JPH11135395A - 基板処理装置 - Google Patents

基板処理装置

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JPH11135395A
JPH11135395A JP9314288A JP31428897A JPH11135395A JP H11135395 A JPH11135395 A JP H11135395A JP 9314288 A JP9314288 A JP 9314288A JP 31428897 A JP31428897 A JP 31428897A JP H11135395 A JPH11135395 A JP H11135395A
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JP
Japan
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processing
unit
substrate
sub
controller
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JP9314288A
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Inventor
Satoshi Yamamoto
聡 山本
Tetsuya Hamada
哲也 濱田
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Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd
Original Assignee
Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 複数の処理ユニットへの基板の搬送順序を任
意に変更する場合にも制御手順や処理レシピが過度に複
雑になることを防止できる技術を提供する。 【解決手段】 基板処理装置は、基板を処理するための
複数の処理ユニットと、メインコントローラと、各処理
ユニットを制御する複数のサブコントローラと、を備え
ている。複数の処理ユニットには、互いに異なるユニッ
ト番号が予め割り当てられており、処理レシピの搬送順
序情報は、各処理ユニットを識別するためのユニット番
号を含んでいる。メインコントローラは、ユニット番号
で指定された処理ユニットの制御を担当すべきサブコン
トローラに処理レシピの中の処理条件をそれぞれ転送し
て制御を実行させる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】この発明は、半導体ウェハ、
フォトマスク用のガラス基板、液晶表示装置用のガラス
基板、光ディスク用の基板等の基板の処理を行なうため
の基板処理装置に関する。
【0002】
【従来の技術】半導体ウェハ等の基板の処理を行なうた
めの基板処理システムは、複数台の基板処理装置を互い
に接続することによって構成されている。各基板処理装
置は、レジストの塗布やウェハの洗浄、熱処理等を行な
うための複数の処理ユニットを備えている。各基板処理
装置においては、各処理ユニットに半導体ウェハを搬送
する順序を示す搬送順序情報と、各処理ユニットにおけ
る処理条件を示す処理条件情報と、を規定する処理レシ
ピが用いられる。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】従来は、1つのコント
ローラを用いて基板処理装置の全体の制御を行ってい
た。しかし、基板処理装置内の複数の処理ユニットは同
時に稼働しているので、コントローラによる制御手順や
処理レシピがかなり複雑になってしまうという問題があ
った。特に、複数の処理ユニットへの搬送順序を任意に
変更したいような場合には、この問題が大きな懸案とな
っていた。
【0004】この発明は、従来技術における上述の課題
を解決するためになされたものであり、複数の処理ユニ
ットへの基板の搬送順序を任意に変更する場合にも制御
手順や処理レシピが過度に複雑になることを防止できる
技術を提供することを目的とする。
【0005】
【課題を解決するための手段およびその作用・効果】上
述の課題の少なくとも一部を解決するため、本発明によ
る装置は、基板の処理を行なうための基板処理装置であ
って、基板を処理するための複数の処理ユニットと、基
板を前記複数の処理ユニットのいくつかに順次搬送して
ゆく順序を示す搬送順序情報と、各処理ユニットにおけ
る処理条件を示す処理条件情報と、を含む処理レシピを
記憶するための記憶手段と、前記処理レシピに従って前
記基板処理装置全体の制御を行うメインコントローラ
と、前記メインコントローラの制御の下で前記複数の処
理ユニットを制御する複数のサブコントローラと、を備
え、前記複数の処理ユニットには、互いに異なるユニッ
ト番号が予め割り当てられており、前記搬送順序情報
は、各処理ユニットを識別するための処理ユニット識別
情報として前記ユニット番号を含み、前記メインコント
ローラは、前記搬送順序情報に含まれている前記ユニッ
ト番号で指定された処理ユニットの制御を担当すべきサ
ブコントローラに前記処理レシピの中の処理条件をそれ
ぞれ転送して制御を実行させることを特徴とする。
【0006】この装置によれば、各処理ユニットに固有
のユニット番号が割り当てられているので、ユニット番
号を含む搬送順序情報を作成することによって、複数の
処理ユニットへの搬送順序を規定した処理レシピを容易
に作成することができる。また、メインコントローラ
は、ユニット番号で指定された処理ユニットを制御すべ
きサブコントローラにその処理条件を転送して制御を実
行させるので、メインコントローラとサブコントローラ
による制御手順を簡略化することができる。
【0007】なお、前記複数のサブコントローラの中の
少なくとも1つは、制御内容が共通する特定種類の複数
の処理ユニットの制御を実行するようにしてもよい。
【0008】こうすれば、比較的少ない数のサブコント
ローラを用いて複数の処理ユニットを制御することがで
きる。
【0009】
【発明の他の態様】この発明は、以下のような他の態様
も含んでいる。第1の態様は、複数の処理ユニットと、
基板処理装置全体の制御を行うメインコントローラと、
前記メインコントローラの制御の下で前記複数の処理ユ
ニットを制御する複数のサブコントローラとを備えた基
板処理装置を用いて基板の処理を行なうための基板処理
方法であって、(a)基板を前記複数の処理ユニットの
いくつかに順次搬送してゆく順序を示す搬送順序情報
と、各処理ユニットにおける処理条件を示す処理条件情
報と、を含む処理レシピを準備する工程と、(b)前記
処理レシピに従って前記メインコントローラと前記複数
のサブコントローラとが前記複数の処理ユニットの制御
を実行する工程と、を含み、前記複数の処理ユニットに
は、互いに異なるユニット番号が予め割り当てられてお
り、前記搬送順序情報は、各処理ユニットを識別するた
めの処理ユニット識別情報として前記ユニット番号を含
み、前記メインコントローラは、前記搬送順序情報に含
まれている前記ユニット番号で指定された処理ユニット
の制御を担当すべきサブコントローラに前記処理レシピ
の中の処理条件をそれぞれ転送して制御を実行させるこ
とを特徴とする。
【0010】第2の態様は、コンピュータに上記の発明
の各工程または各手段の機能を実現させるコンピュータ
プログラムを通信経路を介して供給するプログラム供給
装置としての態様である。こうした態様では、プログラ
ムをネットワーク上のサーバなどに置き、通信経路を介
して、必要なプログラムをコンピュータにダウンロード
し、これを実行することで、上記の方法や装置を実現す
ることができる。
【0011】
【発明の実施の形態】
A.装置の構成:次に、本発明の実施の形態を実施例に
基づき説明する。図1は、本発明の一実施例としての基
板処理装置を示す斜視図である。この基板処理装置は、
半導体ウェハWに一連の処理(この実施例では塗布処
理、現像処理、加熱処理、冷却処理)を行うための複数
の処理ユニットを備えている。前面に配列された第1の
処理ユニット群Aは、塗布処理を行うスピンコータSC
と、現像処理を行うスピンデベロッパSDとで構成され
ている。
【0012】また、第1の処理ユニット群Aに対向する
後方側の位置には、第2の処理ユニット群Bが設けられ
ている。第2の処理ユニット群Bは、各種熱処理を行う
ホットプレートHP1〜HP3及びクールプレートCP
1〜CP3を備えている。
【0013】さらに、この装置には、第1の処理ユニッ
ト群Aと第2の処理ユニット群Bに挟まれた位置に、第
1の処理ユニット群Aに沿って延びる搬送領域Cが設け
られている。この搬送領域Cには搬送ロボット10が移
動自在に配置されている。この搬送ロボット10は、半
導体ウェハWをそれぞれ支持するための2本のアームを
有する把持部材11(図中ではひとつのアームのみが見
えている)を有する移動体12を備えている。
【0014】基板処理装置の端部には、カセット20か
らの半導体ウェハWの搬出とカセット20への半導体ウ
ェハWの搬入とを行うインデクサINDが設けられてい
る。このインデクサINDに設けられた移載ロボット4
0は、カセット20から半導体ウェハWを取り出し、搬
送ロボット10に送り出したり、逆に一連の処理が施さ
れた半導体ウェハWを搬送ロボット10から受け取り、
カセット20に戻す作業を行なう。なお、図1には図示
が省略されているが、インデクサINDの反対側(図面
右側)の端部には、半導体ウェハWを露光ステーション
との間で受け渡しするインターフェースユニットが設け
られている。実施例の基板処理装置と他の処理装置との
間の半導体ウェハWの受渡しは、インターフェースユニ
ットに設けられた移動ロボット(図示省略)と搬送ロボ
ット10とが協働することによって行なわれる。
【0015】図1において各処理ユニットの符号の後に
カッコで示されている番号#0〜#8は、ユニット番号
である。各処理ユニットには互いに異なるユニット番号
が割り当てられている。なお、インデクサINDはウェ
ハの処理を行わないので、厳密な意味では処理ユニット
では無く、従って、インデクサINDには必ずしもユニ
ット番号を割り当てなくてもよい。しかし、図1の例の
ように、インデクサINDにユニット番号を割り当てる
ことも可能である。
【0016】図1に示す複数の処理ユニットによる処理
は、回転式塗布処理(スピンコータSCによる処理)
と、回転式現像処理(スピンデベロッパSDによる処
理)と、加熱処理(ホットプレートHP1〜HP3によ
る処理)と、冷却処理(クールプレートCP1〜CP3
による処理)の4種類に分類される。この明細書では、
ウェハに関する同一種類の処理を「処理カテゴリ」また
は「カテゴリ」と呼ぶ。
【0017】図2は、図1に示す基板処理装置のコント
ローラの構成を示すブロック図である。基板処理装置
は、メインコントローラ50と、3つのサブコントロー
ラ(スレーブコントローラ)71〜73と、温調コント
ローラ74と、の5つのコントローラを備えている。メ
インコントローラ50は、メインメモリ51の他に、図
示しなしキーボードや表示装置を備えたコンピュータで
ある。メインメモリ51には、使用中の処理レシピが格
納される。処理レシピの内容については後述する。な
お、メインコントローラ50は、この処理レシピに従っ
てサブコントローラ71〜73の動作を制御するととも
に、図1に示す搬送ロボット10や移載ロボット40
(インデクサINDのロボット)の制御も行っている。
【0018】3つのサブコントローラ71〜73は、メ
インコントローラ50の制御の下で処理ユニットを制御
している。第1のサブコントローラ71は、スピンコー
タSCの制御を行っており、第2のサブコントローラ7
2はスピンデベロッパSDの制御を行っている。第3の
サブコントローラ73は、3台のホットプレートHP1
〜HP3と3台のクールプレートCP1〜CP3とをま
とめて制御している。ホットプレートHP1〜HP3と
クールプレートCP1〜CP3は、基板の加熱や冷却を
行う処理であり、その制御内容(温度条件、保持時間)
は共通している。なお、これらの処理ユニットHP1〜
HP3,CP1〜CP3の温度制御は、温調コントロー
ラ74によって行われている。なお、サブコントローラ
71〜73も、図示しないメインメモリをそれぞれ備え
たコンピュータである。各処理ユニットを制御するため
の処理条件は、メインコントローラ50のメインメモリ
51から、各サブコントローラ71〜73のメインメモ
リに転送されて記憶される。
【0019】図2のように、メインコントローラ50が
基板処理装置の全体の制御を行い、各サブコントローラ
が処理ユニットを制御するように制御系を構成すれば、
各コントローラの負荷が少なくなるので、複雑な制御を
容易に実行することができる。また、この実施例では、
制御内容が共通する複数の処理ユニットHP1〜HP
3,CP1〜CP3を1つのサブコントローラ73で制
御しているので、以下のような種々の利点がある。第1
に、基板処理装置内のサブコントローラの総数を低減す
ることができる。第2に、複数の処理ユニットHP1〜
HP3,CP1〜CP3に共通する命令を、メインコン
トローラ50からサブコントローラ73に1回転送する
だけで、複数の処理ユニットHP1〜HP3,CP1〜
CP3を一括して制御することができる。例えば、複数
の処理ユニットHP1〜HP3,CP1〜CP3内にお
いて基板を保持するピンを所定の原点位置に復帰させる
命令をメインコントローラ50からサブコントローラ7
3に転送すれば、このサブコントローラ73が複数の処
理ユニットHP1〜HP3,CP1〜CP3内における
原点復帰動作を一括して実行させることができる。第3
に、複数の処理ユニットHP1〜HP3,CP1〜CP
3に共通する不具合が発生したような場合に、その不具
合を通知するアラームに応じて、サブコントローラ73
が複数の処理ユニットHP1〜HP3,CP1〜CP3
を同時に制御することができる。例えば、複数の処理ユ
ニットHP1〜HP3,CP1〜CP3に共通に用いら
れている排気システムに不具合が発生をした場合には、
これらを同時に停止するような制御を容易に行うことが
できる。
【0020】なお、メインコントローラ50とサブコン
トローラ71〜73との間の通信や、サブコントローラ
71〜73と各処理ユニットとの間の通信の際には、ユ
ニット番号を用いて各処理ユニットが特定される。例え
ば、メインコントローラ50がサブコントローラ71に
対してスピンコータSCについての指示を行う場合に
は、メインコントローラ50からサブコントローラ71
に対して、ユニット番号#1とともに、その指示内容を
示す信号が転送される。また、例えばホットプレートH
P1の処理履歴データをメインコントローラ50が取得
したい場合には、まず、メインコントローラ50がユニ
ット番号#3を用いて処理履歴データの要求をサブコン
トローラ73に与える。すると、サブコントローラ73
は、このユニット番号#3で特定される処理ユニット
(第1のホットプレートHP1)の処理履歴データを取
得してメインコントローラ50に転送する。このよう
に、各処理ユニットにはそれぞれ固有のユニット番号が
割り当てられているので、このユニット番号を用いるこ
とによって、コントローラ間の通信やコントローラと処
理ユニットとの間の通信を容易に行うことができる。
【0021】なお、メインコントローラ50やサブコン
トローラ71〜73による各種の機能を実現するコンピ
ュータプログラム(アプリケーションプログラム)は、
フレキシブルディスクやCD−ROM等の記録媒体から
メインコントローラ50のメインメモリ51または外部
記憶装置に転送される。
【0022】これらの各機能を実現するコンピュータプ
ログラムは、フレキシブルディスクやCD−ROM等
の、コンピュータ読み取り可能な記録媒体に記録された
形態で提供される。コンピュータは、その記録媒体から
コンピュータプログラムを読み取って内部記憶装置また
は外部記憶装置に転送する。あるいは、通信経路を介し
てコンピュータにコンピュータプログラムを供給するよ
うにしてもよい。コンピュータプログラムの機能を実現
する時には、内部記憶装置に格納されたコンピュータプ
ログラムがコンピュータのマイクロプロセッサによって
実行される。また、記録媒体に記録されたコンピュータ
プログラムをコンピュータが読み取って直接実行するよ
うにしてもよい。
【0023】この明細書において、コンピュータとは、
ハードウェア装置とオペレーションシステムとを含む概
念であり、オペレーションシステムの制御の下で動作す
るハードウェア装置を意味している。また、オペレーシ
ョンシステムが不要でアプリケーションプログラム単独
でハードウェア装置を動作させるような場合には、その
ハードウェア装置自体がコンピュータに相当する。ハー
ドウェア装置は、CPU等のマイクロプロセッサと、記
録媒体に記録されたコンピュータプログラムを読み取る
ための手段とを少なくとも備えている。コンピュータプ
ログラムは、このようなコンピュータに、上述の各手段
の機能を実現させるプログラムコードを含んでいる。な
お、上述の機能の一部は、アプリケーションプログラム
でなく、オペレーションシステムによって実現されてい
ても良い。
【0024】なお、この発明における「記録媒体」とし
ては、フレキシブルディスクやCD−ROM、光磁気デ
ィスク、ICカード、ROMカートリッジ、パンチカー
ド、バーコードなどの符号が印刷された印刷物、コンピ
ュータの内部記憶装置(RAMやROMなどのメモリ)
および外部記憶装置等の、コンピュータが読取り可能な
種々の媒体を利用できる。
【0025】B.レシピデータの構成:図3(a),
(b)は、メインコントローラ50の図示しない外部記
憶装置に格納されている処理レシピのデータ構造を示す
説明図である。処理レシピは、図3(a)に示すフロー
レシピデータ60と、図3(b)に示す処理データライ
ブラリ61〜64とを含んでいる。処理データライブラ
リ61〜64は、各処理カテゴリ毎の処理条件を格納し
ている。この例では、図1の基板処理装置における4つ
の処理カテゴリに対応する4つの処理データライブラリ
61〜64が準備されている。各処理データライブラリ
61〜64を、以下ではそれぞれ、「SCライブラリ6
1」、「SDライブラリ62」、「HPライブラリ6
3」、「CPライブラリ64」と呼ぶ。SCライブラリ
61は、スピンコータSCのための99通りの処理条件
(例えば回転数、処理時間、薬液吐出量等)を格納して
いる。また、SDライブラリ62は、スピンデベロッパ
SDのための99通りの処理条件(例えば回転数、処理
時間等)を格納している。HPライブラリ63とCPラ
イブラリ64は、ホットプレートHP1〜HP3とクー
ルプレートCP1〜CP3のための99通りの処理条件
(プレート温度、処理条件等)をそれぞれ格納してい
る。
【0026】図3(a)に示すフローレシピデータ60
は、フローNo.(「フロー番号」とも呼ぶ)と、処理
ユニット識別情報と、処理データNo.(「処理データ
番号」とも呼ぶ)とを含んでいる。フローNo.は、基
板処理装置内のウェハの搬送の順序を示している。処理
ユニット識別情報は、ウェハの搬送先の処理ユニットの
ユニット番号と、その処理ユニットの処理カテゴリとを
含んでいる。処理カテゴリの欄の「ID]はインデクサ
を示し、「SC」は回転式塗布処理(スピンコータによ
る処理)を、「SD」は回転式現像処理(スピンデベロ
ッパによる処理)を、「HP」は加熱処理(ホットプレ
ートによる処理)を、「CP」は冷却処理(クールプレ
ートによる処理)を、それぞれ意味している。
【0027】処理データNo.は、処理データライブラ
リ61〜64の中の1つの処理データを示している。例
えば、「SCL1」は、SCライブラリ61の1番目の
処理データを示しており、「HPL1」はHPライブラ
リ63の1番目の処理データを示している。なお、フロ
ーレシピデータ60には、99種類の異なる処理フロー
を規定したフローレシピデータを登録することができ
る。
【0028】図3(a)の最上部のフローレシピデータ
1に従って処理を行う場合には、ウェハは、インデクサ
ID、スピンコータSC、ホットプレートHP、クール
プレートCPの順に搬送されて処理される。フローN
o.3(3番目の搬送先ユニット)におけるユニット番
号は#7であり、これは第3のホットプレートHP3
(図1)を意味している。また、フローNo.4におけ
るユニット番号は#8であり、これは第3のクールプレ
ートCP3を意味している。
【0029】このように、処理ユニット識別情報は、各
処理ユニットに固有のユニット番号で基板の搬送順序を
規定しているので、複数の処理ユニットへの基板の搬送
順序を任意の順序に設定することが可能である。なお、
処理ユニット識別情報は各処理ユニットを識別できれば
よいので、少なくともユニット番号を含んでいればよ
く、処理カテゴリを含んでいなくてもよい。
【0030】フローNo.と処理ユニット識別情報は、
ウェハを複数の処理ユニットに順次搬送してゆく順序を
示す搬送順序情報に相当する。また、処理データNo.
とライブラリ61〜64は、各処理ユニットにおける処
理条件を示す処理条件情報に相当する。
【0031】作業者によって図3(a)の最上部のフロ
ーレシピデータ1に従って処理を行うことが指定される
と、このフローレシピデータ1の内容、および、処理デ
ータNo.で指定された各処理ユニットの処理データ
(処理条件)がメインコントローラ50のメインメモリ
51に格納される。また、メインコントローラ50は、
各サブコントローラ71〜73に対して、各サブコント
ローラが制御を担当する処理ユニットの処理データ(処
理条件)をそれぞれ転送する。各サブコントローラ71
〜73は、この処理条件に従って、各処理ユニットの制
御を実行する。
【0032】以上のように、上記実施例による基板処理
装置では、メインコントローラ50の制御の下で、各サ
ブコントローラ71〜73が処理ユニットを制御してい
るので、複数の処理ユニットへの搬送順序を任意に変更
する場合にも、その制御手順や処理レシピが過度に複雑
になることを防止できる。また、各処理ユニットに固有
のユニット番号を割り当てているので、このユニット番
号を用いて各処理ユニットを特定することができ、この
結果、コントローラ間の通信やコントローラと処理ユニ
ットとの間の通信を容易に行うことができる。さらに、
処理レシピにおいて、基板の搬送順序を各処理ユニット
固有のユニット番号で規定しているので、任意の搬送順
序を設定することが可能である。
【0033】なお、この発明は上記の実施例や実施形態
に限られるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲に
おいて種々の態様において実施することが可能である。
【図面の簡単な説明】
【図1】実施例の基板処理装置の一例を示す斜視図。
【図2】基板処理装置のコントローラの構成を示すブロ
ック図。
【図3】フローレシピデータ60とユニット処理データ
62との構成を示す説明図。
【符号の説明】
10…搬送ロボット 11…把持部材 12…移動体 20…カセット 40…移載ロボット 50…メインコントローラ 51…メインメモリ 60…フローレシピデータ 61〜64…処理データライブラリ 71〜73…サブコントローラ 74…温調コントローラ

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 基板の処理を行なうための基板処理装置
    であって、 基板を処理するための複数の処理ユニットと、 基板を前記複数の処理ユニットのいくつかに順次搬送し
    てゆく順序を示す搬送順序情報と、各処理ユニットにお
    ける処理条件を示す処理条件情報と、を含む処理レシピ
    を記憶するための記憶手段と、 前記処理レシピに従って前記基板処理装置全体の制御を
    行うメインコントローラと、 前記メインコントローラの制御の下で前記複数の処理ユ
    ニットを制御する複数のサブコントローラと、を備え、 前記複数の処理ユニットには、互いに異なるユニット番
    号が予め割り当てられており、 前記搬送順序情報は、各処理ユニットを識別するための
    処理ユニット識別情報として前記ユニット番号を含み、 前記メインコントローラは、前記搬送順序情報に含まれ
    ている前記ユニット番号で指定された処理ユニットの制
    御を担当すべきサブコントローラに前記処理レシピの中
    の処理条件をそれぞれ転送して制御を実行させることを
    特徴とする基板処理装置。
  2. 【請求項2】 請求項1記載の基板処理装置であって、 前記複数のサブコントローラの中の少なくとも1つは、
    制御内容が共通する特定種類の複数の処理ユニットの制
    御を実行する、基板処理装置。
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