JPH11190786A - ステージ装置、およびこれを用いた露光装置ならびにデバイス製造方法 - Google Patents
ステージ装置、およびこれを用いた露光装置ならびにデバイス製造方法Info
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- JPH11190786A JPH11190786A JP9359832A JP35983297A JPH11190786A JP H11190786 A JPH11190786 A JP H11190786A JP 9359832 A JP9359832 A JP 9359832A JP 35983297 A JP35983297 A JP 35983297A JP H11190786 A JPH11190786 A JP H11190786A
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Abstract
床振動を軽減させる。 【解決手段】 ステージを支持する定盤に回転可能なロ
ータを設け、ロータの回転によりモーメント力を発生さ
せ、ステージの移動時の反力やモーメント力を床に伝え
ないようにした。
Description
うのに適したステージ装置に関する。特に、半導体露光
装置に使用され、ウエハ等を搭載するステージ装置に関
する。また、このようなステージ装置を用いた露光装
置、ならびにこの露光装置を用いた半導体デバイス等の
デバイスを製造するデバイス製造方法の技術分野に属す
る。
部材66が支持されている。本体支持部材66の下半分
には定盤61が固定され、定盤上には2次元方向(XY
方向)に移動可能なウエハステージ60が支持されてい
る。本体支持部材66の上半分には投影光学系65、ウ
エハステージ60の位置を計測するための干渉計基準6
7、原版であるレチクル64が設けられる。さらにその
上には露光光を供給するための照明系63が設けられ
る。
不図示のウエハ搬送系で供給されたウエハを不図示のア
ライメント系によりレチクル64に対する目標位置を干
渉計データに変換し、この干渉計データを目標にして不
図示のXY駆動機構によりウエハステージを所定位置に
移動させ、レチクルの像を焼き付けて、次の位置に移動
するということを繰り返して一枚のウエハ全体にレチク
ルの像を焼き付けるようになっている。
の移動時間や露光時間を短くする必要がある。ステージ
の移動時間を短くするために移動時の加減速度を増加さ
せなければならない。一方、後処理工程の生産性を高め
るためにウエハの径も大きくする必要があり、これに伴
ってウエハチャック、ウエハステージの質量が増加の一
途をたどっている。
質量と加速度の積の推力が要求されるので、駆動機構が
発生する推力はウエハサイズと加速度の相乗効果で極め
て大きいものが要求されるようになっている。そのた
め、ステージを駆動する際に、大きな反力が発生し、露
光装置本体を変形させ、露光転写の位置精度の悪化や転
写パターンの歪みをもたらす。その対策として反力受け
装置(特開平6−163353、特開平9−4677)
が考案されている。
す。
52はステージを支持する定盤、53は定盤を載置し、
床面からの振動を軽減する防振ばね、54は床面に固定
された基盤である。55は反力受け部材である。定盤に
固定された固定子57と反力受け部材に設けられた可動
子58からアクチュエータ56が構成され、推力を発生
することが可能である。
ている。
6を作動させない場合、質量mのステージ51が加速度
aで動くと、反力maが定盤に作用する。その反力ma
により本体が変形し、また、防振ばね53が変位して定
盤52が揺動する。この変形や揺動を防ぐために、定盤
52とは独立に配置された反力受け部材55からアクチ
ュエータによって力fを付与し、反力maを相殺させ
る。
け装置では床面への反力の伝達が避けられない。図16
に示すように床面には平面内力maとモーメント力M=
Lmaが作用する。ここで、Lは移動ステージの重心位
置と床面との距離である。
きいが、モーメント力に対する剛性が小さいため、上述
したモーメント力M=Lmaによって床振動が引き起こ
される。この床振動がその装置自体や周りの装置の動作
に悪影響を及ぼすという解決すべき課題があった。
め本発明のステージ装置は、移動可能なステージと、該
ステージを支持する定盤と、該ステージを駆動する駆動
手段と、該ステージの移動に伴って発生する反力を軽減
するようにモーメントを発生するロータとを備えたこと
を特徴とする。
生する反力を受ける部材に前記ロータを設けることが望
ましく、前記反力を受ける部材は、前記ステージを支持
する定盤でも、ステージと独立に配置された反力受けで
あっても良い。
可能なステージと、該ステージを駆動する駆動手段と、
該ステージを支持し、移動可能な定盤とを備え、ステー
ジの移動に伴って発生する反力を軽減するように定盤が
移動することを特徴とする。このとき、ステージの移動
に伴って発生する反力によって前記定盤が移動すると良
い。
るため回転拘束手段を設けると好ましい。また、前記移
動可能な定盤は、前記ステージ移動に伴って発生する反
力を軽減するようにモーメントを発生するロータを備え
ることが望ましい。
れたガイドを有するXYステージでも良い。また、前記
駆動手段はガイドレスモータでも良い。前記ガイドレス
モータはパルスモータでも誘導モータでも良い。
1実施形態のステージ装置の概略斜視図を示す。
上にエアスライドを介して定盤2が基盤3に上面に沿っ
て移動自在に支持されている。
面内にXY軸を、XY軸と直交するZ軸を定義する。
タは介在せず、単にエアスライドでガイドされるのみな
ので、定盤はXY面内で移動および回転自在である。
に回転自在なロータ4が設けられている。また、定盤2
の内部にはZ軸まわりに回転自在なロータ4が設けられ
ており、計5つのロータが設けられる。X軸を法線とす
るロータをωxロータ4x、Y軸を法線とするロータを
ωyロータ4y、Z軸を法線とするロータをωzロータ4
zと呼ぶ。
側ヨーク5に固定される6個の扇形コイル6、固定側ヨ
ーク5と軸受を介して回転自在に支持される可動側ヨー
ク8、可動側ヨーク8に固定されコイルと微小空隙をも
って対面する回転軸に平行に着磁された8極磁石7とか
らなる。
石からACモータを構成している。この中にはコイル6
と磁石7の相対的電気角を検出するセンサ(不図示)が
設けられ、電気角に応じて3相のコイルに供給する電流
を制御するようになっている。
られる。ウエハステージ1は定盤2の上面つまりXY平
面に沿ってエアスライドを介して移動および回転自在に
支持されている。ウエハステージ1も概ね直方体形状を
しており、4つの側面にウエハステージ1を移動するた
めの駆動機構(駆動手段)9を持っている。X方向に移
動するための駆動機構をX駆動機構9x、Y方向に移動
するための駆動機構をY駆動機構9yとする。
的なリニアパルスモータの駆動原理である。各駆動機構
は図3に示すように永久磁石10、可動歯11a、可動
歯11b、各歯に巻き回された4つのコイル12からな
る。まず、ピッチPの固定歯13が設けられる。これは
本実施形態では定盤2の上面に設けられる。可動歯11
a、11bは各々1.5Pはなれた(ピッチPを基準と
する電気角で180度はなれた)一対の小歯で構成され
る。また、可動歯11aと可動歯11bは図3のように
着磁された永久磁石10により結合される。可動歯11
aと可動歯11bの位置関係は互いに4.25P(電気
角で90度)ずれている。また、可動歯11a、可動歯
11bの各々において、コイル12は2個の小歯に対し
て逆相になるように巻かれ、2個の小歯の一方を鉛直上
向きに、他方を鉛直下向きに磁化するようになってい
る。この構成において図3に示す順にコイルa、bを順
に励磁し、永久磁石の磁束の流れが順次振り分けられて
一方向に駆動機構全体が移動する。
原理を示したが、実際は電流波形を正弦波状にして4つ
のステップを連続的に推移させることにより同期モータ
として動作させ、連続的な移動を行うようになってい
る。また、図3では1次元の動作を示したが、実際は定
盤2に設けられた固定歯はくし状ではなく、格子状に設
けられており、XY方向に図3に示した動作が可能であ
る。
図示のエア吹き出しが設けられ、永久磁石とコイルの磁
束による吸引力とエア圧をバランスさせ、エアスライド
を形成するようになっている。エアの流れを安定させる
ために固定歯13の凹部には樹脂が埋め込まれて機械的
には平坦で、磁気的には格子状の凹凸がある状態になっ
ている。
れ、不図示の干渉計基準からの距離が測定できるように
なっている。
作は以下の通りである。
Y方向重心に沿ってX方向に移動する場合の動作を示
す。
に図3の手順で連続的に電流を流す。このとき両側のX
駆動機構の電流を適当な比にすると合力の作用線はウエ
ハステージの重心を通るようにできる。したがってウエ
ハステージ1には回転力は発生しない。逆に、干渉計で
回転角を検出しながら両側のX駆動機構の電流の比を逐
次制御すればウエハステージ1の回転を制御できる。
反力は、ウエハステージ1のX駆動機構が移動する際に
定盤の固定歯にも駆動力が作用することで定盤2に伝達
される。ウエハステージ1が+X方向に移動した時、こ
の反力は定盤2に−X方向に働く。前述したように、定
盤2は基盤3にエアスライドで支持されているため、こ
の反力により定盤2は−X方向に移動する。
のY方向の重心に沿って移動するので、上記−X方向の
力のY方向の作用点は定盤2の重心のY座標と等しい。
したがって、反力によるZ軸回りのモーメントは発生し
ない。
ると、定盤2は−X方向にΔXbだけ移動する。ΔXw
とΔXbとの移動比はウエハステージ1と定盤2の質量
比の逆数に等しい。
進成分は定盤2の並進移動により吸収され、基盤3ひい
ては床16には並進力は伝わらない。
5に示す。
力はほぼウエハステージ1と定盤2とのエアスライドの
位置に働く。ところがウエハステージ1と定盤2の重心
のZ座標はエアスライドからずれた所にあるので、上記
駆動力や反力はウエハステージ1や定盤2にY軸まわり
のモーメントを発生する。
ジ重心のZ座標の偏差をΔZw、反力作用線と定盤重心
のZ座標の偏差をΔZb、定盤上面からウエハステージ
に作用するモーメントをMwb、基盤上面から定盤下面
に作用するモーメントをMbg、ウエハステージに作用
する駆動力および反力をfとする。
を生じさせないためには、Y軸右回りを+として、 Mwb−fΔZw=0 Mbg−fΔZb−Mwb=0 これをとくと Mbg=f(ΔZb+ΔZw) となって、定盤2は基盤3ひいては床16とMbgだけ
のモーメントを伝達することになる。そこでωyロータ
4yを構成するACモータのトルク定数をKyとすると
き、3相コイルの電流のベクトル和がf(ΔZb+ΔZ
w)/2Kyとなるように電流を制御してやれば良い。
この結果、定盤2に関するモーメントの釣り合い式は、 Mbg+f(ΔZb+ΔZw)−fΔZb−Mwb=0 となり、 Mbg=0 つまり、定盤2と基盤3はモーメントの伝達がゼロにな
り、床16にもモーメントの伝達がゼロになる。
が、Y方向に移動する場合はX軸まわりのモーメントが
発生するので、これをωxロータ4xで相殺すれば良
い。また、X方向とY方向の移動が同時に起る場合は各
々のモーメントをωy、ωxロータで相殺すれば良い。
がY方向に変移した状態でX方向に移動する場合を示
す。
と同様であり、駆動反力の並進成分は定盤の並進移動に
より吸収され、基盤3ひいては床16には並進力は伝わ
らない。しかし、今回はウエハの重心と定盤の重心がΔ
Yずれているため、定盤2には反力によって並進力f以
外にモーメントfΔYがかかる。
イドで支持されているだけなので、何もしなければ、f
ΔYのモーメントで回転してしまう。そこでωzロータ
4xを図6のように回転させてモーメントfΔYを発生
させる。この為にはωzロータ4xを構成するACモー
タのトルク定数をKzとするとき、3相コイルの電流の
ベクトル和がfΔY/Kzとなるように電流を制御すれ
ば良い。
動反力でZ軸まわりのモーメントが発生しても姿勢を保
持することができる。
の処理は前述の方法と同様である。
9にガイドレスモータとしてパルスモータを用いたが、
これに限るものではなく、例えば誘導モータをガイドレ
スモータとして用いても良い。誘導モータを用いた場
合、定盤2の上面の格子状凹凸は不要となるが、この場
合、定盤2の表面は電流の抵抗が小さいアルミニウム等
の伝導性の層を有することが望ましい。
に支持し、定盤2に回転可能でモーメントを発生するロ
ータ4を設けることで、ウエハステージ1を移動した時
の反力やモーメントを床16に伝えないようにすること
ができる。
比が質量比の逆数に等しくなっているため、装置全体と
しての重心が移動しないという効果もある。
ステージ装置の軽量化を図ることができるほか、反力が
固定子である定盤に直接伝わり定盤が駆動されるため、
従来の装置と比べ発生する振動が大幅に軽減される。
態のステージ装置の概略を示している。
同一の番号をつけている。また、同一部材についての説
明は省略する。
加えてロの字形のガイド枠20が設けられている。ロの
字形ガイド枠20は2本のXビーム21と2本のYビー
ム23で構成され、2本のYビーム23の内側面と基盤
3の側面とでY方向のエアスライドを形成し、ロの字形
ガイド枠20は、基盤3に対してY方向に滑動自在に拘
束される。また、2本のXビーム21の内側面と定盤2
の側面とでX方向のエアスライドを形成し、定盤2はロ
の字形ガイド枠20に対してX方向に滑動自在に拘束さ
れる。この結果、定盤2は基盤3に対してXY平面内に
並進のみ可能に支持されることになる。
第1実施例と同様であり、第1実施形態と同様の効果が
得られるほか、本実施形態では不慮の誤動作による定盤
のZ軸まわりの回転が起らなくなるという効果が見込め
る。正常に動作していれば定盤の回転運動は結果的に生
じないので、ロの字形枠は必要ないが、実際には不慮の
誤動作が懸念され、また電気が入っていない時の定盤の
姿勢補償手段も必要である。この点でロの字形枠20の
ような回転拘束手段は実際上必要である。しかし、回転
拘束手段はロの字形枠20の形状に限るものではない。
このような拘束を設けてもZ軸まわりのモーメントは図
7に示す手順で相殺されるので、反力は床には伝達され
ない。
段を設けているので、モーメントを発生するロータ4を
定盤ではなく、床の上に固定された基盤上に設けても床
の振動を軽減させることが可能である。
置の第3実施形態を示す。
ウエハステージを設けたが、本実施形態では定盤上にガ
イドを有するXYステージを設けた例である。前述の実
施形態と本実施形態とでは定盤より上の構成が異なって
いる。前述の第1実施形態と同様の構成部材には同一の
番号をつけている。また、同一部材についての説明は省
略する。
られ、Yステージ33の側部スライダの側面との間にエ
アスライドを形成し、Yステージ33をY方向に案内す
るようになっている。また、Yステージ33には2つの
Xガイドと側部スライダの部材で概ね構成されるが、側
部スライダの下面と定盤2の上面との間でエアスライド
を形成している。この結果、Yステージ33はヨーガイ
ド36と定盤上面にガイドされてY方向に滑動自在に支
持される。Xステージ30は天板、底板、2枚の側板で
構成される。Xステージ30の2枚の側板の内側とYス
テージ33の2本のXガイドとの間でエアスライドを形
成し、Xステージ30をX方向に案内する。また、Xス
テージ30の底板と定盤上面の間でエアスライドを形成
し、Xステージ30のZ方向の位置を拘束する。この結
果、Xステージ30は定盤上面とYステージ33のXガ
イドによって案内され、定盤上面に沿ってXY方向の並
進が可能に支持される。
に関して2つ、X方向に関して1つのリニアモータが設
けられる。リニアモータは4極磁石を内蔵する可動子と
6相コイルからなる固定子で構成され、磁石の位置によ
り6相コイルから駆動すべきコイル、電流方向を選択し
て可動子に力が働くようになっている。Yリニアモータ
の固定子35は定盤2に固定され、Yリニアモータ可動
子34はYステージ33に固定される。また、Xリニア
モータの固定子32はYステージ33に固定され、Xリ
ニアモータの可動子31はXステージ30に固定され
る。この結果、X方向の駆動力の反力はX固定子32か
らYステージ33、ヨーガイド36を経て定盤2に伝達
される。また、Y方向の駆動力の反力はY固定子35か
ら定盤2に伝わる。この駆動反力の伝わりかたは、本実
施形態のステージ装置も前述の実施形態のステージ装置
と同様である。
実施形態のステージ装置と同様であるので、駆動時の反
力を床に伝えないようにするためのロータ4の動作も前
述の実施形態のステージ装置と同様である。そのため、
前述のステージ装置の実施形態と同様の効果が見込め
る。また、前述の実施形態のステージ装置ではウエハス
テージの駆動力はウエハステージ下面に作用するため、
ウエハステージの重心のZ座標と駆動力の作用線のZ座
標を一致させることができないが、本実施形態のステー
ジ装置ではXリニアモータ、Yリニアモータとも駆動作
用線のZ座標とXステージ30、Yステージ33の重心
のZ座標を一致させる設計が可能である。このため、図
5におけるΔZwを零とすることができ、ロータの発生
する回転モーメントを軽減することができる。
と同様に定盤の回転拘束手段を設けることが望ましい。
機構にリニアモータを用いたが、駆動機構はこれに限る
ものではない。例えば、送りネジ等の一般的な直線駆動
機構を用いても良い。また、XYステージも積層された
2段ステージを適用しても良い。
わりの回転を拘束する手段を持つ場合は、ωxロータ、
ωyロータ、ωzロータを基盤あるいは床の一部に設けて
も良い。
態のステージ装置の概略図である。
ある。42はレチクル定盤で、レチクルステージ41を
支持する。43はレチクル定盤を載置し、床面からの振
動を防ぐ防振ばね。44は床50に固定された基盤44
である。45は反力受け部材で、ステージ41と独立に
配置され、床50と一体に固定されている。47はレチ
クル定盤に固定された固定子と、反力受け部材45に設
けられた可動子48からアクチュエータ46が構成さ
れ、推力を発生することができる。また、49は反力受
け部材に設けられた回転自在なロータで、前述のロータ
と同様の構造を持ち、モーメントを発生することができ
る。
を示している。
量、Lはステージ41の重心位置と床面との距離であ
る。また、Iはロータ49の慣性モーメントである。
aで動かすとき、定盤42はステージ41から反力ma
を受ける。この反力を相殺するように、反力受け部材4
5から定盤42へアクチュエータ46を介して力f=m
aを付与する。同時にロータ49を回転加速度βで回転
させ、Iβ=Lmaとなるようにβを制御することによ
り、前記反力maが床におよぼすモーメント力M=Lm
aが相殺される。
ジの移動に伴って発生する反力を受けるが、反力受け部
材に設けたロータによってモーメント力を発生させるこ
とで、反力を軽減させることができる。これにより、反
力受け部材から発生される床振動を抑えることができ、
周囲の他の装置への振動による外乱等の影響を軽減させ
ることができる。
ずれかのステージ装置をレチクルステージまたはウエハ
ステージとして搭載した走査型露光装置の実施形態を、
図11を用いて説明する。
定盤71aは基盤92と別に床面Fに直接固定された支
持枠90に支持される。また、レチクルステージ73上
のレチクルを経てウエハステージ93上のウエハWを露
光する露光光は、破線で示す光源装置95から発生され
る。
エハステージ93の間に投影光学系96を支持する。7
5はレチクルステージ73を加速および減速するリニア
モータの固定子である。
ってレチクルステージ73と同期して走査される。レチ
クルステージ73とウエハステージ93の走査中、両者
の位置はそれぞれ干渉計97,98によって継続的に検
出され、レチクルステージ73とウエハステージ93の
駆動部にそれぞれフィードバックされる。これによって
両者の走査開始位置を正確に同期させるとともに、定速
走査領域の走査速度を高精度で制御することができる。
用した半導体デバイスの製造方法の実施形態を説明す
る。図12は半導体デバイス(ICやLSI等の半導体
チップ、液晶パネル、CCD、薄膜磁気ヘッド、マイク
ロマシン等)の製造のフローを示す。ステップS11
(回路設計)では半導体デバイスの回路設計を行なう。
ステップS12(マスク製作)では設計した回路パター
ンを形成したマスクを製作する。一方、ステップS13
(ウエハ製造)ではシリコン等の材料を用いて基板であ
るウエハを製造する。ステップS14(ウエハプロセ
ス)は前工程と呼ばれ、上記用意したマスクとウエハを
用いて、リソグラフィ技術によってウエハ上に実際の回
路を形成する。次のステップS15(組立)は後工程と
呼ばれ、ステップS14によって作製されたウエハを用
いて半導体チップ化する工程であり、アッセンブリ工程
(ダイシング、ボンディング)、パッケージング工程
(チップ封入)等の工程を含む。ステップS16(検
査)ではステップS15で作製された半導体デバイスの
動作確認テスト、耐久性テスト等の検査を行なう。こう
した工程を経て半導体デバイスが完成し、これが出荷
(ステップS17)される。
ーを示す。ステップS21(酸化)ではウエハの表面を
酸化させる。ステップS22(CVD)ではウエハ表面
に絶縁膜を形成する。ステップS23(電極形成)では
ウエハ上に電極を蒸着によって形成する。ステップS2
4(イオン打込み)ではウエハにイオンを打ち込む。ス
テップS25(レジスト処理)ではウエハに感光剤を塗
布する。ステップS26(露光)では上記説明した露光
装置によってマスクの回路パターンをウエハに焼付露光
する。ステップS27(現像)では露光したウエハを現
像する。ステップS28(エッチング)では現像したレ
ジスト像以外の部分を削り取る。ステップS29(レジ
スト剥離)ではエッチングが済んで不要となったレジス
トを取り除く。これらのステップを繰り返し行なうこと
によって、ウエハ上に多重に回路パターンが形成され
る。本実施形態の製造方法を用いれば、高集積度の半導
体デバイスを製造することができる。
よれば、モーメント力を発生するロータによって反力を
軽減することができる。特に請求項2記載のごとく、発
生する反力を受ける部材にロータを設ければ、反力を有
効に軽減できる。さらに、反力を受ける部材を請求項3
記載のように定盤、または請求項4記載のように反力受
け部材とすれば、ステージ装置またはステージ装置を設
置した基盤や床の振動を軽減することができる。これに
より、高速、高精度な位置決めが可能になるほか、周囲
の他の装置に床振動による外乱等の影響を軽減させるこ
とができる。
置によれば、定盤が移動することにより、ステージの移
動に伴う反力を軽減させることができる。これによって
反力が軽減することで、ステージ装置またはステージ装
置を設置した基盤や床の振動を軽減することができる。
さらに、請求項7記載のように反力によって定盤が移動
すれば、反力を軽減させる効果のほかに、ステージ装置
の重心が移動しないといった特別の効果が得られる。ま
た、定盤の回転を拘束する回転拘束手段を設けること
で、定盤の無用な回転を抑えることができるほか、誤動
作時や停電時等の非常時の姿勢補償が行える。
ば、ステージをXYステージとすることで、駆動の作用
線のZ座標とステージの重心のZ座標を一致させること
ができるため、発生するモーメント力を軽減させること
ができる。
ば、上述したステージ装置の駆動手段をガイドレスモー
タとし、ガイドレスモータとして請求項12によればパ
ルスモータ、請求項13によれば誘導モータを用いた。
これにより、ステージ装置の軽量化を図ることができる
ほか、反力を固定子に速やかに伝えることができ、反力
を軽減させる手段とを併用すれば、従来の装置と比べ、
反力や振動の軽減が改善される。
上述のステージ装置を用いているため、ウエハ、レチク
ルの高速、高精度な位置決めが期待でき、高スループッ
ト化を図れるほか、装置自身の低振動化により、周囲の
他の装置への振動による外乱等の影響を軽減させること
ができる。
Claims (15)
- 【請求項1】 移動可能なステージと、該ステージを支
持する定盤と、該ステージを駆動する駆動手段と、該ス
テージの移動に伴って発生する反力を軽減するようにモ
ーメントを発生するロータとを備えたことを特徴とする
ステージ装置。 - 【請求項2】 前記ステージの移動に伴って発生する反
力を受ける部材に前記ロータを設けたことを特徴とする
請求項1記載のステージ装置。 - 【請求項3】 前記反力を受ける部材は、前記ステージ
を支持する定盤であることを特徴とする請求項2記載の
ステージ装置。 - 【請求項4】 前記反力を受ける部材は、前記ステージ
と独立に配置された反力受けであることを特徴とする請
求項2記載のステージ装置。 - 【請求項5】 前記反力受けは、床と一体に固定された
部材であることを特徴とする請求項4記載のステージ装
置。 - 【請求項6】 移動可能なステージと、該ステージを駆
動する駆動手段と、該ステージを支持し、移動可能な定
盤とを備え、ステージの移動に伴って発生する反力を軽
減するように定盤が移動することを特徴とするステージ
装置。 - 【請求項7】 前記ステージの移動に伴って発生する反
力によって前記定盤が移動することを特徴とする請求項
6記載のステージ装置。 - 【請求項8】 前記移動可能な定盤の回転を拘束するた
め回転拘束手段を設けたことを特徴とする請求項6また
は7記載のステージ装置。 - 【請求項9】 前記移動可能な定盤は、前記ステージ移
動に伴って発生する反力を軽減するようにモーメントを
発生するロータを備えたことを特徴とする請求項6〜8
いずれか記載のステージ装置。 - 【請求項10】 前記ステージは前記定盤に設けられた
ガイドを有するXYステージであることを特徴とする請
求項1〜9いずれか記載のステージ装置。 - 【請求項11】 前記駆動手段は前記ステージに取付け
られたガイドレスモータであることを特徴とする請求項
1〜9いずれか記載のステージ装置。 - 【請求項12】 前記ガイドレスモータはパルスモータ
であることを特徴とする請求項11記載のステージ装
置。 - 【請求項13】 前記ガイドレスモータは誘導モータで
あることを特徴とする請求項11記載のステージ装置。 - 【請求項14】 請求項1〜13いずれか記載のステー
ジ装置を備えたことを特徴とする露光装置。 - 【請求項15】 請求項14記載の露光装置を用いてデ
バイスを製造するデバイス製造方法。
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