ６７に設け、この孔１７
７ を回転軸線１５３ に同軸状に配置する。上述のよ
うに回転ピン９１を孔１７７に設け、この回転ピン９１
を短行程の第１空気シリンダ１７９ によりシフト可能
にする。図８の（ａ）及び（ｃ）に示すように、ブロッ
ク１８３ を有する連結機構１８１をスイッチバー１５
１ に固着し、このブロック１８３ には回転軸線１５
３ に交差する窪み１８５ と穿孔した孔１８７ とを
設ける。ロックピン１８９ を、短行程の第２空気シリ
ンダ１９１ により孔１８７ 内でシフト可能にする。 図３〜図６に示した連結プレート１９３ は支持部材３
５の下面７５に連結し、かつ第１孔１９５ 及び第２孔
１９７ を設け、この連結プレート１９３ を図３に示
した動作位置においては窪み１５７ 、１８５ 内に位
置する。第１孔１９５ は孔１７７ と直径を同一にし
、孔１７７と同軸状なり、また直径が孔１８７ と等し
い第２孔１９７ を孔１８７ に同軸状となる（図８（
ｂ）及び図８（ｃ）参照）。
ブロック１５５ 及びキャリヤ６７に設け、この孔１７
７ を回転軸線１５３ に同軸状に配置する。上述のよ
うに回転ピン９１を孔１７７に設け、この回転ピン９１
を短行程の第１空気シリンダ１７９ によりシフト可能
にする。図８の（ａ）及び（ｃ）に示すように、ブロッ
ク１８３ を有する連結機構１８１をスイッチバー１５
１ に固着し、このブロック１８３ には回転軸線１５
３ に交差する窪み１８５ と穿孔した孔１８７ とを
設ける。ロックピン１８９ を、短行程の第２空気シリ
ンダ１９１ により孔１８７ 内でシフト可能にする。 図３〜図６に示した連結プレート１９３ は支持部材３
５の下面７５に連結し、かつ第１孔１９５ 及び第２孔
１９７ を設け、この連結プレート１９３ を図３に示
した動作位置においては窪み１５７ 、１８５ 内に位
置する。第１孔１９５ は孔１７７ と直径を同一にし
、孔１７７と同軸状なり、また直径が孔１８７ と等し
い第２孔１９７ を孔１８７ に同軸状となる（図８（
ｂ）及び図８（ｃ）参照）。
【００２７】動作位置から第１中間位置にユニット６５
を回動させるためには、回転ピン９１及びロックピン１
８９ をそれぞれ、第１シリンダ１７９ 及び第２シリ
ンダ１９１ により第１孔１９５ 及び第２孔１９７
に圧入し、ユニット６５を連結プレート１９３ を介し
てスイッチバー１５１ に連結する。 次に、連結部材７３のシリンダ１４１ に圧縮空気を供
給することによってユニット６５をキャリヤ６７から離
脱させる。 同時に、支持部材３５の下面７５に固着した３個の静的
ガス軸受１９９ を動作させ、この後ユニット６５を回
転機構８７により回転ピン９１の周りに回転させる。こ
の回転中、静的ガス軸受１９９ を使用することにより
ほぼ摩擦なしにユニット６５をキャリヤ６７の上面７１
にわたり案内することができる。
を回動させるためには、回転ピン９１及びロックピン１
８９ をそれぞれ、第１シリンダ１７９ 及び第２シリ
ンダ１９１ により第１孔１９５ 及び第２孔１９７
に圧入し、ユニット６５を連結プレート１９３ を介し
てスイッチバー１５１ に連結する。 次に、連結部材７３のシリンダ１４１ に圧縮空気を供
給することによってユニット６５をキャリヤ６７から離
脱させる。 同時に、支持部材３５の下面７５に固着した３個の静的
ガス軸受１９９ を動作させ、この後ユニット６５を回
転機構８７により回転ピン９１の周りに回転させる。こ
の回転中、静的ガス軸受１９９ を使用することにより
ほぼ摩擦なしにユニット６５をキャリヤ６７の上面７１
にわたり案内することができる。
【００２８】図３〜図６に線図的に示すように、連結機
構２０１ をキャリヤ６７の上面７１に固着する。連結
機構２０１ は、スイッチバー１５１ の連結機構１８
１ と同様の種類のものとする。従って、図３〜図６に
は詳細には示さない。 穿孔した孔２０５ を有する他の連結プレート２０３
を支持部材３５の下面７５に固着する。ユニット６５を
第１中間位置から動作位置に復帰した後には、ユニット
６５を連結機構２０１ によりキャリヤ６７にたいして
正確な位置に送り、連結機構２０１ のロックピン（図
示せず）を連結プレート２０３ の孔２０５に圧入する
。この後静的ガス軸受１９９ をスイッチオフし、ユニ
ット６５を、シリンダ１４１ から圧縮空気を排除して
連結部材７３によりキャリヤ６７に連結する。最後に、
連結機構２０１ から連結プレート２０３ を離脱させ
、回転ピン９１及びロックピン１８９ を、それぞれ第
１シリンダ１７９ 及び第２シリンダ１９１ により連
結プレート１９３ の第１孔１９５ 及び第２孔１９７
から外す。
構２０１ をキャリヤ６７の上面７１に固着する。連結
機構２０１ は、スイッチバー１５１ の連結機構１８
１ と同様の種類のものとする。従って、図３〜図６に
は詳細には示さない。 穿孔した孔２０５ を有する他の連結プレート２０３
を支持部材３５の下面７５に固着する。ユニット６５を
第１中間位置から動作位置に復帰した後には、ユニット
６５を連結機構２０１ によりキャリヤ６７にたいして
正確な位置に送り、連結機構２０１ のロックピン（図
示せず）を連結プレート２０３ の孔２０５に圧入する
。この後静的ガス軸受１９９ をスイッチオフし、ユニ
ット６５を、シリンダ１４１ から圧縮空気を排除して
連結部材７３によりキャリヤ６７に連結する。最後に、
連結機構２０１ から連結プレート２０３ を離脱させ
、回転ピン９１及びロックピン１８９ を、それぞれ第
１シリンダ１７９ 及び第２シリンダ１９１ により連
結プレート１９３ の第１孔１９５ 及び第２孔１９７
から外す。
【００２９】図４に示す第１中間位置において、支持部
材３５を回動機構８９の第２回転アーム９７の支持プレ
ート２０７ 上に下面７５を休止させる。支持プレート
２０７ は、第２回転アーム９７に沿って延び、主光軸
３に交差する平面上に位置する。更に、第１中間位置に
おいて、支持部材３５は支持ホイール２０９ 上に休止
し、この支持ホイールは回動機構８９の第１回転アーム
９３の端部２１１ に回転自在に取り付ける。第１中間
位置に支持部材３５を支持するため、静的ガス軸受１９
９ を動作させる。
材３５を回動機構８９の第２回転アーム９７の支持プレ
ート２０７ 上に下面７５を休止させる。支持プレート
２０７ は、第２回転アーム９７に沿って延び、主光軸
３に交差する平面上に位置する。更に、第１中間位置に
おいて、支持部材３５は支持ホイール２０９ 上に休止
し、この支持ホイールは回動機構８９の第１回転アーム
９３の端部２１１ に回転自在に取り付ける。第１中間
位置に支持部材３５を支持するため、静的ガス軸受１９
９ を動作させる。
【００３０】図８に示すように、窪み２１３ を支持プ
レート２０７に設ける。第１中間位置において、支持部
材３５の下面７５に取り付けたロック爪２１５ （図３
〜図６参照）を窪み２１３ に配置する。第２回転アー
ム９７には、第１中間位置で空気シリンダ２２１ によ
りロック爪２１５ の周りに引き込まれるフック２１９
を有するロック機構２１７ を設ける。このようにし
て、ユニット６５は回動機構８９の第２回転アーム９７
に連結される。第１及び第２の短行程シリンダ１７９
、１９１ によりそれぞれ連結プレート１９３ の第１
及び第２の孔１９５ 、１９７ から回転ピン９１及び
ロックピン１８９ が外された後、ユニット６５は回転
機構８７から離脱される。
レート２０７に設ける。第１中間位置において、支持部
材３５の下面７５に取り付けたロック爪２１５ （図３
〜図６参照）を窪み２１３ に配置する。第２回転アー
ム９７には、第１中間位置で空気シリンダ２２１ によ
りロック爪２１５ の周りに引き込まれるフック２１９
を有するロック機構２１７ を設ける。このようにし
て、ユニット６５は回動機構８９の第２回転アーム９７
に連結される。第１及び第２の短行程シリンダ１７９
、１９１ によりそれぞれ連結プレート１９３ の第１
及び第２の孔１９５ 、１９７ から回転ピン９１及び
ロックピン１８９ が外された後、ユニット６５は回転
機構８７から離脱される。
【００３１】図９、図１０及び図１１に示すように、第
１回転アーム９３に、穿孔した孔２２５ を有する第１
ヒンジハウジング２２３を設ける。第１回転アーム９３
は、上述のように第１ヒンジハウジング２２３ により
ベース部分２７に取り付けた第１ヒンジピン９５の周り
に回転することができる。第２アーム９７には、穿孔し
た孔２２９ を有する第２ヒンジハウジング２２７ を
設ける。第２回転アーム９７は、第２ヒンジハウジング
２２７により第１ヒンジハウジング２２３ の２個の水
平プレート２３０ に取り付けた第２ヒンジピン９９の
周りに回転することができる。第１回転アーム９３には
、溝孔２３３ を有する摺動アーム２３１ を設ける。 摺動アーム２３１ は、溝孔２３３ から第１回転アー
ム９３にねじ込むボルト２３５ に沿って摺動すること
ができる。摺動アーム２３１ の第１端部２３７ の近
傍に連結ピン２３９ を設ける。 連結ピン２３９ を、第２ヒンジハウジング２２７ に
取り付けた連結プレート２４３ の窪み２４１ に掛合
させる。連結ピン２３９及び連結プレート２４３ の組
立体により、第２回転アーム９７が第２ヒンジピン９９
の周りに回転するとき、摺動アーム２３１ はボルト２
３５ に沿って確実にシフトすることができる。
１回転アーム９３に、穿孔した孔２２５ を有する第１
ヒンジハウジング２２３を設ける。第１回転アーム９３
は、上述のように第１ヒンジハウジング２２３ により
ベース部分２７に取り付けた第１ヒンジピン９５の周り
に回転することができる。第２アーム９７には、穿孔し
た孔２２９ を有する第２ヒンジハウジング２２７ を
設ける。第２回転アーム９７は、第２ヒンジハウジング
２２７により第１ヒンジハウジング２２３ の２個の水
平プレート２３０ に取り付けた第２ヒンジピン９９の
周りに回転することができる。第１回転アーム９３には
、溝孔２３３ を有する摺動アーム２３１ を設ける。 摺動アーム２３１ は、溝孔２３３ から第１回転アー
ム９３にねじ込むボルト２３５ に沿って摺動すること
ができる。摺動アーム２３１ の第１端部２３７ の近
傍に連結ピン２３９ を設ける。 連結ピン２３９ を、第２ヒンジハウジング２２７ に
取り付けた連結プレート２４３ の窪み２４１ に掛合
させる。連結ピン２３９及び連結プレート２４３ の組
立体により、第２回転アーム９７が第２ヒンジピン９９
の周りに回転するとき、摺動アーム２３１ はボルト２
３５ に沿って確実にシフトすることができる。
【００３２】図１０及び図１２の（ａ）に示すように、
摺動アーム２３１ の第２端部２４５ の近傍に第１窪
み２４７ を設ける。更に、ハンドル２５１ を有する
傾動レバー２４９ を第１回転アーム９３の端部２１１
に取り付ける。傾動レバー２４９ は、第１回転アー
ム９３の端部２１１ にねじ込んだボルト２５３ の周
りに回転することができ、ロック爪２５５ を設ける。 ユニット６５の第１中間位置においては、摺動アーム２
３１ は図７に示す位置にあり、傾動レバー２４９ の
ロック爪２５５ は機械的ばね２５７ により摺動アー
ム２３１ の第１窪み２４７ に保持される。このよう
にして、第２回転アーム９７は、動作位置において、ユ
ニット６５の動作位置から第１中間位置への回転中、及
び第１中間位置において、第１回転アーム９３に対して
ロックされる。
摺動アーム２３１ の第２端部２４５ の近傍に第１窪
み２４７ を設ける。更に、ハンドル２５１ を有する
傾動レバー２４９ を第１回転アーム９３の端部２１１
に取り付ける。傾動レバー２４９ は、第１回転アー
ム９３の端部２１１ にねじ込んだボルト２５３ の周
りに回転することができ、ロック爪２５５ を設ける。 ユニット６５の第１中間位置においては、摺動アーム２
３１ は図７に示す位置にあり、傾動レバー２４９ の
ロック爪２５５ は機械的ばね２５７ により摺動アー
ム２３１ の第１窪み２４７ に保持される。このよう
にして、第２回転アーム９７は、動作位置において、ユ
ニット６５の動作位置から第１中間位置への回転中、及
び第１中間位置において、第１回転アーム９３に対して
ロックされる。
【００３３】図１０及び図１２の（ｂ）に示すように、
第１回転アーム９３の端部２１１ にはロックボルト２
５９ を設け、このロックボルト２５９ は端部２１１
に設けた孔２６１ 内で回転することができる。図１
２の（ｂ）に示すように、ロックボルト２５９ には、
円形外壁２６５ を有するＣ字状端部２６３ を設け、
この外壁２６５ を孔２６１ の内壁２６７ に沿って
接着し、この孔２６１ は、外壁２６５ に対して偏心
する円筒形内壁２６９ を有する。ユニット６５の第１
中間位置では、ロックボルト２５９ のＣ字状端部２６
３ を、図１２の（ｂ）に示すように、フレーム７のベ
ース部分２７に取り付けたロック爪２７１ に掛合させ
る。ロックボルト２５９ の回転は、第１回転アーム９
３の端部２１１ に取り付けた固定ロックピン２７３
及び摺動アーム２３１ の第２端部２４５に取り付け、
図１０にユニット６５が第１中間位置にあるときの状態
を示すロックブロック２７５ により阻止される。この
ようにして、第１回転アーム９３は、動作位置、ユニッ
ト６５の動作位置から第１中間位置への回転中及び第１
中間位置において、フレーム７に対してロックされる。
第１回転アーム９３の端部２１１ にはロックボルト２
５９ を設け、このロックボルト２５９ は端部２１１
に設けた孔２６１ 内で回転することができる。図１
２の（ｂ）に示すように、ロックボルト２５９ には、
円形外壁２６５ を有するＣ字状端部２６３ を設け、
この外壁２６５ を孔２６１ の内壁２６７ に沿って
接着し、この孔２６１ は、外壁２６５ に対して偏心
する円筒形内壁２６９ を有する。ユニット６５の第１
中間位置では、ロックボルト２５９ のＣ字状端部２６
３ を、図１２の（ｂ）に示すように、フレーム７のベ
ース部分２７に取り付けたロック爪２７１ に掛合させ
る。ロックボルト２５９ の回転は、第１回転アーム９
３の端部２１１ に取り付けた固定ロックピン２７３
及び摺動アーム２３１ の第２端部２４５に取り付け、
図１０にユニット６５が第１中間位置にあるときの状態
を示すロックブロック２７５ により阻止される。この
ようにして、第１回転アーム９３は、動作位置、ユニッ
ト６５の動作位置から第１中間位置への回転中及び第１
中間位置において、フレーム７に対してロックされる。
【００３４】ユニット６５を第１中間位置から第２中間
位置に転回するためには、傾動レバー２４９ を手によ
り機械的ばね２５７ のばね圧に抗してボルト２５３
の周りに回転し、傾動レバー２４９ のロック爪２５５
が摺動アーム２３１ の第１窪み２４７ から釈放し
、第２回転アーム９７を第１回転アーム９３に対してロ
ックを外す。次に、第２回転アーム９７を手で第２ヒン
ジピン９９の周りに回転し、この間支持部材３５の下面
７５は支持ホイール２０９ にわたり案内される。ユニ
ット６５の第１中間位置から第２中間位置への回転中、
静的ガス軸受１９９ の動作を維持し、ユニット６５に
対する安定した支持を行うようにする。第２中間位置に
達したとき、傾動レバー２４９ のロック爪２５５が機
械的ばねの作用の下に摺動アーム２３１ の第２窪み２
７７ に引き込まれるまで摺動２３１ はシフトする。 このようにして、第２回転アーム９７は第２中間位置で
第１回転アーム９３に対してロックされる。この第２中
間位置において、静的ガス軸受１９９ のスイッチをオ
フにする。即ち、ユニット６５が、第２回転アーム９７
の支持プレート２０７ によりまた第１回転アーム９３
の支持ホイール２０９ によりこの第２中間位置に安定
して支持されるためである。静的ガス軸受１９９ をス
イッチオフするとき、図１０及び図１２の（ｃ）に示す
安全爪２７９ は、第１回転アーム９３の端部２１１
に取り付けた他の短行程空気シリンダ２８１ により傾
動レバー２４９ の窪み２８３ 内に自動的に滑り込む
。安全爪２７９ を使用することにより、静的ガス軸受
１９９ が動作していないとき、傾動レバー２４９ の
ロック爪２５５ が第２窪み２７７ から抜け出るのを
防止し、またユニット６５が第１中間位置に復帰するの
を防止する。
位置に転回するためには、傾動レバー２４９ を手によ
り機械的ばね２５７ のばね圧に抗してボルト２５３
の周りに回転し、傾動レバー２４９ のロック爪２５５
が摺動アーム２３１ の第１窪み２４７ から釈放し
、第２回転アーム９７を第１回転アーム９３に対してロ
ックを外す。次に、第２回転アーム９７を手で第２ヒン
ジピン９９の周りに回転し、この間支持部材３５の下面
７５は支持ホイール２０９ にわたり案内される。ユニ
ット６５の第１中間位置から第２中間位置への回転中、
静的ガス軸受１９９ の動作を維持し、ユニット６５に
対する安定した支持を行うようにする。第２中間位置に
達したとき、傾動レバー２４９ のロック爪２５５が機
械的ばねの作用の下に摺動アーム２３１ の第２窪み２
７７ に引き込まれるまで摺動２３１ はシフトする。 このようにして、第２回転アーム９７は第２中間位置で
第１回転アーム９３に対してロックされる。この第２中
間位置において、静的ガス軸受１９９ のスイッチをオ
フにする。即ち、ユニット６５が、第２回転アーム９７
の支持プレート２０７ によりまた第１回転アーム９３
の支持ホイール２０９ によりこの第２中間位置に安定
して支持されるためである。静的ガス軸受１９９ をス
イッチオフするとき、図１０及び図１２の（ｃ）に示す
安全爪２７９ は、第１回転アーム９３の端部２１１
に取り付けた他の短行程空気シリンダ２８１ により傾
動レバー２４９ の窪み２８３ 内に自動的に滑り込む
。安全爪２７９ を使用することにより、静的ガス軸受
１９９ が動作していないとき、傾動レバー２４９ の
ロック爪２５５ が第２窪み２７７ から抜け出るのを
防止し、またユニット６５が第１中間位置に復帰するの
を防止する。
【００３５】図５に示すユニット６５の第２中間位置で
は摺動アーム２３１ をシフトし、図１０及び図１２の
（ｂ）に示す摺動アーム２３１ のロックブロック２７
５ はロックボルト２５９のＣ字状端部２６３ から離
脱し、ロックボルト２５９ は回転することができる。 ロックボルト２５９ がほぼ１８０ °の角度にわたり
回転するとき、ベース部分２７に取り付けたロック爪２
７１ が釈放され、第回転アーム９３はフレーム７に対
してロックを外される。このとき、第１回転アーム９３
は手により第１ヒンジピン９５の周りに第２中間位置か
ら図６に示す端部位置まで回転することができる。
は摺動アーム２３１ をシフトし、図１０及び図１２の
（ｂ）に示す摺動アーム２３１ のロックブロック２７
５ はロックボルト２５９のＣ字状端部２６３ から離
脱し、ロックボルト２５９ は回転することができる。 ロックボルト２５９ がほぼ１８０ °の角度にわたり
回転するとき、ベース部分２７に取り付けたロック爪２
７１ が釈放され、第回転アーム９３はフレーム７に対
してロックを外される。このとき、第１回転アーム９３
は手により第１ヒンジピン９５の周りに第２中間位置か
ら図６に示す端部位置まで回転することができる。
【００３６】図１０及び図１２の（ｃ）に示すように、
安全レバー２８５ を第１回転アーム９３の端部近傍に
設け、この安全レバーを回転ピン２８７ の周りに回転
自在にし、また止め２８９ を設ける。他の機械的ばね
２９５ を安全レバーの窪み２９１ 及び第１回転アー
ム９３の端部２１１ の窪み２９３ にプリテンション
を与えて設ける。ユニット６５が第２中間位置にあると
き第１回転アーム９３をベース２７に対してロックする
と、安全レバー２８５ は機械的ばね２９５ のばね圧
に抗して図１２の（ｃ）に示す位置に保持される。即ち
、安全レバー２８５ の止め２８９ がベース部分２７
に圧着するためである。安全レバー２８５ のこの位置
において傾動レバー２４９ は回転することができる。 第回転アーム９３がベース部分２７から離れるよう回転
すると、機械的ばね２９５ の作用により安全レバー２
８５ はロックボルト２５９ の孔２６１ よりも直径
が小さいシャフト部分２９７ に圧着する。安全レバー
２８５ のこの部分において、回転した傾動レバー２４
９は安全レバー２８５ により阻止され、第２回転アー
ム９７は第１レバーに対して外すことはできなくなる。
安全レバー２８５ を第１回転アーム９３の端部近傍に
設け、この安全レバーを回転ピン２８７ の周りに回転
自在にし、また止め２８９ を設ける。他の機械的ばね
２９５ を安全レバーの窪み２９１ 及び第１回転アー
ム９３の端部２１１ の窪み２９３ にプリテンション
を与えて設ける。ユニット６５が第２中間位置にあると
き第１回転アーム９３をベース２７に対してロックする
と、安全レバー２８５ は機械的ばね２９５ のばね圧
に抗して図１２の（ｃ）に示す位置に保持される。即ち
、安全レバー２８５ の止め２８９ がベース部分２７
に圧着するためである。安全レバー２８５ のこの位置
において傾動レバー２４９ は回転することができる。 第回転アーム９３がベース部分２７から離れるよう回転
すると、機械的ばね２９５ の作用により安全レバー２
８５ はロックボルト２５９ の孔２６１ よりも直径
が小さいシャフト部分２９７ に圧着する。安全レバー
２８５ のこの部分において、回転した傾動レバー２４
９は安全レバー２８５ により阻止され、第２回転アー
ム９７は第１レバーに対して外すことはできなくなる。
【００３７】プレート状キャリヤ６７の代わりに、他の
キャリヤ例えば、フレームキャリヤを使用することがで
きる。キャリヤ６７の代わりに、支持部材３５に多数の
固定部材を設けた構成を使用することができ、これら固
定部材により支持部材３５を懸架素子７９、８１、８３
に固定することができる。しかし、プレート状キャリヤ
６７の使用は、多くの構造的利点を有し、例えば、静的
ガス軸受１９９ を有する回転機構８７を使用できる点
である。
キャリヤ例えば、フレームキャリヤを使用することがで
きる。キャリヤ６７の代わりに、支持部材３５に多数の
固定部材を設けた構成を使用することができ、これら固
定部材により支持部材３５を懸架素子７９、８１、８３
に固定することができる。しかし、プレート状キャリヤ
６７の使用は、多くの構造的利点を有し、例えば、静的
ガス軸受１９９ を有する回転機構８７を使用できる点
である。
【００３８】プレート状懸架素子７９、８１、８３の代
わりに、他の懸架素子例えば、ロッド状懸架素子又は異
なる数の懸架素子を使用することができる。しかし、上
述のように３個のプレート状懸架素子７９、８１、８３
を使用すると、取付部材５の下面８５からキャリヤ６７
を特に堅固かつコンパクトに懸架することができるよう
になる。更に、キャリヤ６７も取付部材５の上面から、
例えば、ブレース又はブラケット構造により懸架するこ
とができる。しかし、このことに関しては、ユニット６
５を有するキャリヤ６７を下方フレーム支持体２５間に
配置することが重要であり、この構成により光学リソグ
ラフ装置のＺ方向の寸法が特にコンパクトになる。
わりに、他の懸架素子例えば、ロッド状懸架素子又は異
なる数の懸架素子を使用することができる。しかし、上
述のように３個のプレート状懸架素子７９、８１、８３
を使用すると、取付部材５の下面８５からキャリヤ６７
を特に堅固かつコンパクトに懸架することができるよう
になる。更に、キャリヤ６７も取付部材５の上面から、
例えば、ブレース又はブラケット構造により懸架するこ
とができる。しかし、このことに関しては、ユニット６
５を有するキャリヤ６７を下方フレーム支持体２５間に
配置することが重要であり、この構成により光学リソグ
ラフ装置のＺ方向の寸法が特にコンパクトになる。
【００３９】更に、位置決め装置３７と支持部材３５と
の間にゴムプレート６３を使用し、また支持部材３５と
キャリヤ６７との間にゴムプレート１２３ を使用する
ことにより、位置決め装置３７をフレーム７の機械的振
動から遮蔽することを極めて簡単な構造で実現できる。 ゴムプレート６３、１２３ の代わりに他のばね部材又
はばね部材と減衰部材との組み合わせを使用して、より
大きい周波数帯域の振動を遮蔽することができる。しか
し、一般的に、このことはユニット６５の構成を複雑に
する。
の間にゴムプレート６３を使用し、また支持部材３５と
キャリヤ６７との間にゴムプレート１２３ を使用する
ことにより、位置決め装置３７をフレーム７の機械的振
動から遮蔽することを極めて簡単な構造で実現できる。 ゴムプレート６３、１２３ の代わりに他のばね部材又
はばね部材と減衰部材との組み合わせを使用して、より
大きい周波数帯域の振動を遮蔽することができる。しか
し、一般的に、このことはユニット６５の構成を複雑に
する。
【００４０】更に、三角形に配置した下方フレーム支持
体２５及び懸架素子７９、８１、８３を有するフレーム
７のコンパクト構造の場合、ユニット６５をフレーム７
の外側に移動することは、回動機構８９に関連する回転
機構８７を使用し、ユニット６５を３段階の一連の回転
移動により動作位置から端部位置に回転することができ
る。位置決め装置単独又は位置決め装置及び支持部材に
より生ずるユニットをフレームに対して移動することが
できる移動機構を他のリソグラフ装置にも適用でき、例
えば、フレームがコンパクトでない又は３個以上の下方
フレーム支持体２５を有するリソグラフ装置又は支持部
材がフレームのベース部分をなすリソグラフ装置に適用
できる。更に、１回又は数回の回転移動を使用する代わ
りに位置決め装置又はユニットの並進移動を使用するこ
ともできる。並進移動を使用するときは、移動機構には
、例えば、１個又は数個の直線案内レールを設け、支持
部材にローラ部材を装着する。
体２５及び懸架素子７９、８１、８３を有するフレーム
７のコンパクト構造の場合、ユニット６５をフレーム７
の外側に移動することは、回動機構８９に関連する回転
機構８７を使用し、ユニット６５を３段階の一連の回転
移動により動作位置から端部位置に回転することができ
る。位置決め装置単独又は位置決め装置及び支持部材に
より生ずるユニットをフレームに対して移動することが
できる移動機構を他のリソグラフ装置にも適用でき、例
えば、フレームがコンパクトでない又は３個以上の下方
フレーム支持体２５を有するリソグラフ装置又は支持部
材がフレームのベース部分をなすリソグラフ装置に適用
できる。更に、１回又は数回の回転移動を使用する代わ
りに位置決め装置又はユニットの並進移動を使用するこ
ともできる。並進移動を使用するときは、移動機構には
、例えば、１個又は数個の直線案内レールを設け、支持
部材にローラ部材を装着する。
【００４１】更に、回転機構８７を使用する代わりに、
簡単な構造の回転機構を使用し、ユニット６５は動作位
置から第１中間位置に手動で回転するようにすることが
できる。しかし、回転機構８７を使用し、ユニット６５
を駆動モータ１６３ 及び連結機構２０１ により回転
することにより、動作位置へのユニット６５の位置決め
を一層正確に行うことができる。
簡単な構造の回転機構を使用し、ユニット６５は動作位
置から第１中間位置に手動で回転するようにすることが
できる。しかし、回転機構８７を使用し、ユニット６５
を駆動モータ１６３ 及び連結機構２０１ により回転
することにより、動作位置へのユニット６５の位置決め
を一層正確に行うことができる。
【００４２】最後に、上述の光学リソグラフ装置は、集
積電子回路の製造における半導体サブストレートの露光
に特に好適である。しかし、このようなリソグラフ装置
は、本装置によりサブストレート上にマスクパターンを
結像するミクロン又はサブミクロンのオーダーの微細寸
法の構造を有する他の製品の製造に適用できる。このよ
うな構造としては、集積光学系又は磁気ドメインメモリ
の導体及び検出パターンの構造、及び液晶結像パターン
の構造がある。
積電子回路の製造における半導体サブストレートの露光
に特に好適である。しかし、このようなリソグラフ装置
は、本装置によりサブストレート上にマスクパターンを
結像するミクロン又はサブミクロンのオーダーの微細寸
法の構造を有する他の製品の製造に適用できる。このよ
うな構造としては、集積光学系又は磁気ドメインメモリ
の導体及び検出パターンの構造、及び液晶結像パターン
の構造がある。
【図１】本発明による光学リソグラフ装置の斜視図であ
る。
る。
【図２】図１の光学リソグラフ装置の位置決め装置及び
支持部材により構成したユニットを示す斜視図である。
支持部材により構成したユニットを示す斜視図である。
【図３】図２のユニットが動作位置にあるときの図１の
光学リソグラフ装置の線図的断面図である。
光学リソグラフ装置の線図的断面図である。
【図４】図２のユニットが第１中間位置にあるときの図
１の光学リソグラフ装置の線図的断面図である。
１の光学リソグラフ装置の線図的断面図である。
【図５】図２のユニットが第２中間位置にあるときの図
１の光学リソグラフ装置の線図的断面図である。
１の光学リソグラフ装置の線図的断面図である。
【図６】図２のユニットが端部位置にあるときの図１の
光学リソグラフ装置の線図的断面図である。
光学リソグラフ装置の線図的断面図である。
【図７】（ａ）は図６のＩＶａ−ＩＶａ 線上の支持部
材の連結ベースの断面図であり、（ｂ）は図６のＩＶｂ
−ＩＶｂ 線上のキャリヤの空気連結部材の断面図であ
る。
材の連結ベースの断面図であり、（ｂ）は図６のＩＶｂ
−ＩＶｂ 線上のキャリヤの空気連結部材の断面図であ
る。
【図８】（ａ）は図２のユニットを図３に示す動作位置
から図４に示す第１中間位置に回転することができる空
気回転機構の平面図であり、（ｂ）は（ａ）のＶｂ−Ｖ
ｂ 線上の回転機構の断面図であり、（ｃ）は（ａ）の
Ｖｃ−Ｖｃ 線上の回転機構の断面図である。
から図４に示す第１中間位置に回転することができる空
気回転機構の平面図であり、（ｂ）は（ａ）のＶｂ−Ｖ
ｂ 線上の回転機構の断面図であり、（ｃ）は（ａ）の
Ｖｃ−Ｖｃ 線上の回転機構の断面図である。
【図９】図１の光学リソグラフ装置の回動機構の側面図
である。
である。
【図１０】図９の回動機構の回転アームの端部の側面図
である。
である。
【図１１】図９の回動機構の平面図である。
【図１２】（ａ）は図１０のＩＸａ−ＩＸａ 線上の回
転アームの端部の断面図であり、（ｂ）は図１０のＩＸ
ｂ−ＩＸｂ 線上の回転アームの端部の断面図であり、
（ｃ）は図１０のＩＸｃ−ＩＸｃ 線上の回転アームの
端部の断面図である。
転アームの端部の断面図であり、（ｂ）は図１０のＩＸ
ｂ−ＩＸｂ 線上の回転アームの端部の断面図であり、
（ｃ）は図１０のＩＸｃ−ＩＸｃ 線上の回転アームの
端部の断面図である。
１ 放射線発生装置
２ レンズ系
３ 主光軸
４ 取付リング
５ 取付部材
７ フレーム
９ マスクマニピュレータ
１１ マスク
１３ 光源
１５，１７ ミラー
１９ 半導体サブストレート
２１ オブジェクトテーブル
２３ コーナー部分
２５ 下方フレーム支持体
２７ ベース部分
２９ 調整部材
３１ 空気静力学的フット
３３ 上面
３５ 支持部材
３７ 位置決め装置
３９，４１，４３ リニアモータ
４５ Ｘステータ
４７ Ｘトランスレータ
４９，５５ Ｙステータ
５１ 第１端部
５３，５９ Ｙトランスレータ
５７ 第２端部
６１ ウィンドウフレーム
６３ ゴムプレート
６５ ユニット
６７ キャリヤ
６９ 大側辺
７１ 上面
７３ 空気連結部材
７７ 連結ベース
７９，８１，８３ 懸架素子
８５ 下側面
８７ 回転機構
８９ 回動機構
９１ 回転ピン
９３ 第１回転アーム
９５ 第１ヒンジピン
９７ 第２回転アーム
９９ 第２ヒンジピン
１０１ Ｃ字状クランププレート
１０３ 脚
１０５ ディスク状部分
１０７ 円筒形部分
１０９ 孔
１１１ 第１の孔
１１３ 第２の孔
１１５ 円筒形端部
１１７ 支持ピン
１１９ 弾性ヒンジ
１２１ 支持面
１２３ ディスク状ゴムプレート
１２５ レバー
１２７ 回転ピン
１２９ ブロック
１３１ 第１端部
１３３ クランプ素子
１３５ 第２端部
１３７ ピストン
１３９ シールリング
１４１ シリンダ
１４３ 孔
１４５ 螺旋ばね
１４７ ばねホルダ
１４９ 接触面
１５１ スイッチバー
１５３ 回転軸線
１５５ ブロック
１５７ 窪み
１５９ 下面
１６１ 溝孔
１６３ 空気駆動モータ
１６５ 下面
１６７ 出力軸
１６９ 側方アーム
１７１ ローラ部材
１７３，１７５ 側壁
１７７ 孔
１７９ 第１空気シリンダ
１８１ 連結機構
１８３ ブロック
１８５ 窪み
１８９ ロックピン
１９１ 第２空気シリンダ
１９３ 連結プレート
１９５ 第１孔
１９７ 第２孔
１９９ 静的ガス軸受
２０１ 連結機構
２０３ 連結プレート
２０５ 孔
２０７ 支持プレート
２０９ 支持ホイール
２１１ 端部
２１５ ロック爪
２２１ 空気シリンダ
２２３ 第１ヒンジハウジング
２２５ 孔
２２７ 第２ヒンジハウジング
２２９ 孔
２３０ 水平プレート
２３１ 摺動アーム
２３３ 溝孔
２３５ ボルト
２３９ 連結ピン
２４１ 窪み
２４３ 連結プレート
２４５ 第２端部
２４７ 第１窪み
２４９ 傾動レバー
２５１ ハンドル
２５３ ボルト
２５５ ロック爪
２５７ ばね
２５９ ボルト
２６１ 孔
２６３ Ｃ字状端部
２６５ 外壁
２６７ 内壁
２６９ 円筒形内壁
２７１ ロック爪
２７３ 固定ロックピン
２７５ ロックブロック
２７７ 第２窪み
２７９ 安全爪
２８１ 空気シリンダ
２８３ 窪み
２８５ 安全レバー
２８７ 回転ピン
２８９ 止め
２９１，２９３ 窪み
２９５ ばね
２９７ シャフト部分
Claims (9)
- 【請求項１】 Ｚ方向に平行な垂直の主光軸を有し、
下側の近傍で装置のフレームに属する取付部材に取付け
たリソグラフ放射線発生装置と、前記放射線発生装置の
下方に配置した位置決め装置とを具え、この位置決め装
置に連結した支持部材のＺ方向に直交する案内表面にわ
たり前記放射線発生装置に対してオブジェクトテーブル
を移動自在にしたリソグラフ装置において、前記位置決
め装置および支持部材をユニットとして前記取付部材に
懸架したキャリヤに位置決めしたことを特徴とするリソ
グラフ装置。 - 【請求項２】 前記支持部材を、第１弾性連結部材お
よび第１減衰部材により前記キャリヤに連結し、前記位
置決め装置を、第２弾性連結部材および第２減衰部材に
より前記支持部材に連結した請求項１記載のリソグラフ
装置。 - 【請求項３】 前記支持部材および前記位置決め装置
の前記キャリヤを、前記主軸に平行な垂直面上に延びて
いるプレート状懸架素子により取付部材に懸架した請求
項１または２記載のリソグラフ装置。 - 【請求項４】 前記キャリヤを、３個のプレート状の
懸架素子により前記取付部材から懸架し、前記取付部材
を３個の下方フレーム支持体によりフレームのベースに
固着し、前記懸架素子は、三角形状に配置し、前記懸架
素子の垂直面が互いにほぼ６０°の角度をなすようにし
、前記主軸に対する半径方向に見て下方フレーム支持体
の各々を各個の懸架素子の外側の近傍に配置した請求項
３記載のリソグラフ装置。 - 【請求項５】 前記支持部材および位置決め装置によ
り形成したユニットを、前記キャリヤおよび前記取付部
材に対して前記主軸に交差する方向に移動自在にした請
求項１乃至４のうちいずれか一項に記載のリソグラフ装
置。 - 【請求項６】 前記支持部材および位置決め装置によ
り構成されるユニットを、前記キャリヤおよび取付部材
に対して前記主軸にほぼ平行な方向に回転軸線の周りに
回転自在にした請求項１乃至５のうちいずれか一項に記
載のリソグラフ装置。 - 【請求項７】 前記ユニットは、前記支持部材が前記
キャリヤに連結した動作位置から第１中間位置への第１
回転移動による回転と、前記第１中間位置から第２中間
位置への第２回転移動による回転と、前記第２中間位置
から前記ユニット全体が前記フレームの外部に露出する
第３回転移動による回転を行うことができる構成とした
請求項６記載のリソグラフ装置。 - 【請求項８】 前記ユニットの前記第１回転移動中、
前記支持部材を前記フレームに連結した回転軸に連結し
、また静的流体軸受により前記キャリヤの上面にわたり
案内される構成とした請求項７記載のリソグラフ装置。 - 【請求項９】 前記ユニットが第１中間位置にあると
きは、前記支持部材を、前記フレームに回転自在に取付
けた第１回転アームに回転自在に支持した第２回転アー
ムに連結可能にし、前記第１回転移動中前記第２回転ア
ームを前記第１回転アームに対してロックし、前記第１
回転アームを前記フレームに対してロックし、前記ユニ
ットの第２回転移動は前記支持部材を前記第２回転アー
ムに連結しかつ前記第１回転アームを前記フレームに対
してロックする間に前記第１回転アームに対する前記第
２回転アームの回転移動により行い、前記ユニットが前
記第２中間位置にあるときは、前記第２回転アームを前
記第１回転アームに対してロック可能にし、また前記支
持部材を前記第２回転アームに連結しかつこの第２回転
アームを前記第１回転アームにロックする間に前記ユニ
ットの第３回転移動を、前記フレームに対する第１回転
アームの回転移動により行う構成とした請求項７または
８記載のリソグラフ装置。
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1992
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