TW202303295A - 定位系統、微影裝置、驅動力衰減方法、及器件製造方法 - Google Patents

定位系統、微影裝置、驅動力衰減方法、及器件製造方法 Download PDF

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Abstract

本發明提供一種用於移動或定位一可移動物件之定位系統，其包含： -   一動態支撐系統，其包含： ○  一反應質量， ○  一第一支撐件， ○  一第一彈簧系統，其用以自該第一支撐件支撐該反應質量， ○  一第二支撐件， ○  一第二彈簧系統，其用以自該第二支撐件支撐該第一支撐件， ○  一阻尼系統，其用以將阻尼提供至該動態支撐系統， -   一致動器，其用以在該可移動物件與該反應質量之間產生一驅動力以用於移動或定位該物件， 其中該動態支撐系統之一第一固有頻率(eigenfrequency)與一第二固有頻率實質上相同。

Description

定位系統、微影裝置、驅動力衰減方法、及器件製造方法
本發明係關於一種定位系統。本發明亦係關於一種包含該種定位系統之微影裝置。本發明進一步係關於一種用於使可移動物件與動態支撐系統之間的驅動力之傳輸衰減的方法，以及一種用於使用微影裝置來製造器件之方法。
微影裝置為經建構以將所要圖案塗覆至基板上之機器。微影裝置可用於例如積體電路(IC)製造中。微影裝置可例如將圖案化器件(例如，遮罩)之圖案(常常亦被稱作「設計佈局」或「設計」)投影至設置於基板(例如，晶圓)上的輻射敏感材料(抗蝕劑)層上。
隨著半導體製造過程持續進步，幾十年來，電路元件之尺寸已不斷減小，而每器件的諸如電晶體之功能元件之量已穩固地增加，此遵循通常稱為「莫耳定律(Moore's law)」之趨勢。為了跟上莫耳定律，半導體行業正追逐使能夠產生愈來愈小特徵之技術。為了將圖案投影於基板上，微影裝置可使用電磁輻射。此輻射之波長判定經圖案化於基板上之特徵的最小大小。當前在使用中之典型波長為365 nm (i線)、248 nm、193 nm及13.5 nm。相比於使用例如具有193 nm之波長之輻射的微影裝置，使用具有4 nm至20 nm之範圍內，例如6.7 nm或13.5 nm，之波長的極紫外線(EUV)輻射之微影裝置可用於在基板上形成較小特徵。
微影裝置通常包括用以定位諸如用於圖案化器件之支撐件、基板支撐件或者投影系統或照明系統之光學元件等物件的一或多個定位系統。
定位系統通常包括動態支撐系統及用於在可移動物件與動態支撐系統之間產生驅動力以移動或定位物件之致動器。藉由動態支撐系統傳輸之力相對於驅動力之比率經定義為致動器力傳輸率。當該比率太大時，其可能對定位系統之位置準確度產生不利影響，尤其對於較高頻率，由此限制可達成之控制帶寬。
考慮到以上內容，本發明之一目標係提供一種具有改良，亦即減小之致動器力傳輸率的定位系統。
根據本發明之一實施例，提供一種用於移動或定位一可移動物件之定位系統，其包含： -   一動態支撐系統，其包含： ○  一反應質量， ○  一第一支撐件， ○  一第一彈簧系統，其用以自該第一支撐件支撐該反應質量， ○  一第二支撐件， ○  一第二彈簧系統，其用以自該第二支撐件支撐該第一支撐件，以及 ○  一阻尼系統，其用以將阻尼提供至該動態支撐系統， -   一致動器，其用以在該可移動物件與該反應質量之間產生一驅動力以用於移動或定位該物件， 其中該動態支撐系統在一方向上之一第一固有頻率與一第二固有頻率實質上相同。
根據本發明之另一實施例，提供一種微影裝置，其包含根據本發明之一定位系統。
根據本發明之另一實施例，提供一種用於使在一可移動物件與一動態支撐系統之一反應質量之間施加的驅動力之傳輸衰減的方法，該方法係藉由將該動態支撐系統組態為在一方向上具有實質上相同之一第一固有頻率及一第二固有頻率的一多彈簧質量阻尼器系統。
根據本發明之又一實施例，提供一種器件製造方法，其中使用根據本發明之一微影裝置。
在本文件中，術語「輻射」及「光束」用以涵蓋所有類型之電磁輻射，包括紫外線輻射(例如，具有為365、248、193、157或126 nm之波長)及極紫外線輻射(EUV，例如，具有在約5至100 nm之範圍內的波長)。
如本文中所採用之術語「倍縮光罩」、「遮罩」或「圖案化器件」可廣泛地解釋為係指可用於向入射輻射光束賦予經圖案化截面之通用圖案化器件，該經圖案化截面對應於待在基板之目標部分中產生的圖案。在此內容背景中，亦可使用術語「光閥」。除經典遮罩(透射或反射、二元、相移、混合式等)以外，其他此類圖案化器件之實例包括可程式化鏡面陣列及可程式化LCD陣列。
圖1示意性地描繪微影裝置LA。微影裝置LA包括：照明系統(亦稱為照明器) IL，其經組態以調節輻射光束B (例如UV輻射、DUV輻射或EUV輻射)；遮罩支撐件(例如遮罩台) MT，其經建構以支撐圖案化器件(例如遮罩) MA且連接至經組態以根據某些參數來準確地定位圖案化器件MA之第一定位器PM；基板支撐件(例如晶圓台) WT，其經建構以固持基板(例如抗蝕劑塗佈晶圓) W且連接至經組態以根據某些參數來準確地定位基板支撐件之第二定位器PW；及投影系統(例如折射投影透鏡系統) PS，其經組態以將由圖案化器件MA賦予至輻射光束B之圖案投影至基板W之目標部分C (例如包含一或多個晶粒)上。
在操作中，照明系統IL例如經由光束遞送系統BD自輻射源SO接收輻射光束。照明系統IL可包括用於引導、塑形及/或控制輻射之各種類型的光學組件，諸如折射、反射、磁性、電磁、靜電，及/或其他類型之光學組件或其任何組合。照明器IL可用於調節輻射光束B以在圖案化器件MA之平面處在其截面中具有所要之空間及角強度分佈。
本文中所使用之術語「投影系統」PS應廣泛地解譯為涵蓋如適於所使用之曝光輻射及/或適於諸如浸潤液體之使用或真空之使用的其他因素的任何類型之投影系統，包括折射、反射、反射折射、變形、磁性、電磁及/或靜電光學系統，或其任何組合。可認為本文中對術語「投影透鏡」之任何使用與更一般之術語「投影系統」PS同義。
微影裝置LA可屬於如下類型：其中基板之至少一部分可由具有相對高折射率之例如水之液體覆蓋，以便填充投影系統PS與基板W之間的空間--此亦稱為浸潤微影。在以引用之方式併入本文中的US6952253中給出關於浸潤技術之更多資訊。
微影裝置LA亦可屬於具有兩個或更多個基板支撐件WT (亦稱為「雙載物台」)之類型。在此「多載物台」機器中，可並行地使用基板支撐件WT，及/或可對位於基板支撐件WT中之一者上的基板W進行準備基板W之後續曝光的步驟，同時將另一基板支撐件WT上之另一基板W用於在該另一基板W上曝光圖案。
除基板支撐件WT以外，微影裝置LA亦可包含量測載物台。該量測載物台經配置以固持感測器及/或清潔器件。感測器可經配置以量測投影系統PS之屬性或輻射光束B之屬性。量測載物台可固持多個感測器。清潔器件可經配置以清潔微影裝置之部分，例如投影系統PS之部分或提供浸潤液體之系統的部分。當基板支撐件WT遠離投影系統PS時，量測載物台可在投影系統PS之下移動。
在操作中，輻射光束B入射於固持在遮罩支撐件MT上之圖案化器件(例如，遮罩) MA上，且藉由存在於圖案化器件MA上之圖案(設計佈局)圖案化。在越過圖案化器件MA後，輻射光束B穿過投影系統PS，該投影系統將光束聚焦至基板W之目標部分C上。憑藉第二定位器PW及位置量測系統IF，可準確地移動基板支撐件WT，例如，以便在輻射光束B之路徑中將不同目標部分C定位於聚焦且對準之位置處。相似地，第一定位器PM及可能之另一位置感測器(其未在圖1中明確地描繪)可用於相對於輻射光束B之路徑來準確地定位圖案化器件MA。可使用遮罩對準標記M1、M2及基板對準標記P1、P2來對準圖案化器件MA及基板W。儘管如所繪示之基板對準標記P1、P2佔據專用目標部分，但其可定位於目標部分之間的空間中。當基板對準標記P1、P2位於目標部分C之間時，該等基板對準標記被稱為切割道對準標記。
為了闡明本發明，使用笛卡爾(Cartesian)座標系統。笛卡爾座標系統具有三個軸，亦即，x軸、y軸及z軸。三個軸中之每一者與其他兩個軸正交。圍繞x軸之旋轉被稱為Rx旋轉。圍繞y軸之旋轉被稱為Ry旋轉。圍繞z軸之旋轉被稱為Rz旋轉。x軸及y軸界定水平面，而z軸係在豎直方向上。笛卡爾座標系統並非限制本發明且僅用於說明。實情為，另一座標系統，諸如圓柱座標系統可用於闡明本發明。笛卡爾座標系統之定向可不同，例如，使得z軸具有沿著水平面之分量。
圖2展示圖1之微影裝置LA之一部分的更詳細視圖。微影裝置LA可具備基座框架BF、平衡塊BM、度量衡框架MF及振動隔離系統IS。度量衡框架MF支撐投影系統PS。另外，度量衡框架MF可支撐位置量測系統PMS之部分。度量衡框架MF係藉由基座框架BF經由振動隔離系統IS支撐。振動隔離系統IS經配置以防止或減少振動自基座框架BF傳播至度量衡框架MF。
第二定位器PW經配置以藉由在基板支撐件WT與平衡塊BM之間提供驅動力來加速基板支撐件WT。驅動力在所要方向上加速基板支撐件WT。歸因於動量守恆，驅動力亦以相等量值施加至平衡塊BM上，但方向與所要方向相反。通常，平衡塊BM之質量明顯大於第二定位器PW之移動部分及基板支撐件WT的質量。
在一實施例中，第二定位器PW係由平衡塊BM支撐。舉例而言，其中第二定位器PW包含使基板支撐件WT懸浮於平衡塊BM上方之平面馬達。在另一實施例中，第二定位器PW係由基座框架BF支撐。舉例而言，其中第二定位器PW包含線性馬達且其中第二定位器PW包含用以使基板支撐件WT懸浮於基座框架BF上方之軸承，如氣體軸承。
位置量測系統PMS可包含任何類型之感測器，該感測器適合於判定基板支撐件WT之位置。位置量測系統PMS可包含任何類型之感測器，該感測器適合於判定遮罩支撐件MT之位置。感測器可為光學感測器，諸如干涉計或編碼器。位置量測系統PMS可包含干涉計與編碼器之組合式系統。感測器可為另一類型之感測器，諸如磁感測器、電容式感測器或電感性感測器。位置量測系統PMS可判定相對於參考，例如度量衡框架MF或投影系統PS，之位置。位置量測系統PMS可藉由量測位置或藉由量測位置之時間導數，諸如速度或加速度，來判定基板台WT及/或遮罩支撐件MT之位置。
位置量測系統PMS可包含編碼器系統。舉例而言，一種編碼器系統來自特此以引用之方式併入的2006年9月7日申請之美國專利申請案US2007/0058173A1。該編碼器系統包含編碼器頭、光柵及感測器。編碼器系統可接收初級輻射光束及次級輻射光束。初級輻射光束以及次級輻射光束兩者源自相同輻射光束，亦即原始輻射光束。藉由用光柵使原始輻射光束繞射來產生初級輻射光束及次級輻射光束中之至少一者。若藉由用光柵使原始輻射光束繞射來產生初級輻射光束及次級輻射光束兩者，則初級輻射光束需要具有與次級輻射光束相比不同之繞射階。不同繞射階為例如+1階、-1階、+2階及-2階。編碼器系統將初級輻射光束及次級輻射光束光學組合成組合輻射光束。編碼器頭中之感測器判定組合輻射光束之相位或相位差。感測器基於該相位或相位差而產生信號。信號表示編碼器頭相對於光柵之位置。編碼器頭及光柵中之一者可配置於基板結構WT上。編碼器頭及光柵中之另一者可配置於度量衡框架MF或基座框架BF上。舉例而言，複數個編碼器頭經配置於度量衡框架MF上，而光柵經配置於基板支撐件WT之頂部表面上。在另一實例中，光柵經配置於基板支撐件WT之底部表面上，且編碼器頭經配置於基板支撐件WT下方。
位置量測系統PMS可包含干涉計系統。干涉計系統係自例如特此以引用之方式併入的於1998年7月13日申請之美國專利US 6,020,964為吾人所知。干涉計系統可包含光束分光器、鏡面、參考鏡面及感測器。輻射光束藉由光束分光器分成參考光束及量測光束。量測光束傳播至鏡面，且由鏡面反射回至光束分光器。參考光束傳播至參考鏡面，且由參考鏡面反射回至光束分光器。在光束分光器處，量測光束及參考光束組合成組合輻射光束。組合輻射光束入射於感測器上。感測器判定組合輻射光束之相位或頻率。感測器基於相位或頻率而產生信號。信號表示鏡面之位移。在一實施例中，鏡面連接至基板支撐件WT。參考鏡面可連接至度量衡框架MF。在一實施例中，藉由額外光學組件替代光束分光器將量測光束及參考光束組合成組合輻射光束。
第一定位器PM可包含長衝程模組及短衝程模組。短衝程模組經配置以在小移動範圍內以高準確度相對於長衝程模組來移動遮罩支撐件MT。長衝程模組經配置以在大移動範圍內以相對低準確度相對於投影系統PS來移動短衝程模組。藉由長衝程模組與短衝程模組之組合，第一定位器PM能夠在大移動範圍內以高準確度相對於投影系統PS來移動遮罩支撐件MT。相似地，第二定位器PW可包含長衝程模組及短衝程模組。短衝程模組經配置以在小移動範圍內以高準確度相對於長衝程模組來移動基板支撐件WT。長衝程模組經配置以在大移動範圍內以相對低準確度相對於投影系統PS來移動短衝程模組。藉由長衝程模組與短衝程模組之組合，第二定位器PW能夠在大移動範圍內以高準確度相對於投影系統PS來移動基板支撐件WT。
第一定位器PM及第二定位器PW各自具備致動器以分別移動遮罩支撐件MT及基板支撐件WT。致動器可為線性致動器以沿例如y軸之單一軸提供驅動力。可應用多個線性致動器以沿多個軸提供驅動力。致動器可為用以沿多個軸提供驅動力之平面致動器。舉例而言，平面致動器可經配置以在6自由度中移動基板支撐件WT。致動器可為包含至少一個線圈及至少一個磁體之電磁致動器。致動器經配置以藉由將電流施加至至少一個線圈而相對於至少一個磁體移動至少一個線圈。致動器可為移動磁體型致動器，其具有分別耦接至基板支撐件WT及至遮罩支撐件MT之至少一個磁體。致動器可為移動線圈型致動器，其具有分別耦接至基板支撐件WT及至遮罩支撐件MT之至少一個線圈。致動器可為音圈致動器、磁阻致動器、勞侖茲(Lorentz)致動器或壓電致動器，或者任何其他合適之致動器。
微影裝置LA包含如圖3中示意性地描繪之位置控制系統PCS。位置控制系統PCS包含設定點產生器SP、前饋控制器FF及回饋控制器FB。位置控制系統PCS將驅動信號提供至致動器ACT。致動器ACT可為第一定位器PM或第二定位器PW之致動器。致動器ACT驅動裝備P，該器件可包含基板支撐件WT或遮罩支撐件MT。裝備P之輸出為位置量，諸如位置或速度或加速度。位置量藉由位置量測系統PMS來量測。位置量測系統PMS產生信號，該信號為表示裝備P之位置量之位置信號。設定點產生器SP產生信號，該信號為表示裝備P之所要位置量之參考信號。舉例而言，參考信號表示基板支撐件WT之所要軌跡。參考信號及位置信號之間的差形成回饋控制器FB的輸入。基於該輸入，回饋控制器FB向致動器ACT提供驅動信號之至少部分。參考信號可形成前饋控制器FF之輸入。基於該輸入，前饋控制器FF向致動器ACT提供驅動信號之至少部分。前饋FF可利用關於裝備P之動力特性之資訊，諸如質量、剛性、諧振模式及固有頻率。
圖4示意性地描繪根據本發明之另一實施例的具有定位系統之微影裝置的一部分。微影裝置包含被替代地稱作基座框架之力框架FFR，以及經由第一振動隔離系統VIS1而彼此連接之量測框架MFR。在此實施例中，量測框架MFR係由力框架FFR經由第一振動隔離系統VIS1支撐，且力框架FFR又係由地面GR經由第二振動隔離系統VIS2支撐。此組態可被稱作串聯組態，其中量測框架MFR係藉由地面經由力框架FFR支撐。亦設想其中量測框架MFR及力框架FFR係藉由地面GR經由各別振動隔離系統支撐之平行組態。
微影裝置包含待移動及/或經定位以允許微影裝置運行之可移動物件OB。因此，物件OB可為基板支撐件WT、遮罩支撐件MT，或投影系統PS之組件，例如鏡面或透鏡元件，如例如圖1中所展示。
微影裝置進一步包含用於移動或定位物件OB之定位系統。定位系統包含動態支撐系統DSS，該動態支撐系統包括反應質量RM、第一支撐件S1、第一彈簧系統FS、第二支撐件S2及第二彈簧系統SS。反應質量RM係由第一支撐件S1經由第一彈簧系統FS支撐。第一支撐件S1係由第二支撐件S2經由第二彈簧系統SS支撐。第二支撐件S2且因此動態支撐系統DSS係由力框架FFR經由第三彈簧系統TS支撐。第三彈簧系統TS代表動態支撐系統DSS至力框架FFR之連接，該連接可為相對剛性之連接。
定位系統進一步包含用於在可移動物件OB與反應質量RM之間產生驅動力F之致動器ACT。驅動力F係由動態支撐系統DSS傳輸至力框架FFR。施加至力框架FFR之力相對於驅動力F之比率經定義為致動器力傳輸率。致動器ACT可為非接觸式致動器，例如勞侖茲(Lorentz)致動器或音圈致動器。
定位系統亦包含用以量測物件OB相對於參考件之位置的量測系統MS，該參考件在此實施例中為量測框架MFR上之參考件RF。
相對較高之致動器力傳輸率可影響量測框架MFR且因此影響物件OB之位置的量測。定位系統進一步包含用以基於量測系統MS之輸出而驅動致動器ACT之控制單元CU。因此，當位置之量測被致動器力傳輸率不利地影響時，控制單元CU不能夠達成某一位準之位置準確度。
為了例如藉由獲得較高控制帶寬來減小致動器力傳輸率且因此增大位置準確度效能，動態支撐系統DSS之第一固有頻率與第二固有頻率實質上相同。此可例如藉由將動態支撐系統DSS組態為使得第一固有頻率係由第一彈簧系統FS及由此支撐之質量判定的，且使得第二固有頻率係由第二彈簧系統SS及由此支撐之質量判定的。另外，由第一彈簧系統FS界定之彈簧剛性、由第二彈簧系統界定之彈簧剛性以及反應質量RM與第一支撐件S1及第二支撐件S2的質量經選擇以使得第一固有頻率與第二固有頻率實質上相同。較佳地，第一及第二固有頻率相等或幾乎相等(在5%以內)，但實質上相同亦包括第一及第二固有頻率之間的較大差(5%至20%)，只要在對應於第一及第二固有頻率之兩個模式之間存在顯著互動即可。換言之，動態支撐系統經組態為具有實質上相同之第一固有頻率及第二固有頻率的一多質量彈簧阻尼器系統。
定位系統亦包含用以將阻尼提供至動態支撐系統DSS之阻尼系統。在第一實施例中，阻尼器DS經配置於反應質量RM與第一支撐件S1之間，有可能作為第一彈簧系統FS之部分。在第二實施例中，阻尼器DS'經配置於第一支撐件S1與第二支撐件S2之間。兩種替代方案已在圖4中以虛線進行描繪。第三實施例涉及第一及第二實施例之組合。
包括阻尼系統之實質上相同的第一及第二固有頻率使得動態支撐系統DSS類似於調諧質量阻尼器而起作用，而無需使用附接至如先前技術中當前進行之反應質量的單獨調諧質量阻尼器以減小致動器力傳輸率。其優點可為：動態支撐系統需要較小空間，或可用空間可更高效地使用或最佳化定位系統之功能性。
當阻尼系統在自反應質量RM至力框架FFR之力路徑中時的另一優點為：阻尼系統能夠高度衰減致動器力傳輸率中之峰值，由此允許減弱高階動態。
阻尼系統可包括黏彈性阻尼器。舉例而言，阻尼器DS及/或阻尼器DS'可為黏彈性阻尼器。
阻尼系統可替代地或另外包括附接至反應質量RM、第一支撐件S1及/或第二支撐件S2之調諧質量阻尼器。
儘管已關於在特定方向上提供驅動力之單一致動器來描述以上實例，但本發明可應用於例如在多個致動器用以在更多自由度上移動或定位物件時同樣使在其他方向上之反作用力衰減及/或亦使在其他方向上的驅動力衰減。
儘管可在本文中特定地參考在IC製造中的微影裝置之使用，但應理解，本文中所描述之微影裝置可具有其他應用。可能的其他應用包括製造整合式光學系統、用於磁域記憶體之導引及偵測圖案、平板顯示器、液晶顯示器(LCD)、薄膜磁頭等。
儘管可在本文中特定地參考在微影裝置之內容背景中之本發明的實施例，但本發明之實施例可用於其他裝置中。本發明之實施例可形成遮罩檢測裝置、度量衡裝置或量測或處理諸如晶圓(或其他基板)或遮罩(或其他圖案化器件)之物件的任何裝置之部分。此等裝置可通常稱作微影工具。該種微影工具可使用真空條件或環境(非真空)條件。
儘管上文可能已特定地參考在光學微影之內容背景中之本發明的實施例之使用，但應瞭解，本發明在內容背景允許的情況下不限於光學微影且可用於其他應用中，例如壓印微影中。
在內容背景允許之情況下，可以硬體、韌體、軟體或其任何組合來實施本發明之實施例。本發明之實施例亦可實施為儲存於機器可讀媒體上之指令，該等指令可由一或多個處理器讀取及執行。機器可讀媒體可包括用於儲存或傳輸以可由機器(例如，計算器件)讀取之形式之資訊的任何機構。舉例而言，機器可讀媒體可包括唯讀記憶體(ROM)；隨機存取記憶體(RAM)；磁性儲存媒體；光學儲存媒體；快閃記憶體器件；電學、光學、聲學或其他形式之傳播信號(例如，載波、紅外信號、數位信號等)；及其他。另外，韌體、軟體、常式、指令可在本文中描述為執行某些動作。然而，應瞭解，該等描述僅係出於方便起見，且該等動作事實上起因於計算器件、處理器、控制器或實行韌體、軟體、常式、指令等且在進行此操作時可使致動器或其他器件與實體世界相互作用之其他器件。
雖然上文已描述本發明之特定實施例，但應瞭解，可以與所描述之方式不同的其他方式來實踐本發明。以上描述意欲為例示性而非限制性的。因此，對於熟習此項技術者將顯而易見，可在不脫離下文所闡述之申請專利範圍之範疇的情況下對所描述之本發明進行修改。
ACT:致動器 B:輻射光束 BD:光束遞送系統 BF:基座框架 BM:平衡塊 C:目標部分 CU:控制單元 DS:阻尼器 DS':阻尼器 DSS:動態支撐系統 F:驅動力 FB:回饋控制器 FF:前饋控制器/前饋 FFR:力框架 FS:第一彈簧系統 GR:地面 IL:照明系統/照明器 IS:振動隔離系統 LA:微影裝置 M 1:遮罩對準標記 M 2:遮罩對準標記 MA:圖案化器件 MF:度量衡框架 MFR:量測框架 MS:量測系統 MT:遮罩支撐件 OB:可移動物件/物件 P:裝備 P 1:基板對準標記 P 2:基板對準標記 PCS:位置控制系統 PM:第一定位器 PMS:位置量測系統 PS:投影系統 PW:第二定位器 RF:參考件 RM:反應質量 S1:第一支撐件 S2:第二支撐件 SO:輻射源 SP:設定點產生器 SS:第二彈簧系統 TS:第三彈簧系統 VIS1:第一振動隔離系統 VIS2:第二振動隔離系統 W:基板 WT:基板支撐件/基板台/基板結構
現將參看隨附示意性圖式而僅作為實例來描述本發明之實施例，在該等圖式中： -  圖1描繪根據本發明之一實施例之微影裝置的示意圖綜述； -  圖2描繪圖1之微影裝置之部分的詳細視圖； -  圖3示意性地描繪根據本發明之一實施例的作為定位系統之部分的位置控制系統； -  圖4示意性地描繪根據本發明之另一實施例的具有定位系統之微影裝置的一部分。
ACT:致動器
CU:控制單元
DS:阻尼器
DS':阻尼器
DSS:動態支撐系統
F:驅動力
FFR:力框架
FS:第一彈簧系統
GR:地面
MFR:量測框架
MS:量測系統
OB:可移動物件/物件
RF:參考件
RM:反應質量
S1:第一支撐件
S2:第二支撐件
SS:第二彈簧系統
TS:第三彈簧系統
VIS1:第一振動隔離系統
VIS2:第二振動隔離系統

Claims (14)

  1. 一種用於移動或定位一可移動物件之定位系統，其包含： 一動態支撐系統，其包含： 一反應質量， 一第一支撐件， 一第一彈簧系統，其用以自該第一支撐件支撐該反應質量， 一第二支撐件， 一第二彈簧系統，其用以自該第二支撐件支撐該第一支撐件，以及 一阻尼系統，其用以將阻尼提供至該動態支撐系統， 一致動器，其用以在該可移動物件與該反應質量之間產生一驅動力以用於移動或定位該物件， 其中該動態支撐系統在一方向上之一第一固有頻率與一第二固有頻率實質上相同。
  2. 如請求項1之定位系統，其中該阻尼系統經配置於該反應質量與該第一支撐件之間。
  3. 如請求項1之定位系統，其中該阻尼系統經配置於該第一支撐件與該第二支撐件之間。
  4. 如請求項1至3中任一項之定位系統，其中該致動器係一非接觸式致動器。
  5. 如請求項1至3中任一項之定位系統，其中該阻尼系統包含一黏彈性阻尼器。
  6. 如請求項1至3中任一項之定位系統，其中該阻尼系統包含附接至該反應質量、該第一支撐件及/或該第二支撐件之一調諧質量阻尼器。
  7. 如請求項1至3中任一項之定位系統，其中該可移動物件係一鏡面。
  8. 如請求項1至3中任一項之定位系統，其進一步包含用以量測該可移動物件相對於一參考件之一位置的一量測系統，以及用以基於該量測系統之一輸出而控制該致動器的一控制單元。
  9. 一種微影裝置，其包含如請求項1至8中任一項之一定位系統。
  10. 如請求項9之微影裝置，其進一步包含： 一照明系統，其經組態以調節一輻射光束； 一支撐件，其經建構以支撐一圖案化器件，該圖案化器件能夠在該輻射之截面中向該輻射賦予一圖案以形成一經圖案化輻射光束； 一基板台，其經建構以固持一基板；以及 一投影系統，其經組態以將該經圖案化輻射光束投影至該基板之一目標部分上， 其中該可移動物件係該投影系統之一組件。
  11. 如請求項9或10之微影裝置，其進一步包含經由一振動隔離系統而彼此連接之一力框架及一量測框架，其中該第二支撐件係由該力框架支撐。
  12. 如請求項11之微影裝置，其中該定位系統係如請求項8之一定位系統，且其中該參考件經配置於該量測框架上。
  13. 一種用於使在一可移動物件與一動態支撐系統之一反應質量之間施加的驅動力之傳輸衰減的方法，該方法係藉由將該動態支撐系統組態為在一方向上具有實質上相同之一第一固有頻率及一第二固有頻率的一多質量彈簧阻尼器系統。
  14. 一種器件製造方法，其中使用如請求項9至12中任一項之一微影裝置。
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