JPH10270525A - 基板処理装置、基板処理システムおよび処理レシピのデータ構造 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 データ内容の変更が容易でかつ他の基板処理
装置への転用が可能な処理レシピを用いた基板処理装
置、基板処理システムを提供することである。 【解決手段】 基板処理装置の処理レシピは、基板の搬
送手順を規定するフローレシピデータ１と処理ユニット
の処理条件を処理ユニットの種別ごとに分類して格納し
たライブラリ２〜５とから構成される。フローレシピデ
ータ１には、処理の順序と、処理の順序が定められた各
処理ユニットの処理条件のライブラリ内の格納位置を示
す処理条件番号とが設定されている。基板処理装置は、
フローレシピデータ１中から所望のフローレシピを選択
し、選択したフローレシピ内の処理条件番号に基づいて
ライブラリ２〜５内から処理条件を読み出して各処理ユ
ニットに出力し、フローレシピデータに定められた手順
に従って基板の処理を行う。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、基板に所定の処理
を行う複数の処理部を備えた基板処理装置および基板処
理システムならびにこれらに用いられる処理レシピのデ
ータ構造に関する。

【０００２】なお、本明細書において「処理レシピ」と
は、基板処理装置の各処理部に基板を搬送する順序と、
各処理部における処理条件とを規定するデータをいう。

【０００３】

【従来の技術】半導体ウエハ、フォトマスク用ガラス基
板、液晶表示装置用ガラス基板、光ディスク用基板等の
基板の処理工程では、一連の処理を行う複数の処理ユニ
ットを備えた基板処理装置が用いられている。図５は、
従来の基板処理装置の構成を示す平面模式図である。例
えば、図５（ａ）に示す基板処理装置７０は、基板にレ
ジストを回転塗布する回転式塗布ユニットＳＣ１、基板
に現像処理を行う現像ユニットＳＤ１，ＳＤ２、基板に
対して加熱処理を行う加熱ユニットＨＰ１〜ＨＰ８，Ｈ
Ｈ１〜ＨＨ４および基板に冷却処理を行う冷却ユニット
ＣＰ１〜ＣＰ４、処理ユニット間に設けられた基板搬送
路ＴＲ、基板搬送路ＴＲに設けられた搬送ロボット（図
示せず）および外部との間で基板の搬入搬出を行うイン
デクサＩＤを備えている。

【０００４】基板処理装置は、メインコントローラ（図
示せず）を備えており、メインコントローラの指令の下
に各処理ユニットで所定の基板処理が行われる。このメ
インコントローラには、処理レシピが設定されている。

【０００５】図６は、従来の処理レシピの構造を示す模
式図である。図６の処理レシピ９０は、図５（ａ）に示
す基板処理装置７０に対応して設定されている。処理レ
シピ９０は、９９通りのフローレシピから構成されてい
る。各フローレシピは、基板の搬送順を示す搬送手順番
号（「フローＮｏ．」）と、搬送先の処理ユニットを示
す識別データ（「搬送ユニット」データ）および各処理
ユニットにおける処理条件（「処理データ」）とから構
成される。搬送ユニットデータにおいて「ＩＤ」はイン
デクサＩＤを、「ＳＣ１」は回転塗布ユニットＳＣ１
を、「ＨＰ１」は加熱ユニットＨＰ１を、「ＣＰ１」は
冷却ユニットＣＰ１を、「ＳＤ１」は現像ユニットＳＤ
１を示し、さらに「ＳＤ２」は現像ユニット「ＳＤ２」
を示す。

【０００６】また、処理データは基板処理装置７０の各
処理ユニットごとに設定される。例えば、回転塗布ユニ
ットＳＣ１の処理データとしては、回転数、処理時間、
薬液の吐出量等が設定される。また、現像ユニットＳＤ
１の処理データとしては、回転数、処理時間等が設定さ
れる。処理データは各処理ユニットに設けられたコント
ローラ（図示せず）に出力され、この処理データに基づ
いて各処理ユニットにおける基板処理が行われる。

【０００７】従来の基板処理装置においては、処理レシ
ピを格納したフロッピーディスクを作業者が持参し、基
板処理装置に転送することにより、基板処理装置のメイ
ンコントローラへの処理レシピの設定が行われていた。

【０００８】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記の
処理レシピ９０では、各処理ユニットの識別データ（搬
送ユニットデータ）ごとに処理データが設定されてい
る。このために、次のような不都合が生じる。

【０００９】複数の基板処理装置の起動操作時には、各
基板処理装置ごとにフロッピーディスクから処理レシピ
を転送する作業が行われる。この際、各基板処理装置ご
とに処理レシピを作成せずに、１つの基板処理装置用の
処理レシピを他の基板処理装置にコピーし、編集して処
理レシピの作製効率の向上を図ることが行われる。

【００１０】ところが、コピー先の基板処理装置に含ま
れる処理ユニットの識別データがコピー元の基板処理装
置に含まれる同種の処理ユニットの識別データと異なる
場合には、処理レシピをコピーすることができない場合
が生じる。例えば、図５（ａ）に示す基板処理装置７０
の処理レシピ９０（図６参照）の一部を図５（ｂ）に示
す基板処理装置８０にコピーする場合を想定する。基板
処理装置７０の塗布ユニットＳＣ１、現像ユニットＳＤ
２は基板処理装置８０の塗布ユニットＳＣ１および現像
ユニットＳＤ２に相当し、また基板処理装置７０の冷却
ユニットＣＰ４は基板処理装置８０の冷却ユニットＣＰ
３に対応している。そこで、図６におけるフローレシピ
２をコピーしようとすると、基板処理装置８０における
冷却ユニットとしてＣＰ４が設定され、基板処理装置８
０の冷却ユニットＣＰ３に対するデータが欠落する。こ
のため、単純に基板処理装置７０の処理レシピをコピー
して基板処理装置８０に使用することができない。

【００１１】また、基板処理装置７０に含まれない種別
の処理ユニットが基板処理装置８０に含まれている場合
にも、基板処理装置７０の処理レシピを単純にコピーし
て使用することができない。一方、コピーしたとして
も、コピーした処理レシピ９０を基板処理装置８０の構
成に対応するように修正、編集する作業は、修正入力項
目が多量となり、入力ミスが発生したり、作業者の作業
が煩雑化する。

【００１２】さらに、９９通りのフローレシピを含む処
理レシピ９０中において、同一の識別データを用いた処
理ユニットの処理データが共通に設定されている場合、
処理データの一部を変更あるいは追加しようとすると、
９９通りのフローレシピを含む処理レシピ９０全体にわ
たって同一の処理ユニットの処理データを見つけ出し、
全てを同一に変更する必要がある。このため、処理デー
タの変更等の作業が煩雑となる。

【００１３】本発明の目的は、データ内容の変更が容易
でかつ他の基板処理装置への転用が可能な処理レシピを
用いた基板処理装置、基板処理システムおよびこれらに
用いられる処理レシピのデータ構造を提供することであ
る。

【００１４】

【課題を解決するための手段および発明の効果】第１の
発明に係る基板処理装置は、基板に対して所定の処理を
行う複数の処理部と、処理レシピを記憶する記憶部と、
記憶部に記憶された処理レシピに基づいて複数の処理部
による基板処理動作を制御する制御部とを備え、記憶部
に記憶された処理レシピが、処理条件を処理部の種別ご
とに規定した処理条件データと、複数の処理部への基板
の搬送順序および搬送順序が定められた各処理部と処理
条件データ中の処理条件との対応付けを規定した処理手
順データとを有するものである。

【００１５】第１の発明に係る基板処理装置において
は、記憶部に、処理部の種別ごとに処理条件を規定した
処理条件データを記憶している。処理条件データは処理
手順データと独立に記憶されている。このため、基板の
搬送順序に従って規定された各処理部ごとに処理条件が
規定された従来の処理レシピに比べ、処理条件の重複設
定がなくなり、処理レシピのデータ量を低減することが
できる。しかも、処理条件データは個々の基板処理装置
の処理部の構成に依存せず、種々の構成を有する基板処
理装置に対して汎用的に用いることができる。それによ
り、種々の基板処理装置間で処理レシピを複製して利用
することが容易となる。

【００１６】さらに、特定の処理部における処理条件を
変更する場合にも処理条件データ中の該当箇所を修正す
ることによって処理手順データ中の複数箇所に規定され
た処理部の処理条件のすべてを修正することが可能とな
り、処理条件の修正作業を容易に行うことができる。

【００１７】第２の発明に係る基板処理装置は、第１の
発明に係る基板処理装置の構成において、処理レシピの
処理条件データが、処理手順データに規定された処理部
の処理条件および処理手順データに規定された処理部と
異なる処理条件を含むものである。この場合には、種々
の処理部の構成を有する基板処理装置に対して処理レシ
ピを汎用的に用いることができる。

【００１８】第３の発明に係る基板処理システムは、基
板処理装置と管理装置とをネットワークを介して接続し
た基板処理装置であって、基板処理装置が、基板に所定
の処理を行う複数の処理部と、処理部による基板処理動
作を制御する制御部とを備え、管理装置が、基板処理装
置の処理レシピを記憶する記憶部と、記憶部に記憶され
た処理レシピを基板処理装置に転送する転送手段とを備
え、管理装置の記憶部に記憶された処理レシピが、処理
条件を処理部の種別ごとに規定した処理条件データと、
複数の処理部への基板の搬送順序および搬送順序が定め
られた各処理部と処理条件データ中の処理条件との対応
付けを規定した処理手順データを有するものである。

【００１９】この場合、ネットワークを介して接続され
た基板処理装置の処理レシピを管理装置において一元的
に管理することが可能となり、各基板処理装置の管理が
容易となる。さらに、処理レシピの処理条件データが基
板処理装置の処理部の構成に依存しない汎用性を有する
ことにより、管理装置の記憶部に記憶した処理レシピを
ネットワークを通して各基板処理装置に転送して使用す
ることが可能となる。

【００２０】第４の発明に係る処理レシピのデータ構造
は、基板に対して所定の処理を行う複数の処理部を有す
る基板処理装置の基板処理動作を制御する処理レシピの
データ構造であって、処理条件を処理部の種別ごとに規
定した処理条件データと、複数の処理部への基板の搬送
順序および搬送順序が定められた各処理部と処理条件中
の処理条件との対応付けを規定した処理手順データとを
有するものである。

【００２１】これにより、処理条件データの汎用性が高
まり、処理レシピを種々の処理部の構成を有する基板処
理装置に適用することが可能となる。さらに、処理手順
データに規定される処理部の処理条件の変更が容易とな
る。

【００２２】

【発明の実施の形態】図１は、本発明の実施例による基
板処理装置の構成を示す斜視図である。また、図２は図
１の基板処理装置の構成を示すブロック図である。図１
および図２において、基板処理装置は、処理領域Ａ，Ｂ
および搬送領域Ｃを有する。処理領域Ａには基板に処理
液の塗布処理を行う回転式塗布ユニット（スピンコー
タ）ＳＣおよび基板に現像処理を行う回転式現像ユニッ
ト（スピンデベロッパ）ＳＤが併設されている。また、
処理領域Ｂには、基板に加熱処理を行う加熱ユニット
（ホットプレート）ＨＰ１〜ＨＰ３および基板に冷却処
理を行う冷却ユニット（クーリングプレート）ＣＰ１〜
ＣＰ３が複数段に配置されている。

【００２３】搬送領域Ｃには基板Ｗを搬送する搬送ユニ
ット１０が設けられている。搬送ユニット１０は、処理
領域Ａと処理領域Ｂとの間に配置され、矢印Ｘ方向に移
動可能に形成されている。搬送ユニット１０は、基板Ｗ
を保持するアーム１１およびアーム１１を進退移動させ
るアーム駆動部１２を有している。

【００２４】処理領域Ａ，Ｂおよび搬送領域Ｃの一端部
側には、基板Ｗを収納するカセット２０を支持するとと
もに、基板Ｗの搬入および搬出を行う搬入搬出装置（イ
ンデクサ）ＩＮＤおよび基板Ｗの搬入および搬出を行う
移載ロボット４０を有している。

【００２５】さらに、図２において、基板処理装置はメ
インコントローラ５０を備える。メインコントローラ５
０は演算部（ＣＰＵ）やメインメモリ（ＲＡＭおよびＲ
ＯＭ）を備えた制御部５１、ハードディスク等の記憶装
置５２、ディスプレイ５３およびキーボード５４を有し
ている。また、加熱ユニットＨＰ１〜ＨＰ３にはそれぞ
れＨＰコントローラ３１ａ〜３１ｃが設けられ、冷却ユ
ニットＣＰ１〜ＣＰ３にはＣＰコントローラ３２ａ〜３
２ｃが設けられている。さらに、回転式塗布ユニットＳ
Ｃ１にはＳＣコントローラ３３が設けられ、回転式現像
ユニットＳＤ１にはＳＤコントローラ３４が設けられて
いる。各コントローラはメインコントローラ５０に接続
されている。メインコントローラ５０は処理レシピのデ
ータを記憶装置５１に保持し、処理レシピに従って各処
理ユニット、移載ロボット４０および搬送ロボット１０
の動作を制御する。

【００２６】ここで、本実施例における回転式塗布ユニ
ットＳＣ、回転式現像ユニットＳＤ等の処理ユニットが
本発明の処理部に相当し、記憶装置５２が記憶部に相当
し、制御部５１が制御部に相当する。

【００２７】図３は、処理レシピのデータ構造を示す説
明図である。処理レシピは、図３（ａ）に示すフローレ
シピデータ１と、図３（ｂ）に示す処理ユニットの種別
ごとに作成された処理データ群２〜５とから構成されて
いる。処理データ群２〜５は、同種の処理を行う処理ユ
ニットの処理条件を格納したライブラリ構造を有してい
る。以下、各処理データ群２〜５をそれぞれＳＣライブ
ラリ２、ＳＤライブラリ３、ＨＰライブラリ４、ＣＰラ
イブラリ５と称する。例えば、ＳＣライブラリ２は、９
９通りの回転式塗布ユニットの処理条件、例えば回転
数、処理時間、薬液の吐出量等のデータを格納してい
る。さらに、ＳＤライブラリ３は、９９通りの回転式現
像ユニットの処理条件、例えば回転数、処理時間等のデ
ータを格納している。さらに、ＨＰライブラリ４および
ＣＰライブラリ５は、それぞれ加熱ユニットおよび冷却
ユニットの処理条件、例えばプレートの温度、処理時間
等のデータを格納している。なお、上記以外の処理ユニ
ットのライブラリも適宜作成される。

【００２８】また、フローレシピデータ１は、フローＮ
ｏ．（基板を搬送する順序）に対応した基板の搬送先の
搬送ユニットデータ（処理ユニットの識別データ）を有
している。例えば、「ＩＤ」はインデクサＩＮＤを示
し、「ＳＣ１」、「ＨＰ１」、「ＣＰ１」はそれぞれ回
転式塗布ユニットＳＣ１、加熱ユニットＨＰ１、冷却ユ
ニットＣＰ１を示している。また、搬送ユニットのデー
タに対応して処理データＮｏ．（処理条件番号）が規定
されている。この処理データＮｏ．は、フローレシピに
設定された搬送ユニットの処理条件が格納されたライブ
ラリ内の格納位置を示している。例えば、フローレシピ
１において搬送ユニット「ＳＣ１」の処理データＮｏ．
「ＳＣＬ１」は、ＳＣライブラリ２の１番目に回転式塗
布ユニットＳＣ１の処理データが格納されていることを
示している。以下、同様に、「ＨＰＬ１」はＨＰライブ
ラリ４の１番目のデータを、「ＣＰＬ１」はＣＰライブ
ラリ５の１番目のデータを示している。

【００２９】図１に示す基板処理装置の動作時におい
て、メインコントローラ５０は、ディスプレイ５３上に
フローレシピデータ１を表示する。そして、作業者が特
定のフローレシピ、例えば「フローレシピ１」を指定す
るとフローレシピ１中の処理データＮｏ．を参照して該
当するライブラリ２〜５中から処理条件を読み出し、各
処理ユニットのコントローラに出力する。そして、フロ
ーレシピ１の処理手順（フローＮｏ．および搬送ユニッ
トのデータ）に応じて基板の搬送および各処理ユニット
における基板処理動作を行わせる。

【００３０】このように、図３に示す処理レシピでは、
各処理ユニットの処理条件がライブラリ内に予め定めら
れている。ライブラリ２〜５は、処理レシピを設定する
基板処理装置に含まれる処理ユニットのみならず、種々
の基板処理装置に用いられる他の処理ユニットを含む９
９通りの処理ユニットに対応した処理条件を格納するこ
とができる。すなわち、これらのライブラリ２〜５は汎
用性を有している。このため、基板処理装置の処理ユニ
ットの構成によらず、処理条件のライブラリ２〜５をそ
のままコピーして多種の基板処理装置に用いることがで
きる。

【００３１】また、処理ユニットの処理条件に変更が生
じた場合、変更すべき処理ユニットに対応するライブラ
リ内の所定の処理条件を変更すればよく、この処理条件
を参照する複数のフローレシピデータ１を逐一変更する
必要がない。このため、処理条件の修正、追加等の変更
作業を容易に行うことができる。

【００３２】また、フローレシピデータ１において同一
の処理ユニットが複数回設定された場合でも、共通のラ
イブラリ内の処理条件を参照すればよく、各処理ユニッ
トごとに同一の処理条件を繰り返して設定する必要がな
くなる。これにより、処理レシピ全体のデータ数を低減
することができ、メインコントローラ５０の記憶装置５
２の記憶領域を効率的に利用することができる。また、
処理ユニットの種別ごとに処理条件が格納されることに
より、データの管理が容易となる。

【００３３】さらに、上記のデータ構造を有する処理レ
シピは、単体の基板処理装置のみならず、ＬＡＮ（ロー
カルエリアネットワーク）により接続された基板処理シ
ステムに用いることもできる。図４は、基板処理システ
ムの構成を示す模式図である。基板処理システム１００
は、管理ステーション（管理装置）１１０と複数の基板
処理装置１１２，１２２，１３２と、複数の露光装置１
１４，１２４，１３４とを備えている。また、各装置間
は通信経路１４０を介して接続されてローカルエリアネ
ットワークを構成している。管理ステーション１１０は
ネットワークサーバ用オペレーションシステムで動作可
能なコンピュータシステムである。また、各基板処理装
置と各露光装置は、同様にネットワークステーション用
オペレーションシステムで動作するコンピュータシステ
ムを備えている。

【００３４】管理ステーション１１０は、ネットワーク
管理、通信、処理レシピのアップロード／ダウンロード
等の処理（転送処理）を行う演算処理部と、磁気ディス
ク等の外部記憶装置（記憶部）を備えている。

【００３５】上記のような構成を有する基板処理システ
ムにおいては、管理ステーション１１０の外部記憶装置
に図３（ａ）に示すフローレシピデータ１および図３
（ｂ）に示す各処理ユニットのライブラリ２〜５を格納
する。各基板処理装置１１２，１２２，１３２および各
露光装置１１４，１２４，１３４に処理レシピを設定す
る場合には、管理ステーション１１０から通信経路１４
０を介して各装置に処理レシピをダウンロードして転送
することができる。

【００３６】また、各基板処理装置１１２，１２２，１
３２または各露光装置１１４，１２４，１３４におい
て、処理レシピの一部、例えば処理条件を変更した場合
には変更データを含むライブラリのデータを通信経路１
４０を通して管理ステーション１１０にアップロードし
て転送することができる。このようなデータ操作によ
り、複数の基板処理装置１１２，１２２，１３２および
露光装置１１４，１２４，１３４の処理レシピを管理ス
テーション１１０において一元的に管理することが可能
となる。これにより、処理レシピの管理を容易にかつ確
実に行うことができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の実施例による基板処理装置の構成を示
す斜視図である。

【図２】図１の基板処理装置の構成を示すブロック図で
ある。

【図３】処理レシピのデータ構造を示す説明図である。

【図４】本発明による基板処理システムの構成を示す模
式図である。

【図５】従来の基板処理装置の構成を示す平面模式図で
ある。

【図６】従来の基板処理装置に用いられる処理レシピの
データ構造の説明図である。

【符号の説明】

１ 処理レシピのフローレシピデータ ２〜５ 処理ユニットの処理条件のライブラリ ５０ メインコントローラ ５１ 制御部 ５２ 記憶装置

Claims (4)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 基板に対して所定の処理を行う複数の処
   理部と、 処理レシピを記憶する記憶部と、 前記記憶部に記憶された前記処理レシピに基づいて前記
   複数の処理部による基板処理動作を制御する制御部とを
   備え、 前記記憶部に記憶された前記処理レシピは、 処理条件を処理部の種別ごとに規定した処理条件データ
   と、 前記複数の処理部への基板の搬送順序および搬送順序が
   定められた各処理部と前記処理条件データ中の前記処理
   条件との対応付けを規定した処理手順データとを有する
   ことを特徴とする基板処理装置。
2. 【請求項２】 前記処理レシピの前記処理条件データ
   は、前記処理手順データに規定された処理部の処理条件
   および前記処理手順データに規定された処理部と異なる
   処理部の処理条件を含むことを特徴とする請求項１記載
   の基板処理装置。
3. 【請求項３】 基板処理装置と管理装置とをネットワー
   クを介して接続した基板処理システムであって、 前記基板処理装置は、 基板に所定の処理を行う複数の処理部と、 前記複数の処理部による基板処理動作を制御する制御部
   とを備え、 前記管理装置は、 前記基板処理装置の処理レシピを記憶する記憶部と、 前記記憶部に記憶された前記処理レシピを前記基板処理
   装置に転送する転送手段とを備え、 前記管理装置の前記記憶部に記憶された前記処理レシピ
   は、 処理条件を処理部の種別ごとに規定した処理条件データ
   と、 前記複数の処理部への基板の搬送順序および搬送順序が
   定められた各処理部と前記処理条件データ中の前記処理
   条件との対応付けを規定した処理手順データを有するこ
   とを特徴とする基板処理システム。
4. 【請求項４】 基板に対して所定の処理を行う複数の処
   理部を有する基板処理装置の基板処理動作を制御する処
   理レシピのデータ構造であって、 処理条件を処理部の種別ごとに規定した処理条件データ
   と、 前記複数の処理部への基板の搬送順序および搬送順序が
   定められた各処理部と前記処理条件データ中の処理条件
   との対応付けを規定した処理手順データとを有すること
   を特徴とする処理レシピのデータ構造。