JP2002157017A - 位置決め装置 - Google Patents

位置決め装置

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JP2002157017A
JP2002157017A JP2000353735A JP2000353735A JP2002157017A JP 2002157017 A JP2002157017 A JP 2002157017A JP 2000353735 A JP2000353735 A JP 2000353735A JP 2000353735 A JP2000353735 A JP 2000353735A JP 2002157017 A JP2002157017 A JP 2002157017A
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Toshihiro Ishida
敏博 石田
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 安価なミラーを用いて、しかも高精度な平面
ミラーの位置合わせを行わなくても高精度な位置決めを
確保できる位置決め装置を実現する。 【解決手段】 圧縮気体によりプラテン上に浮揚させら
れたスライダを移動させ、このスライダの位置をレーザ
干渉計で検出し、検出した位置と位置指令値との偏差を
もとにスライダを位置決めする位置決め装置において、
校正時にスライダに高精度の平面ミラーを搭載し、この
平面ミラーを使って検出したスライダの位置が位置指令
値に対してどれだけずれているかを算出し、ずれを補正
する補正値を求める。通常の位置決め動作においては高
精度の平面ミラーは取り除き、校正時に求めた補正値で
位置指令値を補正する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、レーザ干渉計を位
置センサとして用いて対象物を位置決めする位置決め装
置に関するものである。
【0002】
【従来の技術】レーザ干渉計を位置センサとして用いた
位置決め装置として、例えば特開2000−65970
号公報に記載された装置があった。図6はこの装置の概
略図である。図6で、プラテン10は、磁性体で構成さ
れていて、X軸方向及びY軸方向に沿って一定ピッチで
歯が形成されている。図では簡略化のため一部の歯だけ
を示している。スライダ11には位置決めの対象物が載
せられる。浮揚手段12は、スライダ11をプラテン1
0上に浮揚させる。スライダ11のプラテン10と対向
する面にはノズルが設けられていて、このノズルから浮
揚手段12が圧縮空気を噴出させることによって、浮上
力を得ている。
【0003】Y軸モータ13は、スライダ11に搭載さ
れ、Y軸方向に一定ピッチで歯132が形成されてい
る。Y軸モータ13は、歯132とプラテン10の歯1
01との間に磁気吸引力を生じさせてスライダをY軸方
向に移動させる。X軸モータ14,15は、スライダ1
1の中心に対して対称な位置にそれぞれ搭載されてい
る。X軸モータ14,15は、X軸方向に一定ピッチで
歯141,151が形成されている。X軸モータ14,
15は、歯141,151と歯101との間に磁気吸引
力を生じさせてスライダをX軸方向に移動させる。
【0004】連結部材111,112はY軸モータ13
とX軸モータ14,15を連結する。X軸ミラー16
は、プラテン10の側面に装着され、Y軸方向に鏡面が
形成されている。Y軸ミラー17は、プラテン10の側
面に装着され、X軸方向に鏡面が形成されている。
【0005】Y軸センサ18は、Y軸モータ13に搭載
されていて、Y軸ミラー17に光を照射し、その反射光
を受け、光の干渉を利用してスライダ11のY軸方向の
位置を検出するレーザ干渉計である。X軸センサ19及
び20は、X軸モータ14及び15にそれぞれ搭載され
ていて、X軸ミラー16に光を照射し、その反射光を受
け、光の干渉を利用してスライダ11のY軸方向の位置
を検出するレーザ干渉計である。
【0006】Y軸制御部21は、Y軸指令位置とY軸セ
ンサ18の検出位置の偏差をもとにスライダ11の位置
をフィードバック制御する。X軸制御部22及び23
は、X軸指令位置とX軸センサ19,20の検出位置の
偏差をもとにスライダ11の位置をそれぞれフィードバ
ック制御する。
【0007】スライダ10は、X軸とY軸に直交する軸
のまわりに回転ずれを生じることがある。これをヨーイ
ングとする。回転ずれの角度をヨーイング角θとする。
回転ずれがないときは、ヨーイング角θは0である。
【0008】このような位置決め装置では、ミラー1
6,17に反りがあると、スライダ11は反ったミラー
面に沿って移動するため、位置決め誤差が生じる。ま
た、ミラー16と17が直交しないときにも同様に位置
決め誤差が生じる。
【0009】これを解決するための位置決め装置とし
て、スライダに高精度の平面ミラーを搭載し、固定側に
レーザ干渉計を設けた装置があった。しかし、この従来
例では、平面ミラーの大きさでレーザ干渉計の測長範囲
(スライダの動作ストローク範囲)が決まってしまう。
ストローク範囲を長くしようとすると、ミラーが大型化
するとともに、それを固定するスライダも大型化しなけ
ればならなかった。また、スライダに大型のミラーを搭
載すると、重量増加に伴ってスライダにかかる負荷が大
きくなる。
【0010】
【発明が解決しようとする課題】本発明は上述した問題
点を解決するためになされたものであり、校正時にスラ
イダに高精度の平面ミラーを搭載し、この平面ミラーを
使って検出したスライダの位置が位置指令値に対してど
れだけずれているかを算出し、ずれを補正する補正値を
求め、通常の位置決め動作においては高精度の平面ミラ
ーは取り除き、校正時に求めた補正値で位置指令値を補
正することによって安価なミラーを用いて、しかも高精
度な平面ミラーの位置合わせを行わなくても高精度な位
置決めを確保できる位置決め装置を実現することを目的
とする。
【0011】
【課題を解決するための手段】本発明は次のとおりの構
成になった位置決め装置である。
【0012】(1)レーザ干渉計を用いてスライダを位
置決めする位置決め装置において、校正時に前記スライ
ダに搭載される校正用ミラーと、校正時に固定側に設置
され、前記校正用ミラーにレーザ光を照射し、その反射
光を受け、光の干渉によりスライダの位置を検出する校
正用レーザ干渉計と、校正時に前記校正用ミラーと校正
用レーザ干渉計を用いて位置の補正値を求め、位置決め
動作時には前記補正値で位置指令値を補正することを特
徴とする位置決め装置。
【0013】(2)圧縮気体によりプラテン上に浮揚さ
せられたスライダを移動させ、このスライダの位置をレ
ーザ干渉計で検出し、検出した位置と位置指令値との偏
差をもとにスライダを位置決めする位置決め装置におい
て、校正時に前記スライダに搭載される校正用ミラー
と、校正時に固定側に設置され、前記校正用ミラーにレ
ーザ光を照射し、その反射光を受け、光の干渉によりス
ライダの位置を検出する校正用レーザ干渉計と、校正時
に位置指令値が与えられてスライダが位置決めされたと
き、このときの位置指令値と、前記校正用レーザ干渉計
の検出位置を突き合わせてずれ量求め、このずれ量を補
正する補正値を算出する補正値算出手段と、位置決め動
作時に前記補正値算出手段で算出した補正値で位置指令
値を補正する補正手段と、を有することを特徴とする位
置決め装置。
【0014】(3)圧縮気体によりプラテン上に浮揚さ
せられたスライダを移動させ、このスライダの位置をレ
ーザ干渉計で検出し、検出した位置と位置指令値との偏
差をもとにスライダを位置決めする位置決め装置におい
て、校正時に前記スライダに搭載される校正用ミラー
と、校正時に固定側の異なる位置にそれぞれ設置され、
前記校正用ミラーにレーザ光を照射し、その反射光を受
け、光の干渉によりスライダの位置をそれぞれ検出する
第1及び第2の校正用レーザ干渉計と、校正時に位置指
令値が与えられてスライダが位置決めされたときに、前
記第1及び第2の校正用レーザ干渉計の検出位置をもと
にスライダのヨーイング角を求め、このヨーイング角を
0にする補正値を算出する補正値算出手段と、位置決め
動作時に前記補正値算出手段で算出した補正値をもとに
位置指令値を補正する補正手段と、を有することを特徴
とする位置決め装置。
【0015】(4)校正時に与えられた位置指令値と、
前記補正値算出手段で求めた補正値を対応させて格納し
た補正テーブルを設け、前記補正手段は、位置決め動作
時には、与えられた位置指令値をもとに前記補正テーブ
ルから補正値を読み出し、読み出した補正値をもとに位
置指令値を補正することを特徴とする(2)または
(3)記載の位置決め装置。
【0016】(5)前記補正手段は、補正テーブルにな
い位置指令値が与えられたときは、補正テーブルにある
補正値を用いて補間演算を行い、補正テーブルにない位
置指令値に対応する補正値を求めることを特徴とする
(4)記載の位置決め装置。
【0017】
【発明の実施の形態】以下図面を用いて本発明を詳しく
説明する。図1は本発明の一実施例を示す構成図であ
る。図1で前出の図と同一のものは同一符号を付ける。
この図は校正時における位置決め装置の状態を示してい
る。校正用ミラー30,31は、校正時にスライダ11
に搭載される。校正用ミラー30,31は、ミラー面が
Y軸方向とX軸方向に延びた平面ミラーである。校正用
ミラー30,31は、X軸ミラー16、Y軸ミラー17
よりも高精度に製造されたミラーである。
【0018】校正用レーザ干渉計32は、校正時に固定
側に設置され、校正用ミラー31にレーザ光を照射し、
ミラーの反射光を受け光の干渉をもとにしてスライダの
位置を検出する。校正用レーザ干渉計32の構成を説明
する。レーザヘッド321から出射されたレーザ光は、
ビームベンダ322、ビームスプリッタ323,324
を経由して干渉計325〜327に伝送される。干渉計
325と326は校正ミラー30にレーザ光を照射し、
スライダ11のX軸方向位置を検出する。X軸方向位置
を検出する干渉計が2個設けられているのは、スライダ
11のヨーイングを検出するためである。干渉計327
は校正ミラー31にレーザ光を照射し、スライダ11の
Y軸方向位置を検出する。
【0019】補正値算出手段33は、校正時に位置指令
値が与えられてスライダ11が位置決めされたとき、こ
のときの位置指令値で指定される2次元位置と、校正用
レーザ干渉計32で検出した2次元位置を突き合わせ、
これらの偏差からずれ量を求め、このずれ量を補正する
補正値を算出する。なお、X軸方向の位置を検出する干
渉計は2つ(325と326)あるが、一方を用いて検
出しても、2つの検出値の平均値とってもよい。
【0020】また、補正値算出手段33は、校正時に位
置指令値が与えられてスライダ11が位置決めされたと
きに、干渉計325と326で検出したX軸方向の位置
の差をもとにスライダのヨーイング角を算出し、このヨ
ーイング角を0にするための補正値を算出する。補正テ
ーブル34は、位置指令値と補正値算出手段33で算出
した補正値を対応させて格納している。補正手段35
は、位置決め動作時には、与えられた位置指令値をもと
に補正テーブル35から補正値を読み出し、読み出した
補正値をもとに位置指令値を補正する。これによって、
位置ずれやヨーイングを補正した位置指令値が生成され
る。校正が終わると、校正用ミラー30,31と校正用
レーザ干渉計32は取り除かれる。従って、通常の位置
決め動作時にはスライダ11に公正用ミラー30,31
は搭載されていない。
【0021】このように構成した装置の動作を説明す
る。図2に示すように、X軸ミラー16に反りがある場
合は、スライダ11は2つのX軸センサ19,20(レ
ーザ干渉計)の光路長X1,X2が等しくなるように移
動するため、スライダ11は角度を変えながら移動す
る。これにより、スライダがヨーイングして位置決め誤
差が生じる。図2では説明の都合上ミラーの反りを誇張
している。また、図3に示すように、X軸ミラー16と
Y軸ミラー17に直交度誤差φがあるときは、このミラ
ーを基準にして位置決めすると位置決め誤差が生じる。
【0022】上述した位置決め誤差は次のようにして補
正する。まず、スライダのヨーイング角を測定する。図
4はヨーイング角の測定のしかたを示した説明図であ
る。スライダが位置P1にあるときを原点位置とする。
位置P1におけるヨーイング角θ0は次式のとおりとな
る。 θ0=(X20−X10)/L L:干渉計325と326のビーム間距離 スライダが位置P2にあるときの干渉計325と326
の検出距離をX1′,X2′とすると、位置P2におけ
るヨーイング角θ1は次式のとおりとなる。 θ1=(X2′−X1′)/L スライダが位置P3にあるときの干渉計325と326
の検出距離をX1″,X2″とすると、位置P1におけ
るヨーイング角θ2は次式のとおりとなる。 θ2=(X2″−X1″)/L
【0023】補正量算出手段33は、ヨーイング角θを
0にするための補正値を求める。スライダをP1,P
2,P3に位置決めしたときに与えた位置指令値と、そ
れぞれのときに求めた補正値とを対応させて補正テーブ
ル35に格納する。通常の位置決め動作を行うときは、
補正手段35は位置指令値を補正値で補正する。
【0024】図5はヨーイング角を補正した後における
スライダの移動を示した図である。ヨーイング角の補正
後は、スライダは移動しても向きを変えない。しかし、
スライダが位置R1,R2,R3のいずれにあるとき
も、干渉計325と326の検出位置は異なる。これ
は、図3に示したようなミラーの直交度誤差、ミラーの
反り等が原因となっている。補正量算出手段33は、ス
ライダが位置R1に位置決めしたときに与えられた位置
指令値と、干渉計325と326の検出位置の平均値と
を突き合わせ、両者のずれ量を求める。そして、ずれ量
を除去するための補正値を求める。なお、位置指令値と
一方の干渉計325と326の検出位置を突き合わせて
もよい。位置R2,R3に位置決めしたときについても
同様に補正値を求める。スライダをR1,R2,R3に
位置決めしたときに与えた位置指令値と、それぞれのと
きに求めた補正値とを対応させて補正テーブル35に格
納する。通常の位置決め動作を行うときは、補正手段3
5は位置指令値に対して補正値を加減算することにより
補正する。
【0025】このようにして位置指令値を補正し、ヨー
イング角と位置ずれを除去する。
【0026】補正手段35は、補正テーブル34にない
位置指令値が与えられたときは、補正テーブルにある位
置指令値を用いて補間演算を行い、補正テーブルにない
位置指令値に対応する補正値を求める。補間は1次補間
でも2次以上の補間であってもよい。
【0027】
【発明の効果】本発明によれば次の効果が得られる。
【0028】請求項1乃至請求項3記載の発明では、校
正時にスライダに高精度の平面ミラーを搭載し、この平
面ミラーを使って検出したスライダの位置が位置指令値
に対してどれだけずれているかを算出し、ずれを補正す
る補正値を求める。そして、通常の位置決め動作におい
ては高精度の平面ミラーは取り除き、校正時に求めた補
正値で位置指令値を補正する。これによって、高精度な
平面ミラーを用いて位置合わせを行わなくても、安価な
ミラーを用いることによっても高精度な位置決めを可能
にした。
【0029】請求項4記載の発明では、位置指令値と補
正値を対応させた補正テーブルを設けているため、複雑
な演算処理を行わなくても補正値が得られる。これによ
って、位置決め制御のリアルタイム性を実現できる。
【0030】請求項5記載の発明では、補正テーブルに
ない位置指令値については補間演算によって補正値を求
めているため、補正テーブルには多くの分割数で補正値
を用意しておかなくてもよい。2次元の位置決めでは、
補正値は分割数の2乗分が必要になるため、補正テーブ
ル用に記憶保持タイプの高価なメモリを多量に用意する
必要がないという点で特に有効である。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の一実施例を示す構成図である。
【図2】本発明の動作説明図である。
【図3】本発明の動作説明図である。
【図4】本発明の動作説明図である。
【図5】本発明の動作説明図である。
【図6】従来における位置決め装置の構成例を示した図
である。
【符号の説明】
10 プラテン 11 スライダ 30,31 校正用ミラー 32 校正用レーザ干渉計 33 補正値算出手段 34 補正テーブル 35 補正手段
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Fターム(参考) 2F065 AA03 BB15 FF55 GG04 LL12 LL19 LL46 MM03 QQ23 QQ25 QQ42 2F078 CA08 CB05 CB09 CB12 CB16 CC11 3F059 AA06 AA11 DA02 DA08 DC08 DD11 FB05 FB12 FB16 5H303 AA01 BB02 BB08 CC01 DD04 DD12 FF08 GG13 HH01

Claims (5)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 レーザ干渉計を用いてスライダを位置決
    めする位置決め装置において、 校正時に前記スライダに搭載される校正用ミラーと、 校正時に固定側に設置され、前記校正用ミラーにレーザ
    光を照射し、その反射光を受け、光の干渉によりスライ
    ダの位置を検出する校正用レーザ干渉計と、 校正時に前記校正用ミラーと校正用レーザ干渉計を用い
    て位置の補正値を求め、位置決め動作時には前記補正値
    で位置指令値を補正することを特徴とする位置決め装
    置。
  2. 【請求項2】 圧縮気体によりプラテン上に浮揚させら
    れたスライダを移動させ、このスライダの位置をレーザ
    干渉計で検出し、検出した位置と位置指令値との偏差を
    もとにスライダを位置決めする位置決め装置において、 校正時に前記スライダに搭載される校正用ミラーと、 校正時に固定側に設置され、前記校正用ミラーにレーザ
    光を照射し、その反射光を受け、光の干渉によりスライ
    ダの位置を検出する校正用レーザ干渉計と、 校正時に位置指令値が与えられてスライダが位置決めさ
    れたとき、このときの位置指令値と、前記校正用レーザ
    干渉計の検出位置を突き合わせてずれ量求め、このずれ
    量を補正する補正値を算出する補正値算出手段と、 位置決め動作時に前記補正値算出手段で算出した補正値
    で位置指令値を補正する補正手段と、を有することを特
    徴とする位置決め装置。
  3. 【請求項3】 圧縮気体によりプラテン上に浮揚させら
    れたスライダを移動させ、このスライダの位置をレーザ
    干渉計で検出し、検出した位置と位置指令値との偏差を
    もとにスライダを位置決めする位置決め装置において、 校正時に前記スライダに搭載される校正用ミラーと、 校正時に固定側の異なる位置にそれぞれ設置され、前記
    校正用ミラーにレーザ光を照射し、その反射光を受け、
    光の干渉によりスライダの位置をそれぞれ検出する第1
    及び第2の校正用レーザ干渉計と、 校正時に位置指令値が与えられてスライダが位置決めさ
    れたときに、前記第1及び第2の校正用レーザ干渉計の
    検出位置をもとにスライダのヨーイング角を求め、この
    ヨーイング角を0にする補正値を算出する補正値算出手
    段と、 位置決め動作時に前記補正値算出手段で算出した補正値
    をもとに位置指令値を補正する補正手段と、を有するこ
    とを特徴とする位置決め装置。
  4. 【請求項4】 校正時に与えられた位置指令値と、前記
    補正値算出手段で求めた補正値を対応させて格納した補
    正テーブルを設け、 前記補正手段は、位置決め動作時には、与えられた位置
    指令値をもとに前記補正テーブルから補正値を読み出
    し、読み出した補正値をもとに位置指令値を補正するこ
    とを特徴とする請求項2または請求項3記載の位置決め
    装置。
  5. 【請求項5】 前記補正手段は、補正テーブルにない位
    置指令値が与えられたときは、補正テーブルにある補正
    値を用いて補間演算を行い、補正テーブルにない位置指
    令値に対応する補正値を求めることを特徴とする請求項
    4記載の位置決め装置。
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Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006200969A (ja) * 2005-01-19 2006-08-03 Yokogawa Electric Corp 平面モータ
JP2007163409A (ja) * 2005-12-16 2007-06-28 Yokogawa Electric Corp Xyステージ
JP2008003056A (ja) * 2006-06-26 2008-01-10 Yokogawa Electric Corp Xyステージ
JP2010120123A (ja) * 2008-11-20 2010-06-03 Yamaha Motor Co Ltd 直交ロボット、該直交ロボットを備えた部品実装装置および前記直交ロボットの制御方法
CN106767512A (zh) * 2016-12-29 2017-05-31 哈尔滨工业大学 基于实时监测运动误差的光学元件高精度测量装置
CN114654092A (zh) * 2022-04-18 2022-06-24 北京理工大学 一种激光微结构高效加工及精密测量的方法和装置

Cited By (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006200969A (ja) * 2005-01-19 2006-08-03 Yokogawa Electric Corp 平面モータ
JP4595554B2 (ja) * 2005-01-19 2010-12-08 横河電機株式会社 平面モータ
JP2007163409A (ja) * 2005-12-16 2007-06-28 Yokogawa Electric Corp Xyステージ
JP4716178B2 (ja) * 2005-12-16 2011-07-06 横河電機株式会社 Xyステージ
JP2008003056A (ja) * 2006-06-26 2008-01-10 Yokogawa Electric Corp Xyステージ
JP2010120123A (ja) * 2008-11-20 2010-06-03 Yamaha Motor Co Ltd 直交ロボット、該直交ロボットを備えた部品実装装置および前記直交ロボットの制御方法
CN106767512A (zh) * 2016-12-29 2017-05-31 哈尔滨工业大学 基于实时监测运动误差的光学元件高精度测量装置
CN114654092A (zh) * 2022-04-18 2022-06-24 北京理工大学 一种激光微结构高效加工及精密测量的方法和装置
CN114654092B (zh) * 2022-04-18 2023-03-14 北京理工大学 一种激光微结构高效加工及精密测量的方法和装置

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