JPH05100094A - Ｓｒ−ｘ線ミラーユニツト - Google Patents
Ｓｒ−ｘ線ミラーユニツトInfo
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- JPH05100094A JPH05100094A JP3289274A JP28927491A JPH05100094A JP H05100094 A JPH05100094 A JP H05100094A JP 3289274 A JP3289274 A JP 3289274A JP 28927491 A JP28927491 A JP 28927491A JP H05100094 A JPH05100094 A JP H05100094A
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- vacuum chamber
- ray
- large frame
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70058—Mask illumination systems
- G03F7/702—Reflective illumination, i.e. reflective optical elements other than folding mirrors, e.g. extreme ultraviolet [EUV] illumination systems
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Particle Accelerators (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 ミラ−を、真空チャンバーとともにＸ線の光
路を横切る方向に移動させることによって、ミラーの反
射面の全幅を有効に利用する。 【構成】 ミラー１０１および真空チャンバー１０５を
支持する大枠フレーム４０１は、Ｘ送りねじ５０３によ
って、架台上５０１のＸガイドレール５０２ａ、５０２
ｂに沿って、ＳＲ−Ｘ線の光路を横切る方向に移動され
る。ミラー１０１を支持するミラー支持装置Ａは、大枠
フレーム４０１の頂部に支持され、ミラー１０１および
真空チャンバー１０５と共に移動する。ＳＲ−Ｘ線のビ
ームダクト（図示せず）は、ビーム接続ベローズ１１１
ａ、１１１ｂを介して真空チャンバー１０５の開口に連
結される。ビーム接続ベローズの取付けフランジ１１３
は、偏心フランジと交換可能である。
路を横切る方向に移動させることによって、ミラーの反
射面の全幅を有効に利用する。 【構成】 ミラー１０１および真空チャンバー１０５を
支持する大枠フレーム４０１は、Ｘ送りねじ５０３によ
って、架台上５０１のＸガイドレール５０２ａ、５０２
ｂに沿って、ＳＲ−Ｘ線の光路を横切る方向に移動され
る。ミラー１０１を支持するミラー支持装置Ａは、大枠
フレーム４０１の頂部に支持され、ミラー１０１および
真空チャンバー１０５と共に移動する。ＳＲ−Ｘ線のビ
ームダクト（図示せず）は、ビーム接続ベローズ１１１
ａ、１１１ｂを介して真空チャンバー１０５の開口に連
結される。ビーム接続ベローズの取付けフランジ１１３
は、偏心フランジと交換可能である。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、ウエハ等の基板にマス
クパターンを転写、焼付けするためのシンクロトロン放
射Ｘ線（ＳＲ−Ｘ線）露光装置におけるＳＲ−Ｘ線ミラ
ーユニットに関し、特にシリンドリカルミラーを使用す
るＳＲ−Ｘ線露光装置において、長期にわたってミラー
を交換することなく、ミラー全面を有効に利用すること
を可能とするＳＲ−Ｘ線ミラーユニットに関するもので
ある。
クパターンを転写、焼付けするためのシンクロトロン放
射Ｘ線（ＳＲ−Ｘ線）露光装置におけるＳＲ−Ｘ線ミラ
ーユニットに関し、特にシリンドリカルミラーを使用す
るＳＲ−Ｘ線露光装置において、長期にわたってミラー
を交換することなく、ミラー全面を有効に利用すること
を可能とするＳＲ−Ｘ線ミラーユニットに関するもので
ある。
【０００２】
【従来の技術】シンクロトロン放射Ｘ線（ＳＲ−Ｘ線）
露光装置は、シートビーム状のＳＲ−Ｘ線を、ＳＯＲリ
ングの軌道面に対する垂直方向に発散させるＳＲ−Ｘ線
ミラーユニットの改良によって実用化が可能となり、最
小線幅１／４μｍの微細パターンの焼付けを可能とする
露光装置として近年とくに注目をあびつつある。
露光装置は、シートビーム状のＳＲ−Ｘ線を、ＳＯＲリ
ングの軌道面に対する垂直方向に発散させるＳＲ−Ｘ線
ミラーユニットの改良によって実用化が可能となり、最
小線幅１／４μｍの微細パターンの焼付けを可能とする
露光装置として近年とくに注目をあびつつある。
【０００３】現在開発されているＳＲ−Ｘ線ミラーユニ
ットは、床面に対して傾斜方向および傾斜角度を自在に
調節可能であり、かつ水平面内において回動可能な架台
構造体に、真空チャンバーおよびミラー支持装置を保持
する大枠フレームを載置することによって、ミラーの反
射角およびミラーの縦軸のＸ線光路に対する角度調整を
架台構造体によって行うとともに、大枠フレームに、真
空チャンバーとは別の手段によって支持されたミラー支
持装置によって、真空チャンバー内に導入されるＳＲ−
Ｘ線に対するミラーの反射面の垂直方向の位置および姿
勢を調整するように構成されている。
ットは、床面に対して傾斜方向および傾斜角度を自在に
調節可能であり、かつ水平面内において回動可能な架台
構造体に、真空チャンバーおよびミラー支持装置を保持
する大枠フレームを載置することによって、ミラーの反
射角およびミラーの縦軸のＸ線光路に対する角度調整を
架台構造体によって行うとともに、大枠フレームに、真
空チャンバーとは別の手段によって支持されたミラー支
持装置によって、真空チャンバー内に導入されるＳＲ−
Ｘ線に対するミラーの反射面の垂直方向の位置および姿
勢を調整するように構成されている。
【０００４】ミラー支持装置は、ミラー支持棒を介して
真空チャンバー内に配置されたミラーを支持するもの
で、ミラー支持棒を貫通させる真空チャンバーの開口
は、ベローズによってシールされ、真空チャンバーの高
真空雰囲気を損うことなくミラーの位置および姿勢を調
整できるようになっている。
真空チャンバー内に配置されたミラーを支持するもの
で、ミラー支持棒を貫通させる真空チャンバーの開口
は、ベローズによってシールされ、真空チャンバーの高
真空雰囲気を損うことなくミラーの位置および姿勢を調
整できるようになっている。
【０００５】上述のようにミラーは、真空雰囲気をもつ
真空チャンバー内に配置され、加えて真空チャンバーの
外に設けられた装置に連結されているため、ＳＲ−Ｘ線
の露光によってミラーの反射面が損傷した場合のミラー
交換は、真空チャンバーの真空雰囲気を損うことなく行
うのはほぼ不可能である。またミラー交換後の新たなミ
ラーの位置および姿勢の調整も必要であるため、ミラー
交換の頻度が多いのは好ましくない。
真空チャンバー内に配置され、加えて真空チャンバーの
外に設けられた装置に連結されているため、ＳＲ−Ｘ線
の露光によってミラーの反射面が損傷した場合のミラー
交換は、真空チャンバーの真空雰囲気を損うことなく行
うのはほぼ不可能である。またミラー交換後の新たなミ
ラーの位置および姿勢の調整も必要であるため、ミラー
交換の頻度が多いのは好ましくない。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】前述した通り、ＳＲ−
Ｘ線ミラーは、ミラー反射面の位置および姿勢の調整が
複雑であり、しかも真空雰囲気の真空チャンバー内にお
いて使用するものであるため、交換頻度は可能な限り少
い方が望ましい。本発明はこのような要望に応じるため
になされたものであって、ミラー反射面の全幅を有効に
利用することによってミラーの交換頻度を少くしたＳＲ
−Ｘ線ミラーユニットを提供することを目的とする。
Ｘ線ミラーは、ミラー反射面の位置および姿勢の調整が
複雑であり、しかも真空雰囲気の真空チャンバー内にお
いて使用するものであるため、交換頻度は可能な限り少
い方が望ましい。本発明はこのような要望に応じるため
になされたものであって、ミラー反射面の全幅を有効に
利用することによってミラーの交換頻度を少くしたＳＲ
−Ｘ線ミラーユニットを提供することを目的とする。
【０００７】
【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
めに本発明のＳＲ−Ｘ線ミラーユニットは、Ｘ線を所望
の方向へ拡大する反射面を備えたミラーと、前記ミラー
を支持するミラー支持手段と、前記ミラーの周囲を真空
雰囲気に保つための真空チャンバーと、前記ミラー支持
手段および前記真空チャンバーを支持する大枠フレーム
と、前記大枠フレームを、前記Ｘ線の光路を横切る方向
に往復移動自在に支持する架台手段と、前記大枠フレー
ムを前記Ｘ線の光路を横切る方向に駆動する駆動手段と
からなることを特徴とする。
めに本発明のＳＲ−Ｘ線ミラーユニットは、Ｘ線を所望
の方向へ拡大する反射面を備えたミラーと、前記ミラー
を支持するミラー支持手段と、前記ミラーの周囲を真空
雰囲気に保つための真空チャンバーと、前記ミラー支持
手段および前記真空チャンバーを支持する大枠フレーム
と、前記大枠フレームを、前記Ｘ線の光路を横切る方向
に往復移動自在に支持する架台手段と、前記大枠フレー
ムを前記Ｘ線の光路を横切る方向に駆動する駆動手段と
からなることを特徴とする。
【０００８】前記駆動手段は、前記架台手段に回転自在
に支持されたねじ棒と大枠フレームに一体的に設けられ
た、前記ねじ棒に螺合するナットとからなるものが望ま
しい。また、真空チャンバーが、少くとも一端に偏心フ
ランジを取付け可能であるビーム接続ベローズを介して
Ｘ線のビームダクトに連結されているとよい。
に支持されたねじ棒と大枠フレームに一体的に設けられ
た、前記ねじ棒に螺合するナットとからなるものが望ま
しい。また、真空チャンバーが、少くとも一端に偏心フ
ランジを取付け可能であるビーム接続ベローズを介して
Ｘ線のビームダクトに連結されているとよい。
【０００９】
【作用】Ｘ線露光によるミラーの反射面の損傷が進んで
反射面の更新が必要と判断された時は、駆動手段によっ
て、Ｘ線の光路を横切る方向に大枠フレームを移動させ
て、ミラーの末損傷部分が新たな反射面となる位置で停
止させる。このとき、ミラーの移動は真空チャンバーお
よびミラー支持手段と共に行われるため、真空チャンバ
ーの真空雰囲気を損うことなく、またミラー支持手段の
再調整も必要としない。
反射面の更新が必要と判断された時は、駆動手段によっ
て、Ｘ線の光路を横切る方向に大枠フレームを移動させ
て、ミラーの末損傷部分が新たな反射面となる位置で停
止させる。このとき、ミラーの移動は真空チャンバーお
よびミラー支持手段と共に行われるため、真空チャンバ
ーの真空雰囲気を損うことなく、またミラー支持手段の
再調整も必要としない。
【００１０】真空チャンバーが、少くとも一端に偏心フ
ランジ取付け可能であるビーム接続ベローズを介して、
Ｘ線のビームダクトに連結されていれば、新たな位置に
設定された真空チャンバーの開口とビームダクトの中心
線がかなり大きくづれた場合でも、偏心フランジを交換
することで、ビーム接続ベローズに無理なストレスがか
かるのを防ぐことができる。
ランジ取付け可能であるビーム接続ベローズを介して、
Ｘ線のビームダクトに連結されていれば、新たな位置に
設定された真空チャンバーの開口とビームダクトの中心
線がかなり大きくづれた場合でも、偏心フランジを交換
することで、ビーム接続ベローズに無理なストレスがか
かるのを防ぐことができる。
【００１１】
【実施例】本発明の一実施例を図面に基づいて説明す
る。
る。
【００１２】図１は本実施例を示す一部破断斜視図、図
２は本実施例のディテクターユニットおよびシャッター
ユニットを取りはずした状態を示す側面図である。
２は本実施例のディテクターユニットおよびシャッター
ユニットを取りはずした状態を示す側面図である。
【００１３】円筒面の一部を下向きの反射面とする凸面
ミラー（以後「ミラー」と称する）１０１はミラー保持
器１０２に保持され、保持器１０２は保持器支持板１０
３に着脱自在に固着される。保持器支持板１０３は、ミ
ラー支持棒１０４の下端に固着され、ミラー支持棒１０
４は、真空チャンバー１０５の上壁に設けられた開口を
経て、真空チャンバー１０５の上方に配置されたミラー
支持手段であるミラー支持体１０６に連結される。また
ミラー１０１の一端に隣接するシャッターユニット８０
１の駆動部は、真空チャンバーの上壁によって支持され
る。真空チャンバー１０５の開口の周辺部とミラー支持
棒１０４のフランジ部の間にはベローズ１０７が設けら
れ、ミラー支持棒１０４は、真空チャンバー１０５の真
空雰囲気を損うことなく上下動および傾斜自在である。
すなわち、ミラー支持体１０４と真空チャンバー１０５
の開口との間隙はベローズ１０７によって密封されてい
る。
ミラー（以後「ミラー」と称する）１０１はミラー保持
器１０２に保持され、保持器１０２は保持器支持板１０
３に着脱自在に固着される。保持器支持板１０３は、ミ
ラー支持棒１０４の下端に固着され、ミラー支持棒１０
４は、真空チャンバー１０５の上壁に設けられた開口を
経て、真空チャンバー１０５の上方に配置されたミラー
支持手段であるミラー支持体１０６に連結される。また
ミラー１０１の一端に隣接するシャッターユニット８０
１の駆動部は、真空チャンバーの上壁によって支持され
る。真空チャンバー１０５の開口の周辺部とミラー支持
棒１０４のフランジ部の間にはベローズ１０７が設けら
れ、ミラー支持棒１０４は、真空チャンバー１０５の真
空雰囲気を損うことなく上下動および傾斜自在である。
すなわち、ミラー支持体１０４と真空チャンバー１０５
の開口との間隙はベローズ１０７によって密封されてい
る。
【００１４】真空チャンバー１０５は両端にビーム接続
ベローズ１１１ａ、１１１ｂを備えており、ビーム接続
ベローズ１１１ａ、１１１ｂはそれぞれＳＲ−Ｘ線のビ
ームダクト（図示せず）に接続され、ＳＯＲリングから
照射室に導入されるＳＲ−Ｘ線をその経路の途中で真空
チャンバーに導く。
ベローズ１１１ａ、１１１ｂを備えており、ビーム接続
ベローズ１１１ａ、１１１ｂはそれぞれＳＲ−Ｘ線のビ
ームダクト（図示せず）に接続され、ＳＯＲリングから
照射室に導入されるＳＲ−Ｘ線をその経路の途中で真空
チャンバーに導く。
【００１５】ミラー支持体１０６の上部にはベローズ１
０７と同じ断面積を有するカウンターベローズ１０８の
下端が固着され、カウンターベローズ１０８の上端は、
壁板１０５ａによって真空チャンバー１０５と一体的に
連結された天板１０９の下面に固着されており（図３に
示す）、カウンターベローズ１０８の内部は真空発生源
に通過された真空配管１０８ａによって高真空に減圧さ
れる。
０７と同じ断面積を有するカウンターベローズ１０８の
下端が固着され、カウンターベローズ１０８の上端は、
壁板１０５ａによって真空チャンバー１０５と一体的に
連結された天板１０９の下面に固着されており（図３に
示す）、カウンターベローズ１０８の内部は真空発生源
に通過された真空配管１０８ａによって高真空に減圧さ
れる。
【００１６】ミラー支持体１０６は、第１の駆動手段で
あるｙ駆動モーター１１０によって駆動されるボールね
じ１００２とミラー支持体１０６に一体的に設けられた
ボールナット（図示せず）によりミラー１０１の反射面
に対して垂直方向（ｙ軸方向）に往復移動される。チル
ト板２０１はハウジング２０２に対して一体的に固着さ
れ、ハウジング２０２はｙ直動ガイド２０３によって、
ミラー支持体１０６をｙ軸方向に直動可能に支持する。
チルト板２０１は３個のωｘωｚ調節ねじ２０４によっ
て平形中空枠状の基準フレーム３０１に固着されてお
り、基準フレーム３０１に対するチルト板２０１の傾斜
方向および傾斜角度はωｘωｚ調節ねじ２０４によって
微調節自在である。
あるｙ駆動モーター１１０によって駆動されるボールね
じ１００２とミラー支持体１０６に一体的に設けられた
ボールナット（図示せず）によりミラー１０１の反射面
に対して垂直方向（ｙ軸方向）に往復移動される。チル
ト板２０１はハウジング２０２に対して一体的に固着さ
れ、ハウジング２０２はｙ直動ガイド２０３によって、
ミラー支持体１０６をｙ軸方向に直動可能に支持する。
チルト板２０１は３個のωｘωｚ調節ねじ２０４によっ
て平形中空枠状の基準フレーム３０１に固着されてお
り、基準フレーム３０１に対するチルト板２０１の傾斜
方向および傾斜角度はωｘωｚ調節ねじ２０４によって
微調節自在である。
【００１７】基準フレーム３０１は、両端に設けられた
１対の軸受装置３０２によってミラーの縦軸方向（ｚ軸
方向）のまわりに回動可能に支持され、各軸受装置３０
２はそれぞれＬ字棒３０３の中央に固定され、Ｌ字棒３
０３の両端は中空立体枠状の大枠フレーム４０１の頂部
に螺着される。
１対の軸受装置３０２によってミラーの縦軸方向（ｚ軸
方向）のまわりに回動可能に支持され、各軸受装置３０
２はそれぞれＬ字棒３０３の中央に固定され、Ｌ字棒３
０３の両端は中空立体枠状の大枠フレーム４０１の頂部
に螺着される。
【００１８】また、基準フレーム３０１のｚ軸のまわり
の回動角度は、第２の駆動手段であるωｚ駆動モーター
３０４によって駆動されるカム機構により、調節され回
動調整終了の後、ロックねじ３０５を締めつけて、基準
フレーム３０１を大枠フレーム４０１に対して固定す
る。さらに、基準フレーム３０１のｚ軸方向前方下面に
は、ＳＲ−Ｘ線の位置を検出するためのディテクターユ
ニットＤが着脱自在に取付けられる。
の回動角度は、第２の駆動手段であるωｚ駆動モーター
３０４によって駆動されるカム機構により、調節され回
動調整終了の後、ロックねじ３０５を締めつけて、基準
フレーム３０１を大枠フレーム４０１に対して固定す
る。さらに、基準フレーム３０１のｚ軸方向前方下面に
は、ＳＲ−Ｘ線の位置を検出するためのディテクターユ
ニットＤが着脱自在に取付けられる。
【００１９】大枠フレーム４０１は、連結手段である１
対のＬ型金具４０２によって真空チャンバー１０５の底
部を支持する。Ｌ型金具４０２は剛性の小さい材料で作
られており、真空ポンプによって真空チャンバー１０５
を常圧から例えば１０-7〜１０-10 ｔｏｒｒ程度の真空
雰囲気に降圧させる際に、真空チャンバー１０５の変形
を吸収して、大枠フレーム４０１に歪が発生するのを防
ぐ。
対のＬ型金具４０２によって真空チャンバー１０５の底
部を支持する。Ｌ型金具４０２は剛性の小さい材料で作
られており、真空ポンプによって真空チャンバー１０５
を常圧から例えば１０-7〜１０-10 ｔｏｒｒ程度の真空
雰囲気に降圧させる際に、真空チャンバー１０５の変形
を吸収して、大枠フレーム４０１に歪が発生するのを防
ぐ。
【００２０】図２から判るように、真空チャンバー１０
５は大枠フレーム４０１の底部に固着されたＬ型金具４
０２によって大枠フレーム４０１の内部に保持され、他
方、ミラー１０１は、ミラー支持棒１０４を介して大枠
フレーム４０１の頂部に載置された基準フレーム３０
１、チルト板２０１およびミラー支持体１０６からなる
ミラー支持装置Ａによって支持される。
５は大枠フレーム４０１の底部に固着されたＬ型金具４
０２によって大枠フレーム４０１の内部に保持され、他
方、ミラー１０１は、ミラー支持棒１０４を介して大枠
フレーム４０１の頂部に載置された基準フレーム３０
１、チルト板２０１およびミラー支持体１０６からなる
ミラー支持装置Ａによって支持される。
【００２１】次に、大枠フレーム４０１を支持する架台
構造体Ｂについて説明する。架台構造体Ｂは、平枠状の
架台上５０１および立体枠状の架台下６０１からなり、
大枠フレーム４０１は架台上５０１に設けられた一対の
ｘガイドレール５０２ａ，５０２ｂに沿ってミラー１０
１の横軸方向（ｘ軸方向）に往復移動可能である。大枠
フレーム４０１のｘ軸方向の移動は、架台上５０１に保
持されたｘ送りねじ５０３を手動で回動させることによ
って行われる。
構造体Ｂについて説明する。架台構造体Ｂは、平枠状の
架台上５０１および立体枠状の架台下６０１からなり、
大枠フレーム４０１は架台上５０１に設けられた一対の
ｘガイドレール５０２ａ，５０２ｂに沿ってミラー１０
１の横軸方向（ｘ軸方向）に往復移動可能である。大枠
フレーム４０１のｘ軸方向の移動は、架台上５０１に保
持されたｘ送りねじ５０３を手動で回動させることによ
って行われる。
【００２２】架台上５０１は架台下６０１の上に垂直方
向の中心軸（ｙ軸）のまわりに回動可能に支持され、ｙ
軸のまわりの回動角度は、第３の駆動手段であるωｙ駆
動モーター６０２によって駆動されるカム機構により調
節される。さらに架台下６０１の足６０３は長さの調節
が可能であり、各足の長さを調節することによって架台
下６０１の傾斜方向および傾斜角度、すなわち床面に対
する架台構造体Ｂおよび大枠フレーム４０１の傾斜を調
整することができる。また架台上５０１および架台下６
０１からなる架台構造体Ｂの内部には、真空チャンバー
１０５の直下に配置されたイオンポンプ７０１、ＮＥＧ
ポンプ７０２が保持される。
向の中心軸（ｙ軸）のまわりに回動可能に支持され、ｙ
軸のまわりの回動角度は、第３の駆動手段であるωｙ駆
動モーター６０２によって駆動されるカム機構により調
節される。さらに架台下６０１の足６０３は長さの調節
が可能であり、各足の長さを調節することによって架台
下６０１の傾斜方向および傾斜角度、すなわち床面に対
する架台構造体Ｂおよび大枠フレーム４０１の傾斜を調
整することができる。また架台上５０１および架台下６
０１からなる架台構造体Ｂの内部には、真空チャンバー
１０５の直下に配置されたイオンポンプ７０１、ＮＥＧ
ポンプ７０２が保持される。
【００２３】大枠フレーム４０１に保持されたミラー支
持装置Ａおよび真空チャンバー１０５は、架台構造体Ｂ
を上述のように調整することによって、床面に対する傾
斜の調整、ｙ軸のまわりの回動角度調整（ωｙ調整）、
ｘ軸方向の位置調整（ｘ調整）を高精度で行うことがで
き、かつ調整された位置および姿勢（回動角度、傾斜方
向および傾斜角度）に安定して保持される。
持装置Ａおよび真空チャンバー１０５は、架台構造体Ｂ
を上述のように調整することによって、床面に対する傾
斜の調整、ｙ軸のまわりの回動角度調整（ωｙ調整）、
ｘ軸方向の位置調整（ｘ調整）を高精度で行うことがで
き、かつ調整された位置および姿勢（回動角度、傾斜方
向および傾斜角度）に安定して保持される。
【００２４】次に、大枠フレーム４０１をｘ方向へ移動
させる駆動装置について説明する。
させる駆動装置について説明する。
【００２５】図３および図４に示すように、大枠フレー
ム４０１の底には１対のｘガイド溝部材４００１が設け
られ、各ｘガイド溝部材４００１は、それぞれ架台手段
である架台上５０１の上面に設けられたｘガイドレ−ル
５０２ａ，５０２ｂに対して摺動自在に係合する。大枠
フレーム４０１をガイドレール５０２ａ，５０２ｂ上で
移動させるｘ送りねじ５０３は、大枠フレーム４０１の
下面に固着されたナット部材４００２のナット４００２
ａに係合するねじ棒４００３をもち、架台上５０１に固
着された支持板４００４の軸受４００４ａによって回転
自在に支持される。また、軸受４００４ａの両側にはス
トッパー４００４ｂが設けられ、ｘ送りねじ５０３がｘ
軸方向に移動するのを防止する。ハンドル４００５によ
ってｘ送りねじ５０３を回転させると、ねじ棒４００３
上をナット４００２ａが移動するため、大枠フレーム４
０１はｘガイドレール５０２ａ，５０２ｂに沿って架台
上５０１上をｘ軸方向に移動する。
ム４０１の底には１対のｘガイド溝部材４００１が設け
られ、各ｘガイド溝部材４００１は、それぞれ架台手段
である架台上５０１の上面に設けられたｘガイドレ−ル
５０２ａ，５０２ｂに対して摺動自在に係合する。大枠
フレーム４０１をガイドレール５０２ａ，５０２ｂ上で
移動させるｘ送りねじ５０３は、大枠フレーム４０１の
下面に固着されたナット部材４００２のナット４００２
ａに係合するねじ棒４００３をもち、架台上５０１に固
着された支持板４００４の軸受４００４ａによって回転
自在に支持される。また、軸受４００４ａの両側にはス
トッパー４００４ｂが設けられ、ｘ送りねじ５０３がｘ
軸方向に移動するのを防止する。ハンドル４００５によ
ってｘ送りねじ５０３を回転させると、ねじ棒４００３
上をナット４００２ａが移動するため、大枠フレーム４
０１はｘガイドレール５０２ａ，５０２ｂに沿って架台
上５０１上をｘ軸方向に移動する。
【００２６】Ｘ線露光によってミラーの反射面の損傷が
進んだ場合には、上述の如く、大枠フレームをｘ軸方向
へ移動させることによって、ミラーの反射面を幅方向へ
移動させることができる。従ってミラーを交換すること
なく、新たな反射面を使ってＸ線露光を継続することが
可能である。すなわちミラーの全幅が損傷によって使用
不可能となるまでミラーの反射面を有効に使用すること
ができる。
進んだ場合には、上述の如く、大枠フレームをｘ軸方向
へ移動させることによって、ミラーの反射面を幅方向へ
移動させることができる。従ってミラーを交換すること
なく、新たな反射面を使ってＸ線露光を継続することが
可能である。すなわちミラーの全幅が損傷によって使用
不可能となるまでミラーの反射面を有効に使用すること
ができる。
【００２７】大枠フレーム４０１の移動によって、ミラ
ー１０１と共に真空チャンバー１０５もＸ方向に移動す
るため、Ｘ線の光路を真空雰囲気に保つためのビームダ
クト（図示せず）と真空チャンバー１０５の開口との間
に位置ずれが発生する。この位置ずれが、ビーム接続ベ
ローズ１１１ａ、１１１ｂがわん曲することによって吸
収できる範囲を超える場合には、各ビーム接続ベローズ
の、真空チャンバー１０５の開口周辺に固着される取付
けフランジ１１３を、図５の（ｂ）に示す偏心フランジ
１１３ａ又は図５の（ｃ）に示す偏心フランジ１１３ｂ
と交換する。
ー１０１と共に真空チャンバー１０５もＸ方向に移動す
るため、Ｘ線の光路を真空雰囲気に保つためのビームダ
クト（図示せず）と真空チャンバー１０５の開口との間
に位置ずれが発生する。この位置ずれが、ビーム接続ベ
ローズ１１１ａ、１１１ｂがわん曲することによって吸
収できる範囲を超える場合には、各ビーム接続ベローズ
の、真空チャンバー１０５の開口周辺に固着される取付
けフランジ１１３を、図５の（ｂ）に示す偏心フランジ
１１３ａ又は図５の（ｃ）に示す偏心フランジ１１３ｂ
と交換する。
【００２８】各偏心フランジ１１３ａおよび１１３ｂ
は、真空チャンバー１０５の開口に対して偏心した位置
に、ビーム接続ベローズに対する開口および固着手段を
備えている。
は、真空チャンバー１０５の開口に対して偏心した位置
に、ビーム接続ベローズに対する開口および固着手段を
備えている。
【００２９】
【発明の効果】本発明は、上述のとおり構成されている
ので、以下に記載するような効果を奏する。
ので、以下に記載するような効果を奏する。
【００３０】ミラーを真空チャンバーと共にミラーの横
軸方向へ移動させることによってミラーの反射面の全幅
を有効に使用することができるため、１個のミラーの使
用可能な期間が長く、従って、ミラー交換の頻度は少
い。またミラーの姿勢調整を改めて行う必要がないの
で、作業も簡単である。
軸方向へ移動させることによってミラーの反射面の全幅
を有効に使用することができるため、１個のミラーの使
用可能な期間が長く、従って、ミラー交換の頻度は少
い。またミラーの姿勢調整を改めて行う必要がないの
で、作業も簡単である。
【図１】第１実施例を示す一部破断斜視図である。
【図２】第１実施例のディテクターユニットおよびシャ
ッターユニットを取りはずした状態を示す側面図であ
る。
ッターユニットを取りはずした状態を示す側面図であ
る。
【図３】第１実施例の主要部を示す部分立面図である。
【図４】大枠フレームの主要部を示し、（ａ）は大枠フ
レームの後方下部およびその直下に位置する架台上の一
部を示す部分側面図、（ｂ）は大枠フレームの駆動部分
の構造を示す部分断面図である。
レームの後方下部およびその直下に位置する架台上の一
部を示す部分側面図、（ｂ）は大枠フレームの駆動部分
の構造を示す部分断面図である。
【図５】フランジの変形例を示し、（ａ）はビーム接続
の取付けフランジを示す平面図、（ｂ）および（ｃ）は
それぞれ接続ベローズの２種類の偏心フランジを示す平
面図、（ｄ）は（ｂ）のＡ−Ａ’線に沿う断面図であ
る。
の取付けフランジを示す平面図、（ｂ）および（ｃ）は
それぞれ接続ベローズの２種類の偏心フランジを示す平
面図、（ｄ）は（ｂ）のＡ−Ａ’線に沿う断面図であ
る。
Ａ ミラー支持装置 Ｂ 架台構造体 １０１ ミラー １０２ ミラー保持器 １０３ 保持器支持板 １０４ ミラー支持棒 １０５ 真空チャンバー １０６ ミラー支持体 １１０ ｙ駆動モーター １１１ａ，１１１ｂ ビーム接続ベローズ １１３ 取付けフランジ １１３ａ，１１３ｂ 偏心フランジ ２０１ チルト板 ３０１ 基準フレーム ４０１ 大枠フレーム ４０２ Ｌ型金具 ５０１ 架台上 ５０２ａ，５０２ｂ Ｘガイドレール ５０３ Ｘ送りねじ ６０１ 架台下 ６０３ 足 ４００１ Ｘガイド溝部材 ４００２ ナット部材 ４００３ ねじ棒 ４００５ ハンドル
Claims (3)
- 【請求項１】 Ｘ線を所望の方向へ拡大する反射面を備
えたミラーと、前記ミラーを支持するミラー支持手段
と、前記ミラーの周囲を真空雰囲気に保つための真空チ
ャンバーと、前記ミラー支持手段および前記真空チャン
バーを支持する大枠フレームと、前記大枠フレームを、
前記Ｘ線の光路を横切る方向に往復移動自在に支持する
架台手段と、前記大枠フレームを前記Ｘ線の光路を横切
る方向に駆動する駆動手段とからなるＳＲ−Ｘ線ミラー
ユニット - 【請求項２】 駆動手段が、架台手段に回転自在に支持
されたねじ棒と、大枠フレームに一体的に設けられた、
前記ねじ棒に螺合するナットとからなる請求項１記載の
ＳＲ−Ｘ線ミラーユニット。 - 【請求項３】 真空チャンバーが、少くとも一端に偏心
フランジを取付け可能であるビーム接続ベローズを介し
て、Ｘ線の光路を包囲するビームダクトに連結されてい
ることを特徴とする請求項１または２記載のＳＲ−Ｘ線
ミラーユニット。
Priority Applications (6)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3289274A JPH05100094A (ja) | 1991-10-08 | 1991-10-08 | Ｓｒ−ｘ線ミラーユニツト |
| DE69225378T DE69225378T2 (de) | 1991-09-30 | 1992-09-30 | Röntgenbelichtungsvorrichtung und Verfahren |
| EP92308909A EP0540178B1 (en) | 1991-09-30 | 1992-09-30 | X-ray exposure apparatus and method for using it |
| SG1996009700A SG50723A1 (en) | 1991-09-30 | 1992-09-30 | X-ray exposure apparatus |
| CA002079562A CA2079562C (en) | 1991-09-30 | 1992-09-30 | X-ray exposure apparatus |
| US08/275,661 US5448612A (en) | 1991-09-30 | 1994-07-15 | X-ray exposure apparatus |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3289274A JPH05100094A (ja) | 1991-10-08 | 1991-10-08 | Ｓｒ−ｘ線ミラーユニツト |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05100094A true JPH05100094A (ja) | 1993-04-23 |
Family
ID=17741046
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3289274A Pending JPH05100094A (ja) | 1991-09-30 | 1991-10-08 | Ｓｒ−ｘ線ミラーユニツト |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH05100094A (ja) |
-
1991
- 1991-10-08 JP JP3289274A patent/JPH05100094A/ja active Pending
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