JPS62273722A - 電子ビ−ム露光装置 - Google Patents
電子ビ−ム露光装置Info
- Publication number
- JPS62273722A JPS62273722A JP11699086A JP11699086A JPS62273722A JP S62273722 A JPS62273722 A JP S62273722A JP 11699086 A JP11699086 A JP 11699086A JP 11699086 A JP11699086 A JP 11699086A JP S62273722 A JPS62273722 A JP S62273722A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- stage
- cassette
- measured
- mirror
- exposed
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 title description 5
- 238000012937 correction Methods 0.000 claims abstract description 11
- 238000005259 measurement Methods 0.000 claims description 14
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 2
- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 abstract 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 3
- 230000006835 compression Effects 0.000 description 1
- 238000007906 compression Methods 0.000 description 1
- 230000008602 contraction Effects 0.000 description 1
Landscapes
- Electron Beam Exposure (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
３、発明の詳細な説明
［産業上の利用分野］
本発明は電子ビーム露光装置に関する。
［従来の技術］
従来、電子ビーム露光装置のステージ移動部はステージ
本体側面にミラーを取りつけ、そこを基準面としてレー
ザー測長系によって距離を測長することにより、ステー
ジ位置を割り出し、ステージ移動系を制御していた。そ
して、ステージ上の被露光材料を載せたカセットをステ
ージに機械的に密着させることにより、被露光材料の動
きをステージの動きと同一のものとしていた。又、カセ
ットの膨張、収縮が原因となっておこる被露光材料の位
置誤差を避ける為、ステージ温度を常に同一にすること
を目的とした温度コントロール系を採用したり、カセッ
トの材料として膨張係数の小さなものを選択したりする
等の工夫がなされていた。
本体側面にミラーを取りつけ、そこを基準面としてレー
ザー測長系によって距離を測長することにより、ステー
ジ位置を割り出し、ステージ移動系を制御していた。そ
して、ステージ上の被露光材料を載せたカセットをステ
ージに機械的に密着させることにより、被露光材料の動
きをステージの動きと同一のものとしていた。又、カセ
ットの膨張、収縮が原因となっておこる被露光材料の位
置誤差を避ける為、ステージ温度を常に同一にすること
を目的とした温度コントロール系を採用したり、カセッ
トの材料として膨張係数の小さなものを選択したりする
等の工夫がなされていた。
［発明が解決しようとする問題点コ
しかしながら、真空度変化等による断熱圧縮および断熱
膨張が生じる場合、カセットの温度変化が起こってしま
い、温度コントロール系によってこの変化を無くすのは
大変困難である。又、ステージとカセットとの間に機械
的なガタが生じた場合、温度コントロールを完全にし、
十分膨張係数が小さい材料を使ったとしても、被露光材
料の位置誤差が生じることは避けられない。
膨張が生じる場合、カセットの温度変化が起こってしま
い、温度コントロール系によってこの変化を無くすのは
大変困難である。又、ステージとカセットとの間に機械
的なガタが生じた場合、温度コントロールを完全にし、
十分膨張係数が小さい材料を使ったとしても、被露光材
料の位置誤差が生じることは避けられない。
本発明の目的は被露光材料の位置誤差をなくし高精度な
パターン露光を行う露光装置を提供することにある。
パターン露光を行う露光装置を提供することにある。
［問題点を解決するための手段］
本発明の電子ビーム露光装置はレーザー光の反射用ミラ
ーを装備したカセットと、カセットの位置を測定するレ
ーザー測長系と、ステージ位置を測定するレーザー測長
系と、カセットの位置およびステージ位置のデータを処
理し、ステージ移動制御系に与える補正値を計算する補
正値演算系とを有することを特徴とするものである。
ーを装備したカセットと、カセットの位置を測定するレ
ーザー測長系と、ステージ位置を測定するレーザー測長
系と、カセットの位置およびステージ位置のデータを処
理し、ステージ移動制御系に与える補正値を計算する補
正値演算系とを有することを特徴とするものである。
［実施例］
次に、本発明の一実施例について図により説明をする。
第１図はステージ系の概略図である。ステージ１にはミ
ラー７．７が装着され、カセット２にはミラー８ａ、
ａｂ、 ９ａ、 ９ｂが装着され、ミラー７ 、８ａ、
８ｂ、 ９ａ、 ９ｂを使用してなるステージのレー
ザー測長系３およびカセットのレーザー測長系４の測定
結果は補正値演算系５に各々入力される。補正値演算系
５で針線されたステージ位置補正データはステージ１の
移動制御系６に入力され、ステージ１の位置に補正を加
える。第２図はステージおよびカセットのレーザー測長
系の１例である。ステージが実線の位置（ポジション１
と呼ぶ）にある時に、カセット２に装着したミラー８ａ
。
ラー７．７が装着され、カセット２にはミラー８ａ、
ａｂ、 ９ａ、 ９ｂが装着され、ミラー７ 、８ａ、
８ｂ、 ９ａ、 ９ｂを使用してなるステージのレー
ザー測長系３およびカセットのレーザー測長系４の測定
結果は補正値演算系５に各々入力される。補正値演算系
５で針線されたステージ位置補正データはステージ１の
移動制御系６に入力され、ステージ１の位置に補正を加
える。第２図はステージおよびカセットのレーザー測長
系の１例である。ステージが実線の位置（ポジション１
と呼ぶ）にある時に、カセット２に装着したミラー８ａ
。
８ｂを使用してカセット２のレーザー副長系４ａ、 ４
ｂで測定を行ない、ｘｃ、ｙｃを測定する。一方ステー
ジ１に装着したミラー７を使用してステージ１のレーザ
ー測長系３ａ、 ３ｂで測定を行ない、Ｘ。
ｂで測定を行ない、ｘｃ、ｙｃを測定する。一方ステー
ジ１に装着したミラー７を使用してステージ１のレーザ
ー測長系３ａ、 ３ｂで測定を行ない、Ｘ。
およびｙ、を測定する。ポジション２でも同様にミラー
９ａ、 ９ｂを使用しｒｘ’、ｙｏ’を、マタミラー７
を使用してＸ’、ｙＳ’を測定する。
９ａ、 ９ｂを使用しｒｘ’、ｙｏ’を、マタミラー７
を使用してＸ’、ｙＳ’を測定する。
以上の測定結果より、△Ｘ （＝Ｘ −Ｘ、）。
△Ｖ （＝ｙ−’／、）および△ｘ ’ （＝ｘ ｃ
’−〇 ｘ、’）、△ｙ’ （−ｙ。’−ｙ、’＞なるデータ
を締出する。露光中に、あるインターバルを置いて、ポ
ジション１および２において、上記のような測定をし、
△Ｘ、△ｙ、ΔＸ ／、△ｙ′の値の変化に対応した補
正をステージ移動系に加えることにより、被露光材料の
位置誤差を小さくすることができる。また、△ＸとΔＸ
′、△ｙと△ｙ′を各々比較することによりカセットの
動きの回転成分も知ることができ、よりきめ細い補正を
行なうことが可能となる。
’−〇 ｘ、’）、△ｙ’ （−ｙ。’−ｙ、’＞なるデータ
を締出する。露光中に、あるインターバルを置いて、ポ
ジション１および２において、上記のような測定をし、
△Ｘ、△ｙ、ΔＸ ／、△ｙ′の値の変化に対応した補
正をステージ移動系に加えることにより、被露光材料の
位置誤差を小さくすることができる。また、△ＸとΔＸ
′、△ｙと△ｙ′を各々比較することによりカセットの
動きの回転成分も知ることができ、よりきめ細い補正を
行なうことが可能となる。
［発明の効果］
以上説明したように本発明ではカセットの膨張。
収縮および機械的なガタ等によるステージとカセットの
相対位置のずれに起因する露光材料位置の誤差を、ステ
ージ位置の補正を行なうことにより小さくすることがで
きるため、より精度高いパターン露光を行なうことがで
きる効果を有するものである。
相対位置のずれに起因する露光材料位置の誤差を、ステ
ージ位置の補正を行なうことにより小さくすることがで
きるため、より精度高いパターン露光を行なうことがで
きる効果を有するものである。
第１図は本発明の電子ビーム露光装置におけるステージ
系の概略図、第２図は本発明におけるステージおよびカ
セットのレーザー測長系の概念図である。 １・・・ステージ ２・・・カセット３・・・レ
ーザー副長系（ステージ系）４・・・レーザー測長系（
カセット） ５・・・補正値演算系 ６・・・ステージ移動制御系
７・・・ミラー ８，９・・・ミラー□ よ層上ン 僅演簀糸 口糸 匂 哩私ト引５ １・１１１■ ＋＋ １
系の概略図、第２図は本発明におけるステージおよびカ
セットのレーザー測長系の概念図である。 １・・・ステージ ２・・・カセット３・・・レ
ーザー副長系（ステージ系）４・・・レーザー測長系（
カセット） ５・・・補正値演算系 ６・・・ステージ移動制御系
７・・・ミラー ８，９・・・ミラー□ よ層上ン 僅演簀糸 口糸 匂 哩私ト引５ １・１１１■ ＋＋ １
Claims (1)
- （１）レーザー光の反射用ミラーを装備したカセットと
、該カセットの位置を測定するレーザー測長系と、ステ
ージ位置を測定するレーザー測長系と、カセットの位置
およびステージ位置のデータを処理し、ステージ移動制
御系に与える補正値を計算する補正値演算系とを有する
ことを特徴とする電子ビーム露光装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11699086A JPS62273722A (ja) | 1986-05-21 | 1986-05-21 | 電子ビ−ム露光装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11699086A JPS62273722A (ja) | 1986-05-21 | 1986-05-21 | 電子ビ−ム露光装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62273722A true JPS62273722A (ja) | 1987-11-27 |
Family
ID=14700746
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11699086A Pending JPS62273722A (ja) | 1986-05-21 | 1986-05-21 | 電子ビ−ム露光装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS62273722A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0878822A1 (en) * | 1997-04-10 | 1998-11-18 | Fujitsu Limited | Charged Particle beam exposure apparatus having a stage position measurement device |
| US5981118A (en) * | 1997-04-11 | 1999-11-09 | Fujitsu Ltd. | Method for charged particle beam exposure with fixed barycenter through balancing stage scan |
| JP2007116143A (ja) * | 2005-09-28 | 2007-05-10 | Asml Netherlands Bv | リソグラフィ装置およびデバイス製造方法 |
-
1986
- 1986-05-21 JP JP11699086A patent/JPS62273722A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0878822A1 (en) * | 1997-04-10 | 1998-11-18 | Fujitsu Limited | Charged Particle beam exposure apparatus having a stage position measurement device |
| US5981118A (en) * | 1997-04-11 | 1999-11-09 | Fujitsu Ltd. | Method for charged particle beam exposure with fixed barycenter through balancing stage scan |
| JP2007116143A (ja) * | 2005-09-28 | 2007-05-10 | Asml Netherlands Bv | リソグラフィ装置およびデバイス製造方法 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US5031331A (en) | Coordinate measuring apparatus | |
| US4362977A (en) | Method and apparatus for calibrating a robot to compensate for inaccuracy of the robot | |
| US5363196A (en) | Apparatus for measuring a departure from flatness or straightness of a nominally-plane mirror for a precision X-Y movable-stage | |
| JP2704734B2 (ja) | ステージ位置決め補正方法及び装置 | |
| US5910719A (en) | Tool center point calibration for spot welding guns | |
| JP2561861B2 (ja) | 組合わされたスケールと干渉計 | |
| JPH07117371B2 (ja) | 測定装置 | |
| JPS62273722A (ja) | 電子ビ−ム露光装置 | |
| US20030063267A1 (en) | Interferometer system for a semiconductor exposure system | |
| JPH10261565A (ja) | 荷電粒子線露光装置 | |
| JP2640339B2 (ja) | ロボット定数の自動補正方法 | |
| JP2853500B2 (ja) | 座標測定機の温度補正装置 | |
| JPH05223526A (ja) | 板厚測定装置 | |
| JPH01221605A (ja) | 厚み測定装置 | |
| JP2593483B2 (ja) | ＸＹθテーブルの初期設定方法 | |
| JPH0382013A (ja) | ステージ位置決め制御方法 | |
| JP2853501B2 (ja) | 座標測定機の温度補正装置 | |
| JPH063115A (ja) | 試料高さ計測装置 | |
| US5801833A (en) | Method of producing master and working pattern plates for etching and photolithographic apparatus therefor | |
| JP3744107B2 (ja) | ステージ移動装置 | |
| JPH1174330A (ja) | 半導体ウエファの位置決め装置 | |
| JPS6020513A (ja) | 移動テーブルの姿勢制御方法 | |
| JP2000314613A (ja) | 表面形状測定装置 | |
| KR960038502A (ko) | 위치 측정방법 | |
| JPH02302606A (ja) | 厚さ測定装置 |