JP2010010593A - 防振装置、ステージ装置及び露光装置 - Google Patents

Abstract

【課題】構造体の位置や姿勢の制御を高精度に行うことが可能な防振装置、ステージ装置及び露光装置を提供すること。
【解決手段】構造体を支持して防振する防振装置であって、前記構造体の位置及び姿勢のうち少なくとも一方を補正する第１アクチュエータと、前記構造体の弾性変形を補正する第２アクチュエータとを備える。
【選択図】図６

Description

本発明は、防振装置、ステージ装置及び露光装置に関する。

半導体素子や液晶表示素子等のマイクロデバイスはマスク上に形成されたパターンを感光性の基板上に転写する、いわゆるフォトリソグラフィの手法により製造される。フォトリソグラフィ工程で使用される露光装置としては、マスク定盤上でマスクを支持して２次元移動するマスクステージと基板を支持して２次元移動する基板ステージとを有するものが知られている。

このような露光装置は、マスクステージ及び基板ステージを逐次移動しながら、マスク上に形成されたパターンを基板に投影して転写する構成になっている。パターンの転写の際には、マスクと基板との間の相対位置を高精度に一致させることが要求される。特に半導体素子の製造においては、形成されるパターンが微細になっており、露光装置を構成する構造体の位置や姿勢を高精度に制御することが求められている。
特開平８−１６６０４３号公報

構造体の位置や姿勢の制御を行う際、共振による振動が問題となる。例えばマスク定盤など構造体が板状に形成されている場合、共振によって曲げやねじれなどの弾性変形が生じてしまい、高精度の制御が困難になる。板状部材に限られず、他の形状の構造体であっても同様の問題がある。加えて、近年では、より高精度の制御を行うため、当該制御に用いられる周波数帯域をより高周波帯域に拡大する動きがある。高周波帯域での制御においては共振が発生しやすく、当該共振の発生は高精度の制御を維持しつつ制御帯域を拡大する上で問題となりうる。

以上のような事情に鑑み、本発明の目的は、構造体の位置や姿勢の制御を高精度に行うことが可能な防振装置、ステージ装置及び露光装置を提供することにある。

上記目的を達成するため、本発明に係る防振装置（８、２９）は、構造体（３、２）を支持して防振する防振装置であって、前記構造体の位置及び姿勢のうち少なくとも一方を補正する第１アクチュエータ（８ａ、３１）と、前記構造体の弾性変形を補正する第２アクチュエータ（８ｃ、３２）とを備える。
本発明によれば、構造体の位置及び姿勢のうち少なくとも一方を補正する第１アクチュエータに加えて、構造体の弾性変形を補正する第２アクチュエータを備えるので、当該第２アクチュエータによって機械的な力を構造体に加えることで弾性変形を補正することができる。これにより、構造体の位置や姿勢の制御を高精度に行うことができる。

本発明に係るステージ装置（ＭＳＴ、ＰＳＴ）は、上記の防振装置を備えている。
本発明は、位相のズレを生じさせることなく構造体の共振の発生を抑えることが可能な防振装置を備えているので、位置や姿勢の制御を高精度に行うことができるステージ装置を得ることができる。

本発明に係る露光装置（ＥＸ）は、上記のステージ装置（ＭＳＴ、ＰＳＴ）を備えている。
本発明によれば、位置や姿勢の制御を高精度に行うことができるステージ装置を備えるので、微細なパターンを高精度に転写することができ、高精度の露光処理が可能な露光装置を得ることができる。

なお、本発明をわかりやすく説明するために、一実施例を示す図面の符号に対応付けて説明したが、本発明が実施例に限定されるものではないことは言うまでもない。

本発明によれば、構造体の位置や姿勢の制御を高精度に行うことができる。

以下、本発明の実施形態について図面を参照しながら説明するが、本発明はこれに限定されない。以下の説明においては、ＸＹＺ直交座標系を設定し、このＸＹＺ直交座標系を参照しつつ各部材の位置関係について説明する。水平面内の所定方向をＸ軸方向、水平面内においてＸ軸方向と直交する方向をＹ軸方向、Ｘ軸方向及びＹ軸方向のそれぞれと直交する方向（鉛直方向）をＺ軸方向とする。また、Ｘ軸、Ｙ軸、及びＺ軸まわりの回転（傾斜）方向をそれぞれ、θＸ、θＹ、及びθＺ方向とする。

図１は、本実施形態に係る露光装置ＥＸの一例を示す概略構成図である。図１において、露光装置ＥＸは、露光光ＥＬによってマスクＭ上の照明領域を照明する照明光学系ＩＬと、マスクＭを保持して移動させるマスクステージ装置ＭＳＴと、露光光ＥＬによって照明されたマスクＭのパターンの像を基板Ｐに投影する投影光学系ＰＬと、基板Ｐを保持して移動させる基板ステージ装置ＰＳＴと、これら各部を支持するボディ４と、露光装置ＥＸ全体の動作を制御する制御装置ＣＯＮＴとを備えている。ボディ４は、床面に水平に載置されたベースプレート５と、当該ベースプレート５上に設置されたリアクションフレーム６と、当該リアクションフレーム６上に固定された支持コラム７とを有している。リアクションフレーム６の上部側及び下部側には、内側に向けて突出する突出部６ａ及び６ｂが設けられている。制御装置ＣＯＮＴは、例えばコンピュータシステムを含む。

本実施形態の露光装置ＥＸは、マスクＭと基板Ｐとを所定の走査方向に同期移動しつつ、マスクＭを介した露光光ＥＬで基板Ｐを露光する走査型露光装置（所謂スキャニングステッパ）である。本実施形態においては、基板Ｐの走査方向（同期移動方向）をＹ軸方向とし、マスクＭの走査方向（同期移動方向）もＹ軸方向とする。

本実施形態において、マスクＭは、基板Ｐに投影されるデバイスパターンが形成されたレチクルを含む。マスクＭは、例えばガラス板等の透明板にクロム等の遮光膜を用いて所定のパターンが形成された透過型マスクである。この透過型マスクは、遮光膜でパターンが形成されるバイナリーマスクに限られず、例えばハーフトーン型、あるいは空間周波数変調型などの位相シフトマスクも含む。また、本実施形態においては、マスクＭとして透過型マスクを用いるが、反射型マスクでもよい。

本実施形態において、基板Ｐは、デバイスを製造するための基板であって、例えばシリコンウエハのような半導体ウエハ等の基材に感光膜が形成されたものを含む。感光膜は、感光材（フォトレジスト）の膜である。また、基板Ｐにおいて、感光膜上に保護膜（トップコート膜）のような各種の膜が形成されていてもよい。

照明光学系ＩＬは露光光ＥＬを射出する光源であり、支持コラム７によって支持されている。照明光学系ＩＬは、所定の位置関係で配置されたミラー、可変減光器、ビーム成形光学系、オプティカルインテグレータ、集光光学系、振動ミラー、照明系開口絞り板、ビームスプリッタ、リレーレンズ系、及びブラインド機構（設定装置）等を備えている。照明光学系ＩＬより射出される露光光ＥＬとしては、例えばＡｒＦエキシマレーザ光（波長１９３ｎｍ）などが用いられている。

マスクステージ装置ＭＳＴは、マスク定盤３、ステージ部２２０、当該ステージ部２２０を取り囲むように配置された枠状部材２３０を備える。
マスク定盤３は平面視矩形の板状部材であり、防振ユニット８を介してリアクションフレーム６にほぼ水平に支持されている。マスク定盤３には、当該マスク定盤３のＺ方向上の位置を検出するセンサ（不図示）が複数箇所に設けられている。

防振ユニット８は、マスク定盤３の底面３ｃに設けられたボイスコイルモータ８ａ及び８ｃと、ボイスコイルモータ８ａをＺ軸方向に支持するエアマウント８ｂとを有している。ボイスコイルモータ８ａ及び８ｃは、電磁力によってマスク定盤３をＺ軸方向に駆動する駆動機構である。

ボイスコイルモータ８ａは、マスク定盤３を駆動することによりマスク定盤３のＺ軸方向上の位置や姿勢を補正するアクチュエータである。ボイスコイルモータ８ａは、エアマウント８ｂを介してリアクションフレーム６の突出部６ａに支持されている。

ボイスコイルモータ８ｃは、マスク定盤３を駆動することによりマスク定盤３の弾性変形を補正するアクチュエータである。ボイスコイルモータ８ｃについては、エアマウント８ｂが設けられていない。当該ボイスコイルモータ８ｃは、例えば不図示の支持部材等を介してリアクションフレーム６に支持された構成になっている。

エアマウント８ｂは、リアクションフレーム６の突出部６ａ上に設けられている。エアマウント８ｂは、所定圧力のエアが充填されたエア室（不図示）を有しており、当該エア室内のエアの圧力によってボイスコイルモータ８ａをＺ軸方向に支持する構成になっている。

図２は本実施形態に係るマスクステージ装置ＭＳＴを示す斜視図、図３はマスクステージ装置ＭＳＴの分解斜視図、図４はステージ部２２０を示す斜視図及び断面図である。
マスク定盤３は、概略板状の部材からなり、その略中央に突出部２１６ａが形成されている。この突出部２１６ａの平面視中央部には、露光用照明光ＥＬを通過させるために、Ｘ軸方向を長手方向とする矩形開口３ａがＺ方向に連通状態で形成され、矩形開口３ａのＸ軸方向の一側と他側には、Ｙ軸方向を長手方向とするＸＺ断面逆Ｌ字状のガイド部２１６ｃ，２１６ｄがそれぞれ設けられている。これらのガイド部２１６ｃ，２１６ｄは、外側に上端部が張り出す状態で設けられ、上端面が突出部２１６ａの上面に平行になっている。

ステージ部２２０は、図４（ａ）に示すように、略矩形形状のステージ本体１６、当該ステージ本体１６からＹ方向に延設された４つの延設部２２４等から構成される。
延設部２２４の底面（下面、−Ｚ側の面）には、延設部２２４の＋Ｙ端部から−Ｙ端部にわたり、図４（ｂ）に示される断面Ｌ字状でＹ軸方向を長手方向とするアングルプレート状の部材（以下、「アングル部材」と呼ぶ）２２７ａ，２２７ｂが固定されている。このアングル部材２２７は、実際には、ネジ部材によって複数箇所でステージ本体１６に固定されている。

上記のアングル部材２２７ａ，２２７ｂは、マスク定盤３のガイド部２１６ｃ，２１６ｄ（図３参照）のそれぞれの上部突出部に側方及び下方から所定のクリアランスをそれぞれ介して係合するものである。すなわち、アングル部材２２７ａ，２２７ｂは、ガイド部２１６ｃ，２１６ｄのそれぞれの上部突出部を、アングル部材２２７ａ，２２７ｂとステージ本体１６とでＸ軸方向の両側から抱え込むように配置される。
また、延設部２２４の底面（−Ｚ側の面）には、それぞれ気体静圧軸受が形成される。
気体静圧軸受により、ステージ部２２０は、マスク定盤３上に数ミクロン程度のクリアランスを介して、非接触に浮上支持される。

このステージ部２２０は、軽量且つ高剛性の素材、例えばＭＭＣ（金属基複合材；Metal Matrix Composite：金属とセラミックスの複合体（アルミ合金又は金属シリコンをマトリックス材として、その中に各種セラミックス強化材を複合化させた素材））により一体化されている。但し、以下の説明では、説明を分かりやすくするために、必要に応じて各部が別部材であるかのような表現を用いる場合がある。上記各部のいずれか１つを他と別部材で構成してもよいし、全てを別部材で構成してもよい。

ステージ部２２０の−Ｙ方向の端部には、コーナーキューブからなる一対のＹ移動鏡２３３ａ，２３３ｂが固定され、外部に設けた干渉計（不図示）によって、Ｙ移動鏡２３３ａ，２３３ｂのＹ方向の位置を測定することで、ステージ部２２０のＹ方向の位置（マスクＭのＹ方向の位置）が高精度に計測される。

また、ステージ本体１６の略中央には、露光用照明光ＥＬの通路となる段付き開口２２３が形成され、この段付き開口２２３の段部（１段掘り下げられた部分）には、マスクＭを下側から吸着保持するホルダ２２５が設けられる。更に、段付き開口２２３のＸ方向の両辺に沿って、４つ（各辺にそれぞれ２つ）のレチクルクランプ２７０が配置される。

ステージ部２２０において、段付き開口２２３のＸ方向の両側には、リニアモータ２０の可動子ユニット２４４が配置される。可動子ユニット２４４は、図４（ｂ）に示すように、ステージ本体１６の上面及び下面に一対の磁極ユニット２４４ａ，２４４ｂが埋め込まれる。更に、Ｘ方向の端部には、ボイスコイルモータ２５０の可動子ユニット２５４が配置される。可動子ユニット２５４としては、板状の永久磁石２５４ａが用いられる。

レチクルステージ駆動系は、ステージ部２２０をＹ方向に駆動するとともにθｚ方向に微小駆動する一対のリニアモータ２０と、ステージ部２２０をＸ方向に微小駆動するボイスコイルモータ２５０からなる。一対のリニアモータ２０は、枠状部材２３０の内部のＸ方向両側に、それぞれＹ方向に架設された固定子ユニット２４２及び上述した可動子ユニット２４４から構成される。また、ボイスコイルモータ２５０は、枠状部材２３０の内部の−Ｘ側に、Ｙ軸方向に架設された固定子ユニット２５２及び上述した可動子ユニット２５４から構成される。

固定子ユニット２４２は、Ｙ軸方向を長手方向とする一対のＹ軸リニアガイド２４２ａ，２４２ｂからなり、Ｚ方向に所定間隔を空けて相互に対向して且つＸＹ面にそれぞれ平行に保持されて、枠状部材２３０の内壁面に固定される。そして、Ｙ軸リニアガイド２４２ａ，２４２ｂの内部には、Ｙ軸方向に所定間隔で複数の電機子が配置される。そして、各Ｙ軸リニアガイド２４２ａ，２４２ｂの間には、所定のクリアランスを介して、ステージ部２２０の磁極ユニット２４４ａ，２４４ｂが配置される。

固定子ユニット２５２は、Ｙ軸方向を長手方向とする一対の電機子ユニット２５２ａ，２５２ｂからなり、Ｚ方向に所定間隔を空けて相互に対向して且つＸＹ面にそれぞれ平行に保持されて、枠状部材２３０の内壁面に固定される。そして、電機子ユニット２５２ａ，２５２ｂの間には、所定のクリアランスを介して、ステージ部２２０の永久磁石２５４ａが配置される。

このように、Ｙ軸リニアガイド２４２ａ，２４２ｂ及び磁極ユニット２４４ａ，２４４ｂによりステージ部２２０をＹ方向に移動可能なムービングマグネット型のリニアモータ２０が構成される。また、電機子ユニット２５２ａ，２５２ｂと永久磁石２５４ａとにより、ステージ部２２０をＸ方向に微小移動可能なムービングマグネット型のボイスコイルモータ２５０が構成される。

そして、Ｙ軸リニアガイド２４２ａ，２４２ｂ内の電機子コイルに電流が供給されると、ステージ部２２０をＹ方向に駆動する駆動力が発生する。また、電機子ユニット２５２ａ，２５２ｂを構成する電機子コイルにＹ軸方向の電流が流れると、ステージ部２２０をＸ方向に駆動する駆動力が発生する。

枠状部材２３０は、その下面に気体静圧軸受が形成される。これにより、枠状部材２３０は、マスク定盤３上に数ミクロン程度のクリアランスを介して非接触に浮上支持される。また、枠状部材２３０の＋Ｘ側面及び＋Ｙ側面には、磁気ユニットからなる可動子２６１，２６３，２６５，２６７が設けられる。これら可動子２６１，２６３，２６５，２６７に対応して、マスク定盤３には、支持台２１２を介して、電機子ユニットからなる固定子２６２，２６４，２６６，２６８が設けられる。可動子２６１，２６３，２６５，２６７は、その内部に永久磁石を備えており、Ｚ方向の磁界を形成する。固定子２６２，２６４は、その内部に電機子コイルを備えており、Ｙ方向に電流が流れるように形成される。固定子２６６，２６８は、その内部に電機子コイルを備えており、Ｘ方向に電流が流れるように形成される。

したがって、可動子２６１，２６３と固定子２６２，２６４により、ムービングマグネット型ボイスコイルモータからなるＸ軸方向駆動用のトリムモータ２６０Ｘが構成される。同様に、可動子２６５，２６７と固定子２６６，２６８により、ムービングマグネット型ボイスコイルモータからなるＹ軸方向駆動用のトリムモータ２６０Ｙが構成される。このように、４つのトリムモータ２６０Ｘ，２６０Ｙにより、枠状部材２３０をＸ軸方向、Ｙ軸方向、及びθｚ方向の３自由度方向に駆動することが可能である。また、枠状部材２３０の−Ｘ方向及び−Ｙ方向の側壁には、それぞれ窓ガラス２３２，２３４がはめ込まれており、ステージ部２２０の位置を計測するレーザ干渉計（不図示）からの測長ビームが透過可能となっている。

ステージ部２２０のＹ方向の位置は、レーザ干渉計から発した測長ビームを、窓ガラス２３４を介してＹ移動鏡２３３ａ，２３３ｂに照射し、その反射光を検出することで行われる。ステージ部２２０のＸ方向、θｚ方向の位置は、マスク定盤３に固定されたＸ固定鏡（図示せず）に複数の測長ビームを照射し、その反射光を検出することがで行われる。このＸ固定鏡は、ステージ部２２０の移動範囲をカバーするようにＹ方向に沿って長尺に形成されており、枠状部材２３０の外部に設置される。窓ガラス２３４を通過した測長ビームは、ステージ部２２０に固定された光学素子によって光路を略９０度曲げられ、その後、窓ガラス２３２を通過してＸ固定鏡に達するようになっている。なお、枠状部材２３０に窓ガラス２３２，２３４を設けず、枠状部材２３０の内側（枠内）に前記測長ビームの射出部とＸ固定鏡とを配置するようにしてもよい。

このように構成されたマスクステージ装置ＭＳＴでは、ステージ部２２０の移動に伴う反力が枠状部材２３０の移動によりキャンセルされる。例えば、ステージ部２２０がＸ軸方向に駆動されると、ボイスコイルモータ２５０の可動子がステージ部２２０と一体でＸ軸方向に駆動され、この駆動力の反力がボイスコイルモータ２５０の固定子（電機子ユニット２５２ａ，２５２ｂ）及び固定子が固定された枠状部材２３０に作用する。枠状部材２３０は、マスク定盤３に対して所定のクリアランスを介して非接触に支持されているので、上述した反力の作用により、枠状部材２３０は、運動量保存の法則に従った距離だけその反力に応じた方向に移動する。同様に、Ｙ軸方向に駆動された場合にも、運動量保存の法則に従って、枠状部材２３０が移動する。特に、枠状部材２３０がステージ部２２０を取り囲むように形成されているので、必然的に大型化し、その重量が大きくなる。したがって、ステージ部２２０との重量比を大きくすることができる。このため、枠状部材２３０の移動距離は、比較的短くて足りる。

図１に戻って、投影光学系ＰＬは、マスクＭを透過した露光光ＥＬを基板Ｐ上に投影する光学系であり、１／４（または１／５）縮小倍率の屈折光学系が用いられている。投影光学系ＰＬは、鏡筒１０及びフランジ１１を有している。鏡筒１０は、内部に複数の光学素子を保持している。光学素子としては、例えば物体面（マスクＭ）側と像面（基板Ｐ）側の両方がテレセントリックで円形の投影視野を有し、石英や蛍石を光学硝材とした屈折光学素子（レンズ素子）が用いられている。フランジ１１は、鏡筒１０の外周に当該鏡筒１０と一体的に設けられた突出部であり、鏡筒定盤１２に係合されている。鏡筒定盤１２は、投影光学系ＰＬを保持するための板状部材であり、防振ユニット１３を介してリアクションフレーム６の突出部６ｂにほぼ水平に支持されている。鏡筒定盤１２の平面視中央部には、投影光学系ＰＬを貫通させるための貫通孔１２ａが設けられている。

基板ステージ装置ＰＳＴは、基板定盤２と、当該基板定盤２に沿ってＸＹ方向に移動可能に支持されたステージ本体２７とを有している。基板定盤２は平面視矩形の板状部材であり、三角形の頂点に配置された防振ユニット２９（なお、紙面奥側の防振ユニットについては図示せず）を介してベースプレート５にほぼ水平に支持されている。防振ユニット２９は、内圧が調整可能なエアマウント３０と、基板定盤２に対して推力を付与するボイスコイルモータ３１とがベースプレート５上に並列に配置された構成になっている。これら防振ユニット２９によって、ベースプレート５を介して基板定盤２に伝わる微振動がマイクロＧレベル（Ｇは重力加速度）で絶縁されるようになっている。

ステージ本体２７の上面には、基板ホルダ４１が設けられている。当該基板ホルダ４１を介して基板Ｐが真空吸着等によって固定されるようになっている。投影光学系ＰＬの鏡筒１０下端には参照鏡４２が固定されている。ステージ本体２７の一部には移動鏡４３が固定されている。鏡筒定盤１２の底面にはレーザ干渉計４４が固定されている。ステージ本体２７のＸ方向の位置は、参照鏡４２を基準とする移動鏡４３の位置変化がレーザ干渉計４４によって計測されるようになっており、当該レーザ干渉計４４によって所定の分解能、例えば０．５〜１ｎｍ程度の分解能でリアルタイムに計測されるようになっている。これら参照鏡４２、移動鏡４３、レーザ干渉計４４とほぼ直交するように不図示の参照鏡、レーザ干渉計および移動鏡が設けられており、ステージ本体２７のＹ方向の位置についても計測されるようになっている。これらレーザ干渉計のうち、少なくとも一方は、測長軸を２軸以上有する多軸干渉計である。これらレーザ干渉計の計測値に基づいてステージ本体２７（ひいてはウエハＷ）のＸＹ位置のみならず、θ回転量あるいはこれらに加え、レベリング量をも求めることができるようになっている。

投影光学系ＰＬのフランジ１１には、異なる３カ所に３つのレーザ干渉計４５が、基板定盤２とのＺ方向の相対位置を検出するための検出装置として固定されている（図１においてはこれらのレーザ干渉計のうち１つが代表的に示されている）。各レーザ干渉計４５に対向する鏡筒定盤１２の部分には、開口１２ｂがそれぞれ形成されており、これらの開口１２ｂを介して各レーザ干渉計４５からＺ方向のレーザビーム（測長ビーム）が基板定盤２に向けて照射されるようになっている。基板定盤２の上面の各測長ビームの対向位置には、反射面がそれぞれ形成されている。上記３つのレーザ干渉計４５によって基板定盤２の異なる３点のＺ位置がフランジ１１を基準としてそれぞれ計測されるようになっている。

ステージ本体２７の底面には、非接触ベアリングである複数のエアベアリング（エアパッド）２８が固定されている。ステージ本体２７は、これらのエアベアリング２８によって、基板定盤２上に、例えば数ミクロン程度のクリアランスを介して浮上支持されている。ステージ本体２７の底部にはガイドバーＸＧが設けられている。ガイドバーＸＧは、ステージ本体２７を相対移動自在に支持している。ガイドバーＸＧの両端部は、それぞれリニアモータ３３に接続されている。

図５は、基板ステージ装置ＰＳＴの構成を示す斜視図である。
図１及び図５に示すように、基板定盤２上には、エアパッド５４を介してリニアモータ３３が設けられている。リニアモータ３３は、基板定盤２上のうちＸ軸方向の両端部に一対配置されている。リニアモータ３３は、電機子ユニットからなる可動子３６と、当該可動子３６に対応する磁石ユニットを有する固定子３７とを有するムービングコイル型のリニアモータである。

ガイドバーＸＧは、Ｘ方向に沿った長尺形状を呈しており、その長さ方向両端にはリニアモータ３３の可動子３６（図５では１つのみ図示）がそれぞれ接続されている。固定子３７は、基板定盤２上にエアパッド５４を介して設けられている。可動子３６が固定子３７との間の電磁気的相互作用により駆動されることで、ガイドバーＸＧはＹ方向に移動するようになっており、当該リニアモータ３３の駆動を調整することでθＺ方向に回転移動するようにもなっている。したがって、リニアモータ３３によってガイドバーＸＧとほぼ一体的にステージ本体２７がＹ方向およびθＺ方向に駆動されるようになっている。ステージ本体２７は、Ｙ方向の移動に対応するガイド部材を有さないガイドレスステージとなっているが、Ｘ方向に関しても適宜ガイドレスステージとすることができる。

固定子３７は、エアパッド５４を介してそれぞれＹ方向に移動自在にそれぞれ浮揚支持されている。このため、運動量保存の法則により、ステージ本体２７の例えば＋Ｙ方向の移動に応じて、固定子３７は−Ｙ方向に移動する。換言すると、固定子３７は、カウンタマスとして機能しており、その移動によりステージ本体２７の移動に伴う反力を相殺するとともに、重心位置の変化を防ぐことができる。

＋Ｘ側（図５中、左側）に配置される固定子３７には、ガイドバーＸＧや可動子３６に接続されるエア用配管、冷媒用配管、電力配線および信号供給用のシステム配線等の各種用力供給ケーブル等に応力集中を発生させずに（緩和して）導くための傾斜面が形成されている（但し、図１では便宜上同形状に図示）。

なお、固定子３７には、ステージ本体２７の移動時の運動量に基づいて当該固定子３７の運動量を補正するトリムモータ（不図示）が備えられている。このトリムモータは、例えば固定子３７のＹ側端部にＹ方向に沿って延設された円柱状の移動子と、移動子をＹ方向に駆動する固定子とからなるシャフトモータで構成される。ステージ本体２７がＸ方向及びＹ方向の双方に移動する場合や、ガイドバーＸＧの中央部から偏心した位置から移動する場合に左右の固定子３７がその推力配分によってそれぞれ異なる変位が生じたり、可動子３６と固定子３７とのカップリングによりこれらが相対移動した際に元の位置に止まろうとする力が作用したりする場合には、固定子３７が移動すべき位置とは異なる位置に移動する。ステージ本体２７の移動時の運動量に基づいてトリムモータを駆動することで、固定子３７が所定の位置に到達するようにその移動量（運動量）を補正することができる構成になっている。

ステージ本体２７とガイドバーＸＧとの間には磁気ガイドが設けられている。磁気ガイドは、Ｚ方向に所定量のギャップを維持するための磁石およびアクチュエータを有している。ステージ本体２７は、当該磁気ガイドを介して、Ｘ方向に自在に相対移動するようガイドバーＸＧに非接触で支持されている。ガイドバーＸＧには、固定子３５ａを有するリニアモータ３５を有している。ステージ本体２７は、リニアモータ３５による電磁気的相互作用によりＸ方向に駆動されるようになっている。リニアモータ３５の可動子は図示していないが、例えばステージ本体２７に取り付けられている。

次に、上記のように構成された露光装置ＥＸにおいて、マスク定盤３に設けられた防振ユニット８の構成を詳細に説明する。図６は、ボイスコイルモータ８ａ及びボイスコイルモータ８ｃの位置関係を示す図である。図６では、マスク定盤３の底面３ｃ側から見たときの構成を示している。

図６に示すように、マスク定盤３は平面視矩形上に形成されており、Ｙ方向が長手になっている。マスク定盤３の底面３ｃには、ボイスコイルモータ８ａと、ボイスコイルモータ８ｃとが設けられている。ボイスコイルモータ８ａ及びボイスコイルモータ８ｃは、マスク定盤３の開口３ａの周囲にそれぞれ複数設けられている。本実施形態では、ボイスコイルモータ８ａ及びボイスコイルモータ８ｃが平面視でマスク定盤３の底面３ｃの外周に沿って配置されている。

具体的には、ボイスコイルモータ８ａ及びボイスコイルモータ８ｃは、マスク定盤３の底面３ｃの４つの角部及び４つの辺に沿った位置にそれぞれ設けられている。底面３ｃの４つの角部について、−Ｙ側の２つの角部にはボイスコイルモータ８ａがそれぞれ設けられており、＋Ｙ側の２つの角部にはボイスコイルモータ８ｃがそれぞれ設けられている。底面３ｃの４つの辺について、＋Ｙ側の辺の中央部にはボイスコイルモータ８ａが設けられている。−Ｙ側の辺、−Ｘ側の辺及び＋Ｘ側の辺の中央部にはボイスコイルモータ８ｃがそれぞれ設けられている。このように、底面３ｃには、平面視で三角形の頂点の位置にボイスコイルモータ８ａが３つ配置されており、平面視で五角形の頂点の位置にボイスコイルモータ８ｃが５つ配置されている。

ボイスコイルモータ８ａ及びボイスコイルモータ８ｃを駆動した際には熱が生じるため、マスク定盤３には当該ボイスコイルモータ８ａ及びボイスコイルモータ８ｃを冷却するための冷却装置８０が設けられている。冷却装置８０は管状部材８１及び循環機構８２を有している。管状部材８１は、マスク定盤３の側面を囲うように設けられている。管状部材８１は循環機構８２に接続されており、管状部材８１の管内を水や空気などの冷媒が循環するようになっている。他の冷却媒体としては、ＨＦＥ（ハイドロ・フルオロ・エーテル）やフロリナートを用いることが可能である。特にＨＦＥは、地球温暖化係数が低く、オゾン破壊係数がゼロであるため、地球環境保護の観点から好ましい。本実施形態では、ボイスコイルモータ８ａ及びボイスコイルモータ８ｃがマスク定盤３の外周に沿って配置されており、冷却効率に優れた構成になっている。

図７は、ボイスコイルモータ８ａ及びボイスコイルモータ８ｃの制御回路７０を示すブロック図である。当該制御回路は、例えば制御装置ＣＯＮＴ内に設けられている。
同図に示すように、制御回路７０は、フィードバック制御によって補正量を制御するようになっている。当該制御回路７０においては、指令信号７１が演算部７２でフィードバック信号７７により補正された後、補正信号７３がノッチフィルタなどのディジタルフィルタを介することなく推力分配部７４に伝達されるようになっている。推力分配部７４は、補正信号７３をボイスコイルモータ８ａ用の駆動信号７５ａとボイスコイルモータ８ｃ用の駆動信号７５ｂとに分配する。推力分配部７４には、ローパスフィルタ７４ａ及びハイパスフィルタ７４ｂが並列に設けられている。ローパスフィルタ７４ａは各ボイスコイルモータ８ａに接続されており、ハイパスフィルタ７４ｂは各ボイスコイルモータ８ｃに接続されている。補正信号７３のうちローパスフィルタ７４ａによって高周波がカットされた信号はボイスコイルモータ８ａ用の駆動信号７５ａとして用いられるようになっており、ハイパスフィルタ７４ｂによって低周波がカットされた信号はボイスコイルモータ８ｃ用の駆動信号７５ｂとして用いられるようになっている。

制御回路内の指令信号７１としては、ボイスコイルモータ８ａに対してマスク定盤３の位置及び姿勢を補正させる信号を主として含んでいる。フィードバック信号７７としては、マスク定盤３の位置及び姿勢を補正する信号と、マスク定盤３の弾性変形を補正する信号とを含んでいる。このうち、マスク定盤３の弾性変形を補正する信号は、例えばモードシェープベクトル法によって生成されるようになっている。

モードシェープベクトル法による補正信号の生成について説明する。制御装置ＣＯＮＴではマスク定盤３に設けられた複数のセンサの検出値を用いてマスク定盤３のモードシェープが生成されるようになっている。モードシェープの生成は、マスク定盤３のうちセンサが配置された位置においてどのように振動しているのかを測定することで行われる。

例えばマスク定盤３の位置及び姿勢の補正が行われ、マスク定盤３の振動によってモードシェープに変化が生じる場合、制御装置ＣＯＮＴでは当該モードシェープの変化前と変化後の差分がモードシェープベクトルとして算出されるようになっている。このように、モードシェープベクトルは、振動によって生じたマスク定盤３の位置の変化を示すベクトルである。理論上、モードシェープベクトルは、当該モードシェープベクトルとは逆向きで大きさが等しいベクトルを加算されることによって打ち消される。そこで、制御装置ＣＯＮＴでは、このモードシェープベクトルとは逆向きで大きさの等しいベクトルに基づいた移動方向及び移動量が設定され、当該移動方向及び移動量に基づいてフィードバック信号７７が生成されるようになっている。

モードシェープベクトル法によって生成されるフィードバック信号７７としては、具体的には振動による弾性変形を補正するボイスコイルモータ８ｃの駆動信号が含まれる。ボイスコイルモータ８ａによって弾性変形を補正する場合には、当該ボイスコイルモータ８ａの駆動信号も含まれる。

次に、上記の構成の露光装置ＥＸにおける露光動作について以下に説明する。
いずれも不図示のレチクル顕微鏡およびオフアクシス・アライメントセンサ等を用いたレチクルアライメント、ベースライン計測等の準備作業が行われ、その後アライメントセンサを用いた基板Ｐのファインアライメント（ＥＧＡ；エンハンスト・グローバル・アライメント等）が終了し、基板Ｐ上の複数のショット領域の配列座標が求められる。そして、アライメント結果に基づいてレーザ干渉計４４の計測値をモニタしつつ、リニアモータ３３を制御して基板Ｐの第１ショットの露光のための走査開始位置にステージ本体２７を移動する。リニアモータ２０、３３を介してステージ本体１６とステージ本体２７とのＹ方向の走査を開始し、両ステージがそれぞれの目標走査速度に達すると、露光用照明光によってマスクＭのパターン領域が照明され、走査露光が開始される。

この走査露光時には、ステージ本体１６のＹ方向の移動速度と、ステージ本体２７のＹ方向の移動速度とが投影光学系ＰＬの投影倍率（１／５倍あるいは１／４倍）に応じた速度比に維持されるように、リニアモータ２０、３３を介してステージ本体１６及びステージ本体２７を同期制御する。マスクＭのパターン領域の異なる領域が照明光で逐次照明され、パターン領域全面に対する照明が完了することにより、基板Ｐ上の第１ショットの走査露光が完了する。これにより、マスクＭのパターンが投影光学系ＰＬを介して基板Ｐ上の第１ショット領域に縮小転写される。

このようにして、第１ショットの走査露光が終了すると、リニアモータ３３を介してステージ本体２７がＸ、Ｙ方向にステップ移動され、第２ショットの露光のため走査開始位置に移動される。このステップ移動の際に、ステージ本体２７の位置（基板Ｐの位置）を検出するレーザ干渉計４４の計測値に基づいて、ステージ本体２７のＸ、Ｙ、θＺ方向の位置をリアルタイムで計測する。この計測結果に基づいてリニアモータ３３を制御し、ステージ本体２７のＸＹ位置変位が所定の状態になるようにステージ本体２７の位置を制御する。ステージ本体２７のθＺ方向の変位に関しては、この変位の情報に基づいて基板Ｐ側の回転変位の誤差を補正するように、ステージ本体１６を回転制御する。この後、上記第１ショット領域と同様に、第２ショット領域に対して走査露光を行う。そして、基板Ｐ上のショット領域の走査露光と次ショット露光のためのステップ移動とが繰り返し行われ、基板Ｐ上の露光対象ショット領域の全てにマスクＭのパターンが順次転写される。

本実施形態においては、マスク定盤３のＺ方向の位置及び姿勢を補正しながら、上記露光動作が行われる。当該マスク定盤３のＺ方向の位置及び姿勢は、マスク定盤３の底面３ｃに設けられた３つのボイスコイルモータ８ａによって補正される。この位置及び姿勢の補正の際、マスク定盤３には共振による振動が発生する場合がある。特に、３００Ｈｚ〜４００Ｈｚ程度の周波数帯域（所定帯域）内の周波数を有する信号によって制御を行う場合、共振による振動が発生しやすい。振動の発生により、マスク定盤３の形状が弾性的に変形する。マスク定盤３の弾性変形は、制御回路ＣＯＮＴにおいてモードシェープとして測定され、モードシェープベクトル法を用いて底面３ｃに設けられた５つのボイスコイルモータ８ｃにより補正される。

例えば、矩形の板状部材であるマスク定盤３に１次振動が発生すると、マスク定盤３がＺ方向に湾曲する。１次振動の場合、図８に示すように長手方向（Ｙ方向）の中央部が振動の腹となる。本実施形態では、この第１次振動の腹に対応する部分、すなわち、平面視−Ｘ側の辺及び＋Ｘ側の辺の各中央部に、ボイスコイルモータ８ｃが１つずつ設けられている。ボイスコイルモータ８ｃが振幅の最も大きい部分を補正する構成になっているため、マスク定盤３の曲がりを効率的に補正することが可能である。本実施形態では、ボイスコイルモータ８ｃが５つ設けられているため、理論上は５次振動まで対応することが可能となる。

マスク定盤３にねじれが発生する場合もある。矩形の板状部材であるマスク定盤３にねじれが発生する場合、マスク定盤３の平面視中央部から最も離れた位置である角部において最も大きく変形することが多い。本実施形態では、底面３ｃの＋Ｙ側の２つの角部にボイスコイルモータ８ｃが配置されている。ボイスコイルモータ８ｃが変形の大きさの大きい部分を補正する構成になっているため、マスク定盤３のねじれを効率的に補正することが可能である。底面３ｃの−Ｙ側の２つの角部に設けられるボイスコイルモータ８ａは、上述したようにマスク定盤３の位置及び変形を補正するものであるが、当該ボイスコイルモータ８ａをねじれ補正のために用いても構わない。

このように、本実施形態によれば、マスク定盤３の位置及び姿勢を補正するボイスコイルモータ８ａに加えて、マスク定盤３の弾性変形を補正するボイスコイルモータ８ｃを備えるので、当該ボイスコイルモータ８ｃにより機械的な力をマスク定盤３に加えて弾性変形を補正することができる。これにより、マスク定盤３の位置や姿勢を高精度に制御することが可能となる。

また、本実施形態では、所定帯域として３００Ｈｚ〜４００Ｈｚ程度の周波数を有する信号によってマスク定盤３の位置及び姿勢を補正する場合においても共振による振動を抑えることができるので、制御帯域を高周波帯域側へ拡張させて制御を行う場合であっても高精度な制御が可能となる。

以上、添付図面を参照しながら本発明に係る好適な実施形態について説明したが、本発明は係る例に限定されないことは言うまでもない。当業者であれば、特許請求の範囲に記載された技術的思想の範疇内において、各種の変更例または修正例に想到し得ることは明らかであり、それらについても当然に本発明の技術的範囲に属するものと了解される。

例えば、上記実施の形態では、本発明の防振装置をマスクステージ装置ＭＳＴに適用する構成としたが、これに限られず、基板ステージ装置ＰＳＴに適用することも可能である。
図９は、基板定盤２の構成を示す図である。同図では、基板定盤２を底面側から見たときの構成を示している。同図に示すように、基板定盤２を支持する防振ユニット２９が平面視で基板定盤２の三角形の頂点の位置に配置されている。加えて、第１実施形態におけるボイスコイルモータ８ｃと同一の構成のボイスコイルモータ３２が第１実施形態と同一の位置、すなわち、平面視で基板定盤２の五角形の頂点の位置に配置されている。また、上記実施形態のようにモードシェープベクトル法を用いる場合には、基板定盤２のＺ軸方向の位置を検出する不図示のセンサを複数配置させておく。

さらに、図９に示す構成において、基板定盤２には開口部が設けられていないため、本発明の防振装置を基板ステージ装置ＰＳＴに適用する場合、平面視で基板定盤２の中央部にボイスコイルモータ３２を配置することができる。これらのボイスコイルモータ３２は、不図示の支持部材等によってベースプレート５に支持されるようにする。基板定盤２の平面視中央部は基板定盤２の振動の腹になりやすいため、当該位置にボイスコイルモータ３２を配置することで効率的に弾性変形を補正することができる。

また、上記実施形態では、マスク定盤３の４辺の中央部及び４つの角部に配置する構成であったが、これに限られることは無い。例えばマスク定盤３に２次振動が発生した場合には、図１０に示すように、マスク定盤３の長手方向（図１０左右方向）に振動の腹が２箇所形成されることになる。これに対して、図９に示すように、当該２つの振動の腹となる位置にもボイスコイルモータ８ｃを配置する構成とすることができる。図１１は、マスク定盤３を底面側から見たときの構成を示している。同図に示す構成においては、ボイスコイルモータ８ｃが、二次振動の腹に位置するようにマスク定盤３を長手方向に４分割する位置に配置されている。このように、開口３ａの周囲の所望の位置にボイスコイルモータ８ｃを配置することにより、高次の振動にも対応することができるため、更に高精度の補正が可能となる。

本発明においては、弾性変形を補正する第２アクチュエータ（ボイスコイルモータ８ｃ）をマスク定盤３や基板定盤２などの構造体に取り付ける構成としたので、当該第２アクチュエータを複数配置することも可能であり、複数配置するアクチュエータを所望の位置に配置することも可能である。したがって、構造体に発生する振動に応じて第２アクチュエータの位置及び個数を柔軟に設定することが可能である。

例えば、第２アクチュエータを構造体の振動の腹に配置する上記の各構成は本発明の好ましい形態の一つであるが、これに限られることは無く、第２アクチュエータを構造体の振動の腹以外の位置、例えば構造体が平面視矩形である場合には平面視で角部のみ又は平面視で辺に沿った部分のみに第２アクチュエータを配置する構成であっても勿論構わない。また、第２アクチュエータを複数配置する上記の各構成は本発明の好ましい形態の一つであるが、これに限られることは無く、例えば第２アクチュエータを構造体に１つだけ配置する構成であっても勿論構わない。また、第１アクチュエータについても同様に、複数配置しても良いし、単数のみ配置しても良い。第１アクチュエータを設ける位置についても、平面視角部のみ又は平面視で辺に沿った部分のみであっても構わない。

また、上記記載においては、本発明に係る防振装置を構造体としてマスク定盤３及び基板定盤２に適用した例に挙げて説明したが、これに限られることはなく、例えば構造体として鏡筒定盤１２などの板状部材や、当該板状部材に限られずボディ４を構成する部材などの他の部材に対しても、本発明の防振装置を適用することが可能である。

また、上記実施形態では、防振ユニット８のうちボイスコイルモータ８ａのみがエアマウント８ｂによって支持された構成としたが、これに限られることは無く、例えばボイスコイルモータ８ｃについてもエアマウント８ｂによって支持される構成としても勿論構わない。また、上記各記載においては、第２アクチュエータとしてボイスコイルモータ８ｃを例に挙げて説明したが、これに限られることは無く、他のアクチュエータを用いても構わない。

また、上記実施形態においては、モードシェープベクトル法を用いて構造体の弾性変形の補正を行う構成であったが、これに限られることは無く、他の手法によって構造体の弾性変形の補正を行うようにしても構わない。

また、基板Ｐとしては、半導体デバイス製造用の半導体ウエハのみならず、ディスプレイデバイス用のガラス基板や、薄膜磁気ヘッド用のセラミックウエハ等についても適用される。

露光装置ＥＸとしては、マスクＭと基板Ｐとを同期移動してマスクＭのパターンを走査露光するステップ・アンド・スキャン方式の走査型露光装置（スキャニングステッパ）の他に、マスクＭと基板Ｐとを静止した状態でマスクＭのパターンを一括露光し、基板Ｐを順次ステップ移動させるステップ・アンド・リピート方式の投影露光装置（ステッパ）にも適用することができる。

さらに、ステップ・アンド・リピート方式の露光において、第１パターンと基板Ｐとをほぼ静止した状態で、投影光学系を用いて第１パターンの縮小像を基板Ｐ上に転写した後、第２パターンと基板Ｐとをほぼ静止した状態で、投影光学系を用いて第２パターンの縮小像を第１パターンと部分的に重ねて基板Ｐ上に一括露光してもよい（スティッチ方式の一括露光装置）。また、スティッチ方式の露光装置としては、基板Ｐ上で少なくとも２つのパターンを部分的に重ねて転写し、基板Ｐを順次移動させるステップ・アンド・スティッチ方式の露光装置にも適用できる。

また、露光装置ＥＸとして、米国特許第６３４１００７号明細書、米国特許第６４００４４１号明細書、米国特許第６５４９２６９号明細書、米国特許第６５９０６３４号明細書、米国特許第６２０８４０７号明細書、及び米国特許第６２６２７９６号明細書等に開示されているような、複数の基板ステージを備えたツインステージ型の露光装置にも適用できる。この場合、複数の基板ステージのそれぞれについて、本発明に係る防振装置を適用することができる。

更に、米国特許第６８９７９６３号明細書、欧州特許出願公開第１７１３１１３号明細書等に開示されているような、基板を保持する基板ステージと、基準マークが形成された基準部材及び／又は各種の光電センサを搭載した計測ステージとを備えた露光装置にも本発明を適用することができる。また、複数の基板ステージと計測ステージとを備えた露光装置を採用することができる。この場合、複数の基板ステージ及び計測ステージについても、本発明に係る防振装置を適用することができる。

また、例えば国際公開第９９／４９５０４号パンフレット等に開示されているような、液体を介して露光光で基板を露光する液浸露光装置に適用することもできる。

露光装置ＥＸの種類としては、ウエハに半導体素子パターンを露光する半導体素子製造用の露光装置に限られず、液晶表示素子製造用又はディスプレイ製造用の露光装置や、薄膜磁気ヘッド、撮像素子（ＣＣＤ）あるいはレチクル又はマスクなどを製造するための露光装置などにも広く適用できる。

また、本発明が適用される露光装置は、本願特許請求の範囲に挙げられた各構成要素を含む各種サブシステムを、所定の機械的精度、電気的精度、光学的精度を保つように、組み立てることで製造される。これら各種精度を確保するために、この組み立ての前後には、各種光学系については光学的精度を達成するための調整、各種機械系については機械的精度を達成するための調整、各種電気系については電気的精度を達成するための調整が行われる。各種サブシステムから露光装置への組み立て工程は、各種サブシステム相互の、機械的接続、電気回路の配線接続、気圧回路の配管接続等が含まれる。この各種サブシステムから露光装置への組み立て工程の前に、各サブシステム個々の組み立て工程があることはいうまでもない。各種サブシステムの露光装置への組み立て工程が終了したら、総合調整が行われ、露光装置全体としての各種精度が確保される。なお、露光装置の製造は温度およびクリーン度等が管理されたクリーンルームで行うことが望ましい。

また、半導体デバイスは、デバイスの機能・性能設計を行う工程、この設計ステップに基づいたマスク（レチクル）を製作する工程、シリコン材料からウエハを製造する工程、前述した実施形態の露光装置によりレチクルのパターンをウエハに露光するウエハ処理工程、デバイス組み立て工程（ダイシング工程、ボンディング工程、パッケージ工程を含む）、検査工程等を経て製造される。

本発明の実施の形態に係る露光装置の概略構成図。 露光装置のマスクステージ装置の構成を示す斜視図。 マスクステージ装置の構成を示す分解斜視図。 ステージ本体の構成を示す図。 露光装置の基板ステージ装置の構成を示す斜視図。 露光装置のマスク定盤の構成を示す平面図。 マスク定盤の駆動系の構成を示すブロック図。 マスク定盤の振動の様子を示す側面図。 基板定盤の構成を示す平面図。 マスク定盤の他の振動の様子を示す側面図。 マスク定盤の他の構成を示す平面図。

符号の説明

ＥＸ…露光装置 Ｍ…マスク ＭＳＴ…マスクステージ装置 Ｐ…基板 ＰＳＴ…基板ステージ装置 ＣＯＮＴ…制御装置 ２…基板定盤 ３…マスク定盤 ３ａ…開口 ６ａ…突出部 ８…防振ユニット ８ａ、８ｃ、３１、３２…ボイスコイルモータ ８ｂ、３０…エアマウント １６、２７…ステージ本体 ２９…防振ユニット ３２…ボイスコイルモータ ２０、３３…リニアモータ ７０…制御回路 ７４…推力分配部

Claims (18)

1. 構造体を支持して防振する防振装置であって、
   前記構造体の位置及び姿勢のうち少なくとも一方を補正する第１アクチュエータと、
   前記構造体の弾性変形を補正する第２アクチュエータと
   を備える防振装置。
2. 前記構造体は、板状部材である請求項１に記載の防振装置。
3. 前記構造体は、平面視で中央部に開口部を有する請求項２に記載の防振装置。
4. 前記第１アクチュエータ及び前記第２アクチュエータのうち少なくとも一方は、複数設けられている請求項１から請求項３のうちいずれか一項に記載の防振装置。
5. 前記構造体は、平面視矩形状になっており、
   前記第１アクチュエータ及び前記第２アクチュエータのうち少なくとも一方は、前記構造体の平面視における角部に配置されている請求項１から請求項４のうちいずれか一項に記載の防振装置。
6. 前記構造体は、平面視矩形状になっており、
   前記第１アクチュエータ及び前記第２アクチュエータのうち少なくとも一方は、前記構造体の平面視における辺に沿った位置に配置されている請求項１から請求項４のうちいずれか一項に記載の防振装置。
7. 前記第１アクチュエータ及び前記第２アクチュエータは、前記開口部の周囲に配置されている請求項３に記載の防振装置。
8. 前記弾性変形は、前記構造体の形状の変形である請求項１から請求項７のうちいずれか一項に記載の防振装置。
9. 前記弾性変形は、所定帯域の振動数の振動による前記構造体の形状の変形である請求項１から請求項８のうちいずれか一項に記載の防振装置。
10. 前記第２アクチュエータは、前記構造体の前記振動の腹に対応する位置に配置されている請求項９に記載の防振装置。
11. 前記弾性変形は、前記構造体の湾曲及びねじれのうち少なくとも一方を含む請求項１から請求項１０のうちいずれか一項に記載の防振装置。
12. 前記第２アクチュエータは、モードシェープベクトル法を用いて前記構造体の弾性変形を制御する請求項１から請求項１１のうちいずれか一項に記載の防振装置。
13. 前記第１アクチュエータは、気体バネによって支持されている請求項１から請求項１２のうちいずれか一項に記載の防振装置。
14. 請求項１から請求項１３のうちいずれか一項に記載の防振装置を備えるステージ装置。
15. 請求項１４に記載のステージ装置を備え、基板を用いて露光処理を行う露光装置。
16. 前記基板は前記露光処理に用いるマスクであり、
    前記マスクを保持して移動させるマスクステージを備え、
    前記マスクステージは、請求項１４に記載のステージ装置である請求項１５に記載の露光装置。
17. 前記基板の表面には感光剤が塗布されており、
    前記基板を保持して移動させる基板ステージを備え、
    前記基板ステージは、請求項１４に記載のステージ装置である請求項１５に記載の露光装置。
18. 前記第２アクチュエータは、前記構造体の平面視における中央部に配置されている請求項１７に記載の露光装置。

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