JP2704734B2 - ステージ位置決め補正方法及び装置 - Google Patents

ステージ位置決め補正方法及び装置

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JP2704734B2 JP63220484A JP22048488A JP2704734B2 JP 2704734 B2 JP2704734 B2 JP 2704734B2 JP 63220484 A JP63220484 A JP 63220484A JP 22048488 A JP22048488 A JP 22048488A JP 2704734 B2 JP2704734 B2 JP 2704734B2
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    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70691—Handling of masks or workpieces
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    • G03F7/70775—Position control, e.g. interferometers or encoders for determining the stage position

Description

【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野］ 本発明は、半導体製造装置等に用いて好適なステージ
の位置決め補正方法および装置に関するものである。
［従来の技術］ 従来、この種のステージの位置決めにはレーザ測長器
を用いてその利用技術で位置決めを行なっているが、計
測位置と制御位置とのアッベ長が原因となって発生する
アッベ誤差のため位置決め精度が低下することがあっ
た。そのため、従来のステージでは位置決め精度に影響
を及ぼすこのようなアッベ長について、これを極力少な
くするための機構を用いていた。しかし、このようなア
ッベ誤差の積極的な補正制御を制御シーケンスに取り入
れている事例はなかった。
［発明が解決しようとする課題］ ところで、高精度位置決めにおいてステージの軸が多
軸になってくると、機構のみによる位置決め精度の達成
においては下記に示すような問題点が発生してくる。
１） ステージの走り精度を満足させる装置を製造する
ためには各機構の精度を上げる必要があり、製造工程に
おけるコストおよび納期が増加してしまう。
２） ステージの走り精度を満足させる環境条件の制約
が厳しくなる。
本発明の目的は、上述の従来形における問題点に鑑
み、求められているステージの走り精度の仕様を満足す
る位置決め装置を製造する製造工程におけるコストおよ
び納期等の負担を軽減し、厳しい環境条件の制約なしに
高精度の位置決めを実現するためのステージ位置決め補
正方法および装置を提供することにある。
［課題を解決するための手段および作用］ この目的を達成するため本発明のステージ位置決め補
正方法は、平面に沿って移動する直動ステージに前記平
面に対してティルトするティルトステージを設け、前記
直動ステージの位置決めに利用されるレーザ干渉計用ミ
ラーを前記ティルトステージに設け、前記直動ステージ
の位置決め前に前記レーザ干渉計用ミラーのティルト方
向の姿勢を計測し、前記直動ステージの位置決め後に前
記レーザ干渉計用ミラーのティルト方向の姿勢を再度計
測し、これらの計測結果から前記直動ステージの位置決
め前後における前記レーザ干渉計用ミラーのティルト方
向の姿勢の変動分を求め、前記レーザ干渉計用ミラーの
ティルト方向の姿勢の変動分により生じるアッベ誤差を
補正するために前記求められた変動分に基づいて前記テ
ィルトステージを駆動することを特徴とする。
また、本発明のステージ位置決め補正装置は、平面に
沿って移動する直動ステージと、前記直動ステージに設
けられた前記平面に対してティルトするティルトステー
ジと、前記ティルトステージに設けられ前記直動ステー
ジの位置決めに利用されるレーザ干渉計用ミラーと、前
記直動ステージの位置決め前後における前記レーザ干渉
計用ミラーのティルト方向の姿勢の変動分を計測する姿
勢変動分計測手段と、前記レーザ干渉計用ミラーのティ
ルト方向の姿勢の変動により生じるアッベ誤差を補正す
るために前記姿勢変動分計測手段によって計測された変
動分に基づいて前記ティルトステージを駆動するティル
トステージ駆動手段を有することを特徴とする。さら
に、前記姿勢変動分計測手段は前記レーザ干渉計用ミラ
ーに照射されるレーザビームを用いて前記レーザ干渉計
用ミラーのティルト方向の姿勢の変動を計測するもので
あることを特徴とする。
かかる構成により、軸位置（ステージ位置）計測点に
おけるピッチングやローリング量をレーザ干渉計等によ
り知ることができる。そして、位置決めステップ時に発
生したピッチングやローリング変位量を知り、制御シー
ケンスに基づき姿勢を再現させることができる。これに
より、軸の走り精度の範囲でしか保証されなかったアッ
ベ長に起因する位置決め精度を向上させることができ
る。
［実施例］ 以下、図面を用いて本発明の実施例を説明する。
第１図は、本発明の一実施例に係るステージ位置決め
装置の概略構成を示す平面図である。第２図は、第１図
装置の側面図である。第３図は、本発明の特徴を最もよ
く表わす原理図であって、特に測長用ミラーにおける測
長用レーザ干渉計の光軸とティルトが起こった場合に発
生する制御位置とのアッベ誤差を示した図である。
これらの図において、１はＸ軸測長用レーザ干渉計、
２はＸ軸ピッチング成分測長用レーザ干渉計、３はＹ軸
測長用レーザ干渉計、４はＹ軸ピッチング成分測長用レ
ーザ干渉計、５はレーザ干渉計用ミラー、６はＸステー
ジ、７はティルトステージ、８はＹステージである。ま
た、９は測長位置と位置決め制御位置間のアッベ長、10
はティルト変位によって発生したアッベ誤差、11はX,Y
位置決めによって発生するティルト変位角、12はステー
ジ位置決め前のミラー姿勢、13はX,Y軸位置決め後のミ
ラー姿勢、14は位置決め制御点、15はCPU18から命令を
うけて、Ｘステージを駆動するＸステージドライヴ手
段、16は同様のＹステージドライヴ手段、17は、同様の
ティルトステージドライヴ手段、18は、制御CPUを示
す。
ステージがX,Y方向へ位置決めされる際には、Ｘステ
ージのピッチングおよびＹステージのローリング成分に
より、Ｘ軸方向にアッベ誤差10が発生する。また、Ｙ軸
方向に対しては、ＹステージのピッチングおよびＸステ
ージのローリング成分により、同様のアッベ誤差が発生
する。このアッベ誤差10の誤差量は、アッベ長９が既知
であるため、Ｘ方向の場合はピッチング成分測長用レー
ザ干渉計２により計測されるピッチング角度成分とアッ
ベ長９とを乗じることにより求めることができる。Ｙ軸
方向についても同様の算定式より得られる。
本実施例においては、第４図のフローチャートに示す
ような手順で位置決めの補正制御を行なう。すなわちア
ッベ誤差10の発生を無くすために、先ずステップS21で
ステージ位置決め前のミラー姿勢12を記憶しておき、ス
テップS22で位置決めを行なった後、ステップS23で再度
ミラー姿勢13を計測する。そして、ステップS24でステ
ージ位置決め前のミラー姿勢12と位置決め後のミラー姿
勢13との間の姿勢変位分（ティルト角）11をCPU18を介
して、ティルトステージドライヴ手段によりティルトス
テージ７により補正制御するものである。
なお、上記実施例における姿勢変位量をポジションセ
ンサあるいはコリメータにて計測することによっても同
様にアッベ誤差補正制御を行なうことができる。
［発明の効果］ 以上説明したように、本発明によれば、位置決め前後
のステージの姿勢変動分に基づいてアッベ長からくるア
ッベ誤差を補正しているので、求められているステージ
の走り精度の仕様を満足する位置決め装置を製造する製
造工程におけるコストおよび納期等の負担を軽減し、厳
しい環境条件の制約なしに高精度の位置決めを実現する
ことができる。
【図面の簡単な説明】
第１図は、本発明の一実施例に係るステージ位置決め装
置であってピッチング成分測長用レーザ干渉計を用いた
ものの概略構成を示す平面図、 第２図は、第１図装置の側面図であってピッチング成分
測長用レーザ干渉計の配置を中心に表わした側面図、 第３図は、本発明の特徴を最もよく表わす原理図であっ
て、ステージ位置決めにおいてアッベ誤差の発生したレ
ーザ測長用ミラー部のみを表わした図、 第４図は、本実施例の装置の制御シーケンスを示すフロ
ーチャートである。 1:X軸測長用レーザ干渉計、 2:X軸ピッチング成分測長用レーザ干渉計、 3:Y軸測長用レーザ干渉計、 4:Y軸ピッチング成分測長用レーザ干渉計、 5:レーザ測長用ミラー、 6:Xステージ、 7:ティルトステージ、 8:Yステージ、 9:測長点と制御点間アッベ長、 10:ティルト変位によって発生するアッベ誤差、 11:X,Y位置決めによって発生するピッチング成分、 12:位置決め前のミラー姿勢、 13:位置決め後のミラー姿勢、 14:位置決め制御点、 15:Xステージドライヴ手段、 16:Yステージドライヴ手段、 17:ティルトステージドライヴ手段、 18:制御CPU。
フロントページの続き (56)参考文献 特開 昭56−102823（ＪＰ，Ａ) 特開 昭62−171125（ＪＰ，Ａ) 特開 昭62−88010（ＪＰ，Ａ) 実開 昭62−103256（ＪＰ，Ｕ) 特公 昭51−20908（ＪＰ，Ｂ１)

Claims (3)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】平面に沿って移動する直動ステージに前記
    平面に対してティルトするティルトステージを設け、前
    記直動ステージの位置決めに利用されるレーザ干渉計用
    ミラーを前記ティルトステージに設け、前記直動ステー
    ジの位置決め前に前記レーザ干渉計用ミラーのティルト
    方向の姿勢を計測し、前記直動ステージの位置決め後に
    前記レーザ干渉計用ミラーのティルト方向の姿勢を再度
    計測し、これらの計測結果から前記直動ステージの位置
    決め前後における前記レーザ干渉計用ミラーのティルト
    方向の姿勢の変動分を求め、前記レーザ干渉計用ミラー
    のティルト方向の姿勢の変動により生じるアッベ誤差を
    補正するために前記求められた変動分に基づいて前記テ
    ィルトステージを駆動することを特徴とするステージ位
    置決め補正方法。
  2. 【請求項２】平面に沿って移動する直動ステージと、前
    記直動ステージに設けられ前記平面に対してティルトす
    るティルトステージと、前記ティルトステージに設けら
    れ前記直動ステージの位置決めに利用されるレーザ干渉
    計用ミラーと、前記直動ステージの位置決め前後におけ
    る前記レーザ干渉計用ミラーのティルト方向の姿勢の変
    動分を計測する姿勢変動分計測手段と、前記レーザ干渉
    計用ミラーのティルト方向の姿勢の変動により生じるア
    ッベ誤差を補正するために前記姿勢変動分計測手段によ
    って計測された変動分に基づいて前記ティルトステージ
    を駆動するティルトステージ駆動手段を有することを特
    徴とするステージ位置決め補正装置。
  3. 【請求項３】前記姿勢変動分計測手段は前記レーザ干渉
    計用ミラーに照射されるレーザビームを用いて前記レー
    ザ干渉計用ミラーのティルト方向の姿勢の変動を計測す
    るものであることを特徴とする請求項２に記載のステー
    ジ位置決め補正装置。
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN107791100A (zh) * 2017-09-28 2018-03-13 宝鸡市永盛泰钛业有限公司 一种用于数控机床的定位误差补偿系统

Families Citing this family (60)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5523843A (en) * 1990-07-09 1996-06-04 Canon Kabushiki Kaisha Position detecting system
US5335091A (en) * 1991-12-31 1994-08-02 Eastman Kodak Company Apparatus for mechanically dithering a CCD array
JP3217522B2 (ja) * 1992-03-02 2001-10-09 キヤノン株式会社 精密位置決め装置
JP3282233B2 (ja) * 1992-08-18 2002-05-13 株式会社ニコン 距離測定装置、及びそれを用いた投影露光装置
JP3005139B2 (ja) * 1993-06-01 2000-01-31 キヤノン株式会社 半導体製造方法
US6122036A (en) * 1993-10-21 2000-09-19 Nikon Corporation Projection exposure apparatus and method
US5715064A (en) * 1994-06-17 1998-02-03 International Business Machines Corporation Step and repeat apparatus having enhanced accuracy and increased throughput
JPH0864504A (ja) * 1994-08-26 1996-03-08 Nikon Corp ステージ装置
US5548195A (en) * 1994-12-22 1996-08-20 International Business Machines Corporation Compensated servo control stage positioning apparatus
EP0823977B1 (en) * 1996-03-04 2002-01-16 ASM Lithography B.V. Lithopraphic apparatus for step-and-scan imaging of a mask pattern
KR19980019031A (ko) * 1996-08-27 1998-06-05 고노 시게오 스테이지 장치(a stage apparatus)
US6411387B1 (en) 1996-12-16 2002-06-25 Nikon Corporation Stage apparatus, projection optical apparatus and exposure method
JPH10270305A (ja) * 1997-03-26 1998-10-09 Nikon Corp 露光方法
US20030145353A1 (en) * 1997-05-07 2003-07-31 Lightner Jonathan E. Starch biosynthetic enzymes
US6330052B1 (en) * 1997-06-13 2001-12-11 Canon Kabushiki Kaisha Exposure apparatus and its control method, stage apparatus, and device manufacturing method
EP1052683A4 (en) * 1998-01-29 2004-03-17 Nikon Corp EXPOSURE METHOD AND ASSOCIATED DEVICE
JP2000288873A (ja) * 1999-04-07 2000-10-17 Fuji Seiki Kk ワーク姿勢調整装置及びワーク姿勢調整方法
JP2001015056A (ja) * 1999-04-28 2001-01-19 Canon Inc 試料ホルダーおよび該試料ホルダーに用いるスペーサー
US6888638B1 (en) 1999-05-05 2005-05-03 Zygo Corporation Interferometry system having a dynamic beam steering assembly for measuring angle and distance
ATE401550T1 (de) * 1999-08-31 2008-08-15 Nxp Bv Verfahren und vorrichtung zur bestimmung des verziehens einer halbleiterscheibe
DE60114397T2 (de) * 2000-01-11 2006-08-03 Electro Scientific Industries, Inc., Portland Verfahren und vorrichtung zur korrektur von abbe fehlern
EP1117010B1 (en) * 2000-01-14 2006-05-31 ASML Netherlands B.V. Lithographic apparatus with system for determining the Abbe arm
TW522287B (en) * 2000-01-14 2003-03-01 Asml Netherlands Bv Lithographic projection apparatus, method of calibrating a lithographic projection apparatus, method of manufacturing a device using a lithographic projection apparatus, and device manufactured thereby
DE60118726T2 (de) * 2000-05-19 2006-08-24 Zygo Corp., Middlefield In-situ spiegel-charakterisierung
US6509971B2 (en) 2001-05-09 2003-01-21 Nikon Corporation Interferometer system
US7019843B2 (en) 2001-05-10 2006-03-28 Zygo Corporation Method and apparatus for stage mirror mapping
US6847452B2 (en) * 2001-08-02 2005-01-25 Zygo Corporation Passive zero shear interferometers
US6674512B2 (en) 2001-08-07 2004-01-06 Nikon Corporation Interferometer system for a semiconductor exposure system
WO2003016815A1 (en) * 2001-08-20 2003-02-27 Zygo Corporation In-situ mirror characterization
EP1419361A1 (en) * 2001-08-23 2004-05-19 Zygo Corporation Dynamic interferometric controlling direction of input beam
US6912054B2 (en) * 2001-08-28 2005-06-28 Zygo Corporation Interferometric stage system
US6785005B2 (en) 2001-09-21 2004-08-31 Nikon Corporation Switching type dual wafer stage
US6665054B2 (en) 2001-10-22 2003-12-16 Nikon Corporation Two stage method
US7042574B2 (en) * 2001-12-03 2006-05-09 Zygo Corporation Compensating for effects of non-isotropic gas mixtures in interferometers
TWI259898B (en) * 2002-01-24 2006-08-11 Zygo Corp Method and apparatus for compensation of time-varying optical properties of gas in interferometry
AU2003209139A1 (en) * 2002-02-12 2003-09-04 Zygo Corporation Method and apparatus to measure fiber optic pickup errors in interferometry systems
US6906784B2 (en) * 2002-03-04 2005-06-14 Zygo Corporation Spatial filtering in interferometry
JP2005525548A (ja) * 2002-05-13 2005-08-25 ザイゴ　コーポレーション 平面ミラー干渉計におけるビーム・ミスアライメントの幾何学的影響の補償
US7262860B2 (en) * 2002-07-29 2007-08-28 Zygo Corporation Compensation for errors in off-axis interferometric measurements
US7321432B2 (en) * 2002-09-09 2008-01-22 Zygo Corporation Measurement and compensation of errors in interferometers
US7274462B2 (en) * 2002-09-09 2007-09-25 Zygo Corporation In SITU measurement and compensation of errors due to imperfections in interferometer optics in displacement measuring interferometry systems
AU2003298613A1 (en) * 2002-11-04 2004-06-07 Zygo Corporation Compensation of refractivity perturbations in an intererometer path
WO2004053425A1 (en) * 2002-12-12 2004-06-24 Zygo Corporation In-process correction of stage mirror deformations during a photolithography exposure cycle
US7327465B2 (en) * 2003-06-19 2008-02-05 Zygo Corporation Compensation for effects of beam misalignments in interferometer metrology systems
WO2004113826A2 (en) * 2003-06-19 2004-12-29 Zygo Corporation Compensation for imperfections in a measurement object and for beam misalignments in plane mirror interferometers
US7180603B2 (en) * 2003-06-26 2007-02-20 Zygo Corporation Reduction of thermal non-cyclic error effects in interferometers
WO2005045529A2 (en) * 2003-11-04 2005-05-19 Zygo Corporation Characterization and compensation of errors in multi-axis interferometry system
US7379190B2 (en) * 2004-01-05 2008-05-27 Zygo Corporation Stage alignment in lithography tools
JP4790632B2 (ja) * 2004-01-06 2011-10-12 ザイゴ コーポレーション 多軸干渉計ならびに多軸干渉計を用いる方法およびシステム
JP2005249794A (ja) * 2004-03-03 2005-09-15 Zygo Corp 干渉計および干渉計を使用するシステム
WO2005106383A2 (en) * 2004-04-22 2005-11-10 Zygo Corporation Interferometry systems and methods of using interferometry systems
US7375823B2 (en) * 2004-04-22 2008-05-20 Zygo Corporation Interferometry systems and methods of using interferometry systems
WO2006014406A2 (en) 2004-06-30 2006-02-09 Zygo Corporation Interferometric optical assemblies and systems including interferometric optical assemblies
US7489407B2 (en) * 2004-10-06 2009-02-10 Zygo Corporation Error correction in interferometry systems
WO2006102234A2 (en) * 2005-03-18 2006-09-28 Zygo Corporation Multi-axis interferometer with procedure and data processing for mirror mapping
US20070181545A1 (en) * 2006-02-06 2007-08-09 Boyette James E Method and apparatus for controlling sample position during material removal or addition
KR101477471B1 (ko) * 2006-09-01 2014-12-29 가부시키가이샤 니콘 이동체 구동 방법 및 이동체 구동 시스템, 패턴 형성 방법 및 장치, 노광 방법 및 장치, 그리고 디바이스 제조 방법
US8724115B2 (en) * 2011-09-06 2014-05-13 Kla-Tencor Corporation Linear stage and metrology architecture for reflective electron beam lithography
US20130141736A1 (en) * 2011-12-01 2013-06-06 Mingwu Bai Control method and apparatus for positioning a moving object
KR101864810B1 (ko) 2012-08-29 2018-07-04 에이에스엠엘 홀딩 엔.브이. 실시간 레티클 만곡 감지

Family Cites Families (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3786332A (en) * 1969-03-19 1974-01-15 Thomson Houston Comp Francaise Micro positioning apparatus
JPS5120908A (ja) * 1974-08-13 1976-02-19 Matsushita Electric Ind Co Ltd Hatsuhoshitsuseramitsukuno seizohoho
US4710865A (en) * 1984-11-14 1987-12-01 Canon Kabushiki Kaisha Control system for positioning an object using switching from a speed control mode to a position control mode with adjustable brain
JPS6288010A (ja) * 1985-10-14 1987-04-22 Matsushita Electric Works Ltd 平面の角度合わせ装置
JPS62103256U (ja) * 1985-12-18 1987-07-01
JPH06101427B2 (ja) * 1986-01-24 1994-12-12 株式会社ニコン 露光装置
JPH0756608B2 (ja) * 1986-03-24 1995-06-14 キヤノン株式会社 位置決め制御装置

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN107791100A (zh) * 2017-09-28 2018-03-13 宝鸡市永盛泰钛业有限公司 一种用于数控机床的定位误差补偿系统

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