JP2000195775A - 基板処理装置 - Google Patents

基板処理装置

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JP2000195775A
JP2000195775A JP37090698A JP37090698A JP2000195775A JP 2000195775 A JP2000195775 A JP 2000195775A JP 37090698 A JP37090698 A JP 37090698A JP 37090698 A JP37090698 A JP 37090698A JP 2000195775 A JP2000195775 A JP 2000195775A
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JP
Japan
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unit
substrate
processing unit
processing
individual control
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JP37090698A
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English (en)
Inventor
Satoshi Yamamoto
悟史 山本
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Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd
Original Assignee
Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd
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  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)

Abstract

(57)【要約】 (修正有) 【課題】操作パネルの数を削減する。調整等の作業を効
率化する。 【解決手段】複数の処理ユニットに対応した個別制御部
C1〜C14および主制御装置25は、ネットワーク2
0を介して相互に接続されている。各個別制御部C1〜
C14には、1〜3個のインタフェース部INT1A,INT1B,
INT2,INT3,INT4A,INT4B,INT5,INT6,INT7A,INT7B,INT8,I
NT9A,INT9B,INT11,INT12A,INT12B,INT13,INT14A,INT14
B,INT14Cが接続されている。これらのインタフェース部
のうちの任意のものに操作パネル50を着脱自在に接続
でき、その状態で、任意の処理ユニットを操作できる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】この発明は、半導体ウエハ、
液晶表示装置用ガラス基板およびPDP(プラズマディ
プレイパネル)用ガラス基板などの各種の被処理基板を
処理するための基板処理装置に関する。
【0002】
【従来の技術】たとえば、液晶表示装置の製造工程で
は、ガラス基板に対して複数の処理工程を順次施すため
の基板処理装置が用いられる。このような基板処理装置
は、複数の処理ユニットを有しており、処理対象の基板
は、処理ユニット間で受け渡されながら、一連の処理を
受けるようになっている。
【0003】たとえば、基板処理装置は、U字状の経路
に沿って順に配置された複数の処理ユニットにより構成
される場合がある。この場合、U字状の経路を構成する
往路と復路にそれぞれ複数の処理ユニットが直列に結合
され、基板処理装置は平面視において長く延びた形状を
呈する。各処理ユニットは、それぞれ、CPUを有する
個別制御部を有しており、各個別制御部には、各1つの
操作パネルが備えられている。この操作パネルを操作す
ることによって、当該操作パネルに対応している処理ユ
ニットの動作確認や各種の調整作業が行われる。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】ところが、上述の基板
処理装置では、個別制御部ごとに操作パネルが設けられ
ているため、構成が重複しており、そのためにコスト高
となっていた。そのうえ、処理ユニットごとに操作パネ
ルを設置するスペースが必要であるため、基板処理装置
の小型化が妨げられていた。
【0005】一方、1枚のガラス基板は、通常、液晶表
示装置用パネルを複数枚取りできる大きさになっている
が、1枚のガラス基板を大きくして一度に作成できるパ
ネル枚数を多くすれば、生産性が著しく向上する。その
ため、近年では、基板処理装置が取り扱うべき基板のサ
イズは、大型化してきている。基板の大型化に伴って、
基板処理装置も大型化することになるのであるが、一方
で、クリーンルーム内の限られたスペース内に基板処理
装置を収容する必要性から、基板処理装置の省スペース
化の要請にも応えなければならない。そこで、処理ユニ
ットのレイアウトの変更などにより、基板処理装置の小
型化が図られている。
【0006】たとえば、上述のU字状の経路に複数の処
理ユニットを配置したレイアウトの基板処理装置におい
て、特定の処理ユニットを、長尺な平面形状の基板処理
装置の一方側の操作面と他方側の操作面との両方に面す
るように配置することが提案されている。この場合に
は、その処理ユニットの調整は、基板処理装置の両面か
ら行う必要がある。ところが、処理ユニットに対応して
設けられた操作パネルが基板処理装置の一方の操作面に
配置されていると、調整作業に不都合が生じる。すなわ
ち、当該処理ユニットの他方の操作面に面している部分
の調整に際しては、調整作業者は、一方の操作面側で操
作パネルを操作し、次いで他方の操作面側に移動して調
整作業をする、という作業を繰り返し行う必要があり、
作業効率が著しく悪化する。
【0007】この問題は、当該処理ユニットに関して
は、両方の操作面に操作パネルを設けるようにすれば解
決されるであろうが、1つの処理ユニットが2つの操作
パネルを持つことになるから、主としてコスト面から見
て、好ましい解決策とは言えない。そこで、この発明の
目的は、上述の技術的課題を解決し、操作パネルの数を
削減して構成の簡略化およびコストの低減を達成した基
板処理装置を提供することである。
【0008】また、この発明の他の目的は、調整等の作
業を効率化することができる基板処理装置を提供するこ
とである。
【0009】
【課題を解決するための手段および発明の効果】上記の
目的を達成するための請求項1記載の発明は、基板を処
理するための第1の処理ユニットおよび第2の処理ユニ
ットと、上記第1および第2の処理ユニットにそれぞれ
設けられ、ネットワークを介して相互接続された第1の
個別制御部および第2の個別制御部と、上記第1および
第2の個別制御部との間で、上記第1および第2の処理
ユニットの制御のためのデータ通信を行うことができる
操作パネルを接続することができ、上記操作パネルを上
記第1の個別制御部に接続させるインタフェース部とを
含むことを特徴とする基板処理装置である。
【0010】なお、「処理ユニット」とは、基板を搬送
するユニット、基板を一時的に待機させておくユニット
(バッファ)、基板に処理液や処理ガスなどの処理流体
を供給するユニット、基板に紫外線等を当てるユニッ
ト、および基板を加熱したり冷却したりするユニットを
含む意義である。この発明によれば、インタフェース部
に操作パネルを接続することにより、第1および第2の
個別制御部のいずれともデータ通信を行うことができ
る。すなわち、インタフェース部に操作パネルを接続す
ることにより、この操作パネルと第1の個別制御部との
間で第1の処理ユニットの制御のためのデータ通信を行
うことができる。そして、第1の個別制御部およびネッ
トワークを介することにより、操作パネルと第2の個別
制御部との間で、第2の処理ユニットの制御のためのデ
ータ通信を行うことができる。
【0011】これにより、1つの操作パネルを第1およ
び第2の個別制御部で共有することができるので、装置
の構成を簡単にすることができ、の小型化および低コス
ト化を図ることができる。なお、上記インタフェース部
は、第1および第2の個別制御部のそれぞれに設けられ
ていてもよい。この場合に、上記インタフェース部は操
作パネルを着脱自在に装着できるものであることが好ま
しい。
【0012】なお、第1の個別制御部に2つ以上のイン
タフェース部が設けられていてもよい。この場合には、
2つ以上のインタフェース部は、基板処理装置の要所に
分散して配置されることが好ましい。また、たとえば、
第1の処理ユニットに対する調整等が基板処理装置の複
数の操作面から行われる場合には、2つ以上の操作面
(好ましくは各操作面)にインタフェース部を設けるこ
とにより、調整等の作業を効率的に行うことができる。
【0013】請求項2記載の発明は、基板を処理するた
めの複数の処理ユニットと、上記複数の処理ユニットに
それぞれ設けられ、ネットワークを介して相互接続され
た複数の個別制御部と、上記複数の個別制御部のうちの
少なくとも1つに接続され、処理ユニットを制御するた
めのデータ通信のために要所に配置された複数のインタ
フェース部とを含み、上記複数のインタフェース部は、
上記複数の個別制御部のうちの任意の個別制御部との間
で、当該個別制御部に対応する処理ユニットの制御のた
めのデータ通信を行うことができる操作パネルを着脱自
在に装着できるものであることを特徴とする基板処理装
置である。
【0014】上記インタフェース部は、複数の個別制御
部の一部または全部にそれぞれ設けられていてもよい。
また、1つの個別制御部に複数のインタフェース部が接
続されていてもよい。請求項2記載の発明によれば、複
数のインタフェース部のうちの任意のインタフェース部
に操作パネルを接続すると、この操作パネルからネット
ワークを介して接続された任意の個別制御部との間で通
信し、任意の処理ユニットを制御することができる。こ
れにより、処理ユニットの数に比較して操作パネルの数
を少なくすることができるから、基板処理装置の小型化
および低コスト化を図ることができる。
【0015】また、調整等の作業を行う際に、作業場所
の近くのインタフェース部を選択して操作パネルを接続
することができるから、調整等の作業を効率的に行うこ
とができる。請求項3記載の発明は、上記操作パネル
は、操作対象の処理ユニットを選択するための処理ユニ
ット選択操作部を含むものであることを特徴とする請求
項1または2に記載の基板処理装置である。
【0016】この発明によれば、操作パネルにおいて操
作対象の処理ユニットを選択することができるから、任
意の処理ユニットの制御を行うことができる。請求項4
記載の発明は、上記個別制御部は、操作パネルによって
選択された操作対象の処理ユニットが当該個別制御部に
対応した自処理ユニットか否かを判断する手段と、操作
パネルによって選択された操作対象の処理ユニットが、
自処理ユニット以外の他の処理ユニットであるときに
は、当該他の処理ユニットに対応する個別制御部とにネ
ットワークを介して制御データを送信する手段とを含む
ものであることを特徴とする請求項3記載の基板処理装
置である。
【0017】この構成によれば、ネットワークを介する
処理ユニット間のデータ通信によって、インタフェース
部に直接接続された処理ユニットだけでなく、ネットワ
ークに接続された任意の処理ユニットを制御することが
できる。請求項5記載の発明は、第1操作面と、この第
1操作面とは異なる方向(たとえば、ほぼ正反対の方
向)に対向する第2操作面とを有する基板処理装置であ
って、基板を処理するための処理ユニットと、この処理
ユニットを制御するための制御装置と、この制御装置に
接続されているとともに、上記第1操作面に配置され、
上記処理ユニットの制御のためのデータ通信のための第
1のインタフェース部と、上記制御装置に接続されてい
るとともに、上記第2操作面に配置され、処理ユニット
の制御のためのデータ通信のための第2のインタフェー
ス部とを含み、上記第1および第2のインタフェース部
は、上記制御装置との間で上記処理ユニットの制御のた
めのデータ通信を行うことができる操作パネルを着脱自
在に装着することができるようになっていることを特徴
とする基板処理装置である。
【0018】この構成によれば、基板処理装置の第1操
作面と第2操作面とにそれぞれ設けられた第1のインタ
フェース部および第2のインタフェース部のうちの適切
なものを選択して操作パネルを装着することができる。
そのようにして、第1および第2のインタフェース部の
いずれかに操作パネルを接続した状態で、操作パネルと
処理ユニットの制御装置との間でデータ通信を行うこと
ができる。したがって、調整等の作業を行う際には、作
業現場に近い方のインタフェース部を選択して操作パネ
ルを装着することによって、作業効率を高めることがで
きる。
【0019】なお、上記制御装置は、複数の処理ユニッ
トにそれぞれ設けられた複数の個別制御部で構成されて
いてもよく、また、1つの処理ユニットを制御する1つ
の制御装置(個別制御部)であってもよい。請求項6記
載の発明は、上記操作パネルは、処理ユニットの操作に
必要な画面データを記憶した画面データ記憶手段と、操
作者によって操作される操作部と、この操作部の操作に
対応する画面データを上記画面データ記憶手段から読み
出す画面データ読み出し手段と、この画面データ読み出
し手段によって読み出された画面データに相当する画面
を表示する表示手段とを含むものであることを特徴とす
る請求項1ないし5のいずれかに記載の基板処理装置で
ある。
【0020】この構成によれば、処理ユニットの操作に
必要な画面データを画面データ記憶手段から読み出して
表示手段に画面を表示させ、操作部により必要な操作を
行うことができる。複数の処理ユニットの操作に必要な
画面データを画面データ記憶手段に記憶させておくこと
により、複数の処理ユニットの操作のために、操作パネ
ルを共用できる。
【0021】請求項7記載の発明は、上記基板処理装置
は、対応する処理ユニットの操作に必要な画面データを
記憶する画面データ記憶手段を有し、上記操作パネル
は、操作者によって操作される操作部と、この操作部の
操作に対応する画面データを上記基板処理装置からダウ
ンロードする手段と、ダウンロードされた画面データに
相当する画面を表示する表示手段とを含むものであるこ
とを特徴とする請求項1ないし5のいずれかに記載の基
板処理装置である。
【0022】この構成による効果は、請求項6の発明の
場合と同様である。ただし、請求項7の発明の場合に
は、操作パネルにおいて画面データ記憶手段を設ける必
要がなく、処理ユニットの操作に必要な画面データは、
基板処理装置からダウンロードすることにより取得でき
る。これにより、操作パネルの構成を簡単にすることが
できる。
【0023】なお、画面データは、基板処理装置が複数
の処理ユニットを有する場合に、各処理ユニットの個別
制御部の記憶手段に記憶されていてもよい。また、複数
の個別制御部がネットワーク接続されている場合には、
いずれか1つまたは2つ以上の個別制御部に画面データ
を記憶する記憶手段を備えるようにしてもよく、それら
の個別制御部とともにネットワークに接続された主制御
装置に複数の処理ユニットの画面データを一括して記憶
する記憶手段を備えるようにしてもよい。
【0024】なお、いずれの発明においても、上記処理
ユニットは、搬送機構を含むものであってもよい。この
場合に、上記個別制御部または制御装置は、上記インタ
フェース部を介する操作パネルからの通知に基づき、搬
送機構の動作を制御する機能を有することが好ましい。
【0025】
【発明の実施の形態】以下では、この発明の実施の形態
を、添付図面を参照して詳細に説明する。図1は、この
発明の一実施形態に係る基板処理装置のレイアウトを示
す平面図である。この基板処理装置は、フォトリソグラ
フィ工程を実施するための装置であり、平面視において
長尺な全体形状を有している。図1では、この長尺な全
体形状を途中で切断し、上下2段に分割して図示してあ
る。
【0026】この長尺な基板処理装置は、一端にインデ
クサユニット(IND)1を備え、他端に露光機(EX
P)10を備えている。処理対象の基板Sは、インデク
サユニット1から露光機10に向かい、この露光機10
から再びインデクサ1に戻る、ほぼU字状の基板搬送経
路に沿って搬送され、その過程で、各種の処理を受け
る。
【0027】インデクサユニット1から露光機10に向
かう往路には、紫外線照射ユニット(UV)2、ロール
ブラシ洗浄ユニット3、デハイドベークユニット(D
B)4、スピンコータユニット(SC)5、端面洗浄ユ
ニット(ER)6、プリベークユニット(PB)7、エ
ッジ露光ユニット(EdgEx)8、およびバッファユニッ
ト(BF)9の各処理ユニットがこの順に配列されてい
る。
【0028】また、露光機10からインデクサユニット
1に向かう復路には、露光後ベークユニット(PEB)
11、現像ユニット12、空冷ユニット13およびポス
トベークユニット(PostB)14の各処理ユニットがこ
の順に配列されている。ただし、デハイドベークユニッ
ト4、プリベークユニット7およびポストベークユニッ
ト14は、他の処理ユニットよりも上方に立体的に配置
されていて、基板搬送経路の往路および復路にまたがっ
た状態で配置されている。すなわち、この基板処理装置
は、2階建て構造になっていて、デハイドベークユニッ
ト4、プリベークユニット7およびポストベークユニッ
ト14などの熱処理ユニットは、2階部分に配置されて
いる。
【0029】また、バッファユニット9も、基板搬送経
路の往路および復路にまたがって配置されている。この
ように、一部の処理ユニットを基板搬送経路の往路およ
び復路にまたがって配置したレイアウトを採用すること
により、基板処理装置の省スペース化が図られている。
【0030】インデクサユニット1は、複数枚の基板S
を積層状態で保持することができるカセットCを複数個
配列して載置することができるカセット載置台1Aと、
このカセット載置台1Aに沿って直線往復移動して、任
意のカセットCに対する基板搬入/搬出動作を行うイン
デクサロボット1Bとを備えた処理ユニットである。こ
のインデクサロボット1Bは、いずれかのカセットCか
ら未処理の基板Sを搬出して、紫外線照射ユニット2に
投入するとともに、ポストベークユニット14から一連
の処理を経た処理済みの基板Sを受け取って、いずれか
のカセットCに搬入する。このインデクサユニット1
は、基板処理装置の一方の側面(図1の下方側の面)で
ある第1操作面と、基板処理装置の他方の側面(図1の
上方側の面)である第2操作面(第1操作面とほぼ正反
対の方向の面)とから、調整等を行うことができるよう
になっている。
【0031】紫外線照射ユニット2は、基板Sに紫外線
を照射することにより、基板Sの表面の有機物汚染を分
解する働きを有している。この紫外線照射ユニット2
は、上記第1操作面から調整等を行うことができるよう
になっている。ロールブラシ洗浄ユニット3には、適当
な搬送機構(図示せず)によって、紫外線照射ユニット
2での処理を経た基板Sが搬入される。このロール洗浄
ユニットは、基板Sをローラ搬送機構によってほぼ水平
な姿勢で搬送しながら、その上下面をロールブラシによ
ってブラシ洗浄する処理ユニットである。ブラシ洗浄さ
れた基板Sは、姿勢変換部3Aにおいて90度水平回転
される。このロールブラシ洗浄ユニット3は、上記第1
操作面から調整等の作業を行うことができるようになっ
ている。
【0032】デハイドベークユニット4は、上下方向に
多段に積層された複数の熱処理部をそれぞれ有する一対
の熱処理部群4A,4Bと、これらの間に配置された搬
送ロボット4Cとを有している。熱処理部群4A,4B
は、基板Sを加熱して水分を蒸発させるためのホットプ
レートと、加熱後の基板Sを常温に冷却するためのクー
ルプレートとを含む。搬送ロボット4Cは、姿勢変換部
3Aから基板Sを受け取り、いずれかの熱処理部に基板
Sを搬入したり、異なる熱処理部間で基板Sを移動した
り、熱処理部から基板Sを取り出して姿勢変換部5Dに
受け渡したりする。熱処理部群4Aは、上記第1操作面
に対面していて、この第1操作面から調整等の作業を行
うことができるようになっている。これに対して、熱処
理部群4Bは、上記第2操作面に面していて、この第2
操作面から調整等の作業が行われるようになっている。
【0033】スピンコータユニット5は、基板Sを水平
な姿勢で回転させながらその回転中心にレジスト液を滴
下することにより、遠心力を利用して基板Sの表面に均
一にレジスト液を塗布するための処理ユニットである。
このスピンコータユニット5は、レジスト塗布処理を行
う処理室5Aと、この処理室5Aにレジスト塗布前の基
板Sを搬入する搬入ロボット5Bと、レジスト塗布後の
基板Sを処理室5Aから搬出する搬出ロボット5Cとを
備えている。搬入ロボット5Bとデハイドベークユニッ
ト4との間配置された姿勢変換部5Dは、基板Sを90
度水平回転させるためのものである。搬入ロボット5B
は、この姿勢変換部5Dで90度回転させられた後の基
板Sを受け取り、処理室5Aに搬入する。スピンコータ
ユニット5は、上記第1操作面に面していて、この第1
操作面から調整等の作業が行われるようになっている。
【0034】搬出ロボット5Cによって処理室5Aから
搬出された基板Sは、レベリングゾーン5Fを経て、端
面洗浄ユニット6に搬入される。端面洗浄ユニット6
は、基板Sの端縁付近のレジストを洗浄して除去するた
めの処理部6Aと、レベリングゾーン5Fから基板Sを
受け取って処理部6Aに搬入する搬入ロボット6Bと、
処理部6Aから処理済みの基板Sを搬出する搬出ロボッ
ト6Cとを有している。端面洗浄ユニット6は、上記第
1操作面に対向しており、この第1操作面から各種の調
整等が行われるようになっている。
【0035】搬出ロボット6Cによって搬出された基板
Sは、姿勢変換部6Dにおいて、90度水平回転され
る。プリベークユニット7は、上下方向に多段に積層さ
れた複数の熱処理部をそれぞれ有する一対の熱処理部群
7A,7Bと、これらの間に配置された搬送ロボット7
Cとを有している。熱処理部群7A,7Bは、基板Sを
加熱してレジスト液中の溶媒を蒸発させ、レジスト膜を
焼き固めたうえで、基板Sを常温にまで冷却させるため
のものである。したがって、熱処理部群7A,7Bに
は、水分を蒸発させるためのホットプレートと、加熱後
の基板Sを常温に冷却するためのクールプレートとが備
えられている。搬送ロボット7Cは、姿勢変換部6Dか
ら基板Sを受け取り、いずれかの熱処理部に基板Sを搬
入したり、異なる熱処理部間で基板Sを移動したり、熱
処理部から基板Sを取り出して基板受け渡し台7Dに受
け渡したりする。熱処理部群7Aは、上記第1操作面に
対面していて、この第1操作面から調整等の作業を行う
ことができるようになっている。これに対して、熱処理
部群7Bは、上記第2操作面に面していて、この第2操
作面から調整等の作業が行われるようになっている。
【0036】エッジ露光ユニット8は、基板Sの縁部に
付着している不要なレジストを除去するための露光処理
を行う処理ユニットである。エッジ露光ユニット8に関
連して、基板受け渡し台7Dから基板Sを受け取って、
このエッジ露光ユニット8に搬入することができるロボ
ットTRが設けられている。このロボットTRは、エッ
ジ露光処理後の基板Sをエッジ露光ユニット8から取り
出し、バッファユニット9側の基板受け渡し台9Aに置
く。エッジ露光ユニット8は、第1操作面に面してい
て、この第1操作面側から調整等を行うことができるよ
うになっている。
【0037】バッファユニット9は、搬送ロボット9B
と、露光機10に搬入すべき基板Sを一時待機させてお
くための第1バッファカセット9Cと、露光機10から
搬出された基板Sを一時待機させておくための第2バッ
ファカセット9Dとを備えている。搬送ロボット9B
は、基板受け渡し台9A、第1および第2バッファカセ
ット9C,9Dおよび露光機10にアクセスして、基板
Sの搬入/搬出を行うことができる。このバッファユニ
ット9は、第1操作面および第2操作面の両方に面して
おり、これらの両操作面から調整等が行われるようにな
っている。
【0038】露光後の基板Sは、基板受け渡し台9Aを
介し、ロボットTRによって基板受け渡し台9Aから取
り出されて、露光後ベークユニット11に搬入される。
この露光後ベークユニット11は、上下方向に多段に積
層された複数の熱処理部からなる熱処理部群を有する。
この露光後ベークユニット11は、いわゆる化学増幅型
レジストを用いた場合における露光後のベーク処理のた
めのものである。すなわち、上記の熱処理部群には、レ
ジストを焼き締めることにより線幅を細くするために使
用されるホットプレートと、このホットプレートによる
加熱処理後の基板Sを常温に冷却するためのクールプレ
ートとが備えられている。この露光後ベークユニット1
1は、上記第2操作面に面していて、この第2操作面か
ら種々の調整等が行われるようになっている。
【0039】露光後ベークユニット11からの基板S
は、現像ユニット12による処理を受ける。この現像ユ
ニット12は、たとえば、ローラ搬送機構によって基板
Sを水平な姿勢でローラ搬送しながら、基板Sの表面に
現像液を供給し、その後、純水でその現像液を洗い流
し、さらに基板Sを乾燥させるように構成されている。
この現像ユニット12は、上記第2操作面に面してい
て、この第2操作面から各種の調整等が行われるように
なっている。
【0040】空冷ユニット13は、基板Sを搬送するロ
ーラ搬送機構などを備え、基板Sを空気冷却する処理ユ
ニットである。この空冷ユニット13は、第2操作面に
面していて、この第2操作面から各種の調整が行われ
る。空冷ユニット13とポストベークユニット14との
間には、基板Sを90度水平回転させる姿勢変換部13
Aが設けられている。
【0041】ポストベークユニット14は、上下方向に
多段に積層された複数の熱処理部をそれぞれ有する一対
の熱処理部群14A,14Bと、これらの間に配置され
た搬送ロボット14Cとを有している。熱処理部群14
A,14Bは、基板Sを加熱して現像後のレジストを焼
き固めるためのホットプレートと、この加熱後の基板S
を常温にまで冷却させるためのクールプレートとを有し
ている。搬送ロボット14Cは、姿勢変換部13Aから
基板Sを受け取り、いずれかの熱処理部に基板Sを搬入
したり、異なる熱処理部間で基板Sを移動したり、熱処
理部から基板Sを取り出して姿勢変換部14Dに受け渡
したりする。熱処理部群14Aは、上記第1操作面に対
面していて、この第1操作面から調整等の作業を行うこ
とができるようになっている。これに対して、熱処理部
群14Bは、上記第2操作面に面していて、この第2操
作面から調整等の作業が行われるようになっている。
【0042】姿勢変換部14Dは、基板Sを90度水平
回転させるものであり、回転後の基板Sは、インデクサ
ロボット1Bにより受け取られて、いずれかのカセット
Cに収容されることになる。図2は、上記の基板処理装
置の電気的構成を示すブロック図である。インデクサユ
ニット1からポストベークユニット14までの複数の処
理ユニットは、それぞれ、個別制御部C1〜C14を有
しており、これらは、ネットワーク20に接続されてい
る。このネットワーク20には、さらに、主制御装置2
5が接続されている。主制御装置25は、ネットワーク
20を介して、個別制御部C1〜C14とデータを授受
することができる。また、このネットワーク20を利用
することにより、個別制御部C1〜C14は、ネットワ
ーク20に接続された任意の個別制御部C1〜C14と
データの授受を行うことができるようになっている。
【0043】個別制御部C1〜C14には、それぞれ1
つまたは2つのインタフェース部INTが設けられてい
る。すなわち、インデクサユニット1に対応した個別制
御部C1には、2つのインタフェース部INT1A,I
NT1Bが設けられており、これらは、図1に示すよう
に、それぞれ第1操作面および第2操作面に対向する位
置に配置されている。また、紫外線照射ユニット2に対
応した個別制御部C2には、1つのインタフェース部I
NT2が接続されており、このインタフェース部INT
2は、図1に示すように、第1操作面に対向する位置に
配置されている。同様に、ロールブラシ洗浄ユニット3
に対応した個別制御部C3には、1つのインタフェース
INT3が接続されており、図1に示すように、第1操
作面に対向する位置に配置されている。デハイドベーク
ユニット4に対応した個別制御部C4には、2つのイン
タフェース部INT4A,INT4Bが接続されてお
り、これらは、それぞれ第1操作面および第2操作面に
対向する位置に配置されている。
【0044】スピンコータユニット5に対応した個別制
御部C5には、1つのインタフェース部INT5が接続
されていて、これは、第1操作面に対向する位置に配置
されている。端面洗浄ユニット6に対応した個別制御部
C6には、1つのインタフェース部INT6が接続され
ており、これは、第1操作面に対向する位置に配置され
ている。プリベークユニット7に対応した個別制御部C
7には、2つのインタフェース部INT7A,INT7
Bが接続されており、これらは、それぞれ、第1操作面
および第2操作面に対向して配置されている。エッジ露
光ユニット8の個別制御部C8には、1つのインタフェ
ース部INT8が接続されており、これは、第1操作面
に対向して配置されている。バッファユニット9の個別
制御部C9は、2つのインタフェース部INT9A,I
NT9Bを有していて、これらは、第1操作面および第
2操作面にそれぞれ配置されている。
【0045】さらに、露光後ベークユニット11の個別
制御部C11には、1つのインタフェース部INT11
が接続されており、第2操作面に対向する位置に配置さ
れている。現像ユニット12の個別制御部C12には、
2つのインタフェース部INT12A,INT12Bが
接続されており、これらは現像ユニット12の搬送方向
上流側端部および下流側端部において、第2操作面に対
向して配置されている。空冷ユニット13の個別制御部
C13は、1つのインタフェース部INT13を有して
おり、このインタフェース部INT13は、第2操作面
に対向して配置されている。さらに、ポストベークユニ
ット14は、3つのインタフェース部INT14A,I
NT14B,INT14Cを備えている。これらのう
ち、インタフェース部INT14Aは、第1操作面に対
向して配置されており、残る2つのインタフェース部I
NT14B,INT14Cは、第2操作面側において、
それぞれ、熱処理部群14Bおよび姿勢変換部14Dに
対向する位置に配置されている。
【0046】このように、平面視において長尺な基板処
理装置には、第1操作面および第2操作面の要所に複数
のインタフェース部INTが分散して配置されている。
そして、第1操作面および第2操作面の両操作面から調
整等の作業が行われる処理ユニットに関しては、第1操
作面および第2操作面の両方にインタフェース部が設け
られている。
【0047】図3は、個別制御部C(個別制御部C1〜
C14の総称)と、この個別制御部Cのインタフェース
部INTに接続することができる操作パネル50の電気
的構成を示すブロック図である。インタフェース部IN
Tは、操作パネル50を着脱自在に装着することができ
るようになっている。つまり、操作パネル50は、任意
のインタフェース部INTに接続することができ、操作
者が必要に応じて持ち歩き、調整等の作業に際して最も
好都合な位置にあるインタフェース部INTに接続して
用いることができる。
【0048】個別制御部Cは、CPU31と、CPU3
1の動作プログラムを記憶したROM32と、ワークエ
リアなどを提供するRAM33と、ネットワーク20を
介する通信のための通信制御部34と、インタフェース
部INTを介して操作パネル50とデータを授受するた
めのインタフェース回路35とを備えている。この構成
により、主としてCPU31が動作プログラムを実行す
ることにより実現されるソフトウエア処理によって、当
該個別制御部Cに対応する処理ユニットの各部の制御を
行う機能、他の個別制御部Cや主制御装置25とネット
ワーク20を介して通信を行う機能、操作パネル50と
必要なデータを授受するための通信機能が実現される。
【0049】操作パネル50は、液晶表示パネルなどか
らなる表示部51と、制御部52と、表示部51に表示
すべき画面データなどを記憶したメモリ53(画面デー
タ記憶手段)と、表示部51の表示画面上に設けられた
タッチパネルなどからなる操作部54と、インタフェー
ス部INTに着脱自在に装着される接続部55とを備え
ている。メモリ53には、当該操作パネル50により操
作可能な全ての処理ユニットの制御のために必要な画面
データが格納されている。
【0050】この構成により、操作パネル50は、接続
部55および処理ユニットのインタフェース部INTを
介して、当該処理ユニットの個別制御部Cとの間で、当
該処理処理ユニットまたは他の処理ユニットの制御に関
連するデータを授受するようになっている。図4は、操
作パネル50の表示部51における表示画面の一例を示
す図である。この図4には、バッファユニット9のイン
タフェース部INT9AまたはINT9Bに操作パネル
50を接続し、搬送ロボット(MHU)9Bの調整のた
めに、この搬送ロボット9Bを試験運転させる場合の表
示例が示されている。
【0051】バッファユニット9の操作のための表示画
面は、複数のページからなり、表示画面右肩部の「前
頁」ボタンまたは「次頁」ボタンを操作(画面に触れて
タッチパネルを操作)することにより、いずれかのペー
ジを選択して表示させることができる。画面中央付近に
は、搬送ロボット9Bの基板保持ハンドに基板を吸着さ
せるべきことを指示するための「吸着」ボタン、搬送ロ
ボット9Bをリセットするための「コントローラリセッ
ト」ボタン、基板搬送方向に関して上流側(バッファカ
セット9C)から基板を受け取る1サイクルの動作を選
択するための「サイクル運転上流」ボタン、基板搬送方
向に関して下流側(露光機10)へ基板を受け渡す1サ
イクルの動作を選択するための「サイクル運転下流」ボ
タン、これらのサイクル運転ボタンにより選択された1
サイクルの動作の実行を指示するための「サイクル運転
実行」ボタン、搬送ロボット9Bの原点位置への復帰動
作を選択するための「原点復帰」ボタン、搬送ロボット
9Bがハンドに基板Sを保持したまま処理部や搬送部に
ハンドを進入させた状態で故障が発生した場合に、その
復旧のためにハンドを引き戻すX軸待避動作を選択する
ための「X軸待避」ボタン、および原点復帰またはX軸
待避動作のうち選択された動作の実行を指示するための
「MHU動作実行」ボタンが設けられている。また、画
面右側には、搬送ロボット9Bが自動運転中であるとき
に点灯表示される「自動」ランプ部と、搬送ロボット9
Bが原点位置に復帰して原点位置が確立された状態のと
きに点灯表示される「原点確立」ランプ部とが設けられ
ている。
【0052】たとえば、調整作業の際には、操作者は、
「サイクル運転上流」ボタンや「サイクル運転下流」ボ
タンを操作し、さらに、「サイクル運転実行」ボタンを
操作する。これにより、搬送ロボット9Bは、1枚の基
板を搬送する1サイクルの動作を実行する。このときの
動作が好ましい態様で実行されるように、操作者は、搬
送ロボット9Bなどの調整を行うことになる。この場合
に、調整作業を第1操作面から行うか第2操作面から行
うかに応じて、インタフェース部INT9AまたはIN
T9Bのいずれかに操作パネル50を接続しておけば、
調整とサイクル運転とを繰り返し行う際に、良好な作業
効率が得られる。
【0053】図5は、動作を説明するためのフローチャ
ートである。操作者は、調整作業に最も適した位置のイ
ンタフェース部INTに操作パネル50の接続部55を
接続する(ステップS1)。次いで、操作パネル50の
操作部54に設けられた処理ユニット選択操作部を操作
して、操作対象の処理ユニットを選択する(ステップS
2)。任意のインタフェース部INTに接続された操作
パネル50は、当該インタフェース部INTに直接接続
された処理ユニットはもちろんネットワーク20に接続
されている任意の処理ユニットの操作を行うことができ
る。ただし、調整等の作業の際には、操作対象の処理ユ
ニットとしては、当該インタフェース部INTに直接接
続された処理ユニットか、この処理ユニットに隣接する
処理ユニットが選択されることになるのが普通の使用態
様であろう。
【0054】操作対象の処理ユニットが選択されると、
操作パネル50の制御部52は、当該選択された処理ユ
ニットの操作のための画面データをメモリ53から読み
出し(ステップS3:画面データ読み出し手段)、これ
を表示部51に表示する(ステップS4)。その後、操
作者が操作部54を操作して、何らかの指令(たとえ
ば、搬送ロボット等の負荷を駆動するための指令)を入
力すると(ステップS5)、この指令に対応した制御デ
ータが、制御部52から、接続部55およびインタフェ
ース部INTを介して個別制御部Cに与えられる(ステ
ップS6)。これにより、個別制御部Cでは、インタフ
ェース回路35を介して当該制御データが受信される
(ステップS7)。これに応答して、CPU31は、受
信した制御データを解析し、操作対象処理ユニットが自
己の処理ユニット(自処理ユニット)かどうかを判断す
る(ステップS8)。操作対象処理ユニットが自己の処
理ユニットであれば、CPU31は、自己の処理ユニッ
トの対応する負荷(ロボットのモータなど)を駆動する
(ステップS9)。
【0055】操作対象の処理ユニットが自己の処理ユニ
ット以外の他の処理ユニットである場合には(ステップ
S8のNO)、当該操作対象の処理ユニットに、ネット
ワーク20を介して制御データを送信する(ステップS
10)。当該他の操作対象処理ユニットに対応した個別
制御部Cは、ネットワーク20を介して当該制御データ
を受信し、これに基づいて、負荷(ロボットのモータな
ど)を駆動することになる。
【0056】図6は、操作パネル50から個別制御部C
に送信される制御データのフォーマットを示す図であ
る。1つのフレームは、ヘッダSTXで始まり、終了符
ETXで終わる。これらの間に、操作対象の処理ユニッ
トを特定するためのユニット番号、操作内容指令デー
タ、および誤りチェック用データSUMなどが順に含ま
れている。操作内容指令データは、たとえば、8ビット
のデータからなり、各ビットの値により指令内容を表す
ようになっている。第8ビット「7」(最上位ビット)
は、「サイクル運転下流」の指示の有無を表し、第7ビ
ット「6」は、「原点復帰」の指示の有無を表し、第6
ビット「5」は、「コントローラリセット」の指示の有
無を表し、第5ビット「4」は、「X軸退避」の指示の
有無を表し、第4ビット「3」は、「サイクル運転上
流」の指示の有無を表し、第3ビット「2」は、「吸
着」の指示の有無を表し、第2ビット「1」は、「次
頁」ボタンの操作の有無を表し、第1ビット「0」(最
下位ビット)は、「前頁」ボタンの操作の有無を表す。
【0057】以上のようにこの実施形態によれば、基板
処理装置の第1操作面および第2操作面の要所に複数の
インタフェース部INTが分散して配置されていて、任
意のインタフェース部INTに操作パネル50を着脱自
在に装着できるようになっている。そして、任意のイン
タフェース部INTに接続された操作パネル50から、
任意の処理ユニットの制御が行えるようになっている。
これにより、少なくとも1つの操作パネル50があれ
ば、必要な操作は全て行うことができるから、操作パネ
ルの数を少なくすることができ、基板処理装置の小型化
および低コスト化が達成される。
【0058】しかも、第1操作面および第2操作面の両
方に対向する処理ユニットに関しては、第1操作面およ
び第2操作面にそれぞれ対向するインタフェース部が設
けられている。そのため、この処理ユニットに対する調
整等の作業は、第1操作面および第2操作面のいずれか
らでも効率的に行うことができる。次に、この発明の第
2の実施形態について説明する。この第2の実施形態の
説明では、上述の図1、図2および図3を再び参照す
る。
【0059】上述の第1の実施形態では、操作パネル5
0にメモリ53を設け、このメモリ53に複数の処理ユ
ニットのための画面データを記憶しておくようにしてい
る。これに対して、ここで説明する第2の実施形態で
は、個別制御部Cに、各処理ユニットのための画面デー
タを記憶しておくメモリ(画面データ記憶手段)が設け
られる。そして、操作パネル50では、操作部54によ
って、操作対象の処理ユニットが選択され、これに応答
して、制御部52は、選択された処理ユニットの個別制
御部Cから画面データをダウンロードし、そのダウンロ
ードされた画面データに対応する画面を表示部51に表
示する。
【0060】この場合に、インタフェース部INTを介
して操作パネル50が直接接続されている個別制御部C
は、操作対象の処理ユニットが自己の処理ユニットかど
うかを判断し、自己の処理ユニットであれば、インタフ
ェース部INTを介して、画面データを操作パネル50
に与える。また、操作対象の処理ユニットが自己の処理
ユニットでない場合には、個別制御部Cは、当該操作対
象の処理ユニットの個別制御部Cにネットワーク20を
介して通知し、その操作対象の処理ユニットの画面デー
タの送信を依頼する。こうして、操作対象の処理ユニッ
トの画面データは、ネットワーク20、個別制御部C、
この個別制御部Cに接続されたインタフェース部INT
を介して操作パネル50にダウンロードされることにな
る。
【0061】このような構成により、操作パネル50に
は、画面データ記憶用のメモリを設ける必要がなくなる
ので、操作パネル50の構成を簡単にすることができ
る。なお、複数の処理ユニットの操作のための画面デー
タを主制御装置25に一括して記憶させておいてもよ
く、この場合にも、ネットワーク20および個別制御部
Cならびにインタフェース部INTを介して、操作パネ
ル50に操作対象の処理ユニットの画面データをダウン
ロードして利用することができる。
【0062】この発明の2つの実施形態について説明し
たが、この発明は他の形態でも実施することができる。
たとえば、上述の実施形態では、全ての個別制御部Cに
1〜3個のインタフェース部INTが接続されている構
成について説明したが、1つまたは2つ以上の個別制御
部Cには、インタフェース部が設けられていなくてもよ
い。この場合でも、いずれかのインタフェース部INT
に操作パネル50を接続すれば、ネットワーク20を介
して、インタフェース部のない処理ユニットに対する操
作を行うことができる。
【0063】また、上記の実施形態では、U字状の基板
搬送経路に沿って基板が搬送される基板処理装置を例に
採ったが、たとえば、一方端に基板を供給するローダが
配置され、他方端に処理済みの基板を収容するアンロー
ダされ、これらの間に複数の処理ユニットが配置され
て、一直線状の基板搬送経路に沿って基板を搬送しつつ
処理する構成の基板処理装置に対しても、この発明の適
用が可能である。
【0064】その他、特許請求の範囲に記載された技術
的事項の範囲で種々の設計変更を施すことが可能であ
る。
【図面の簡単な説明】
【図1】この発明の一実施形態に係る基板処理装置のレ
イアウトを示す平面図である。
【図2】上記の基板処理装置の電気的構成を示すブロッ
ク図である。
【図3】個別制御部と、この個別制御部のインタフェー
ス部に接続することができる操作パネルの電気的構成を
示すブロック図である。
【図4】操作パネルの表示部における表示画面の一例を
示す図である。
【図5】動作を説明するためのフローチャートである。
【図6】操作パネルから個別制御部に送信される制御デ
ータのフォーマットを示す図である。
【符号の説明】
1 インデクサユニット 2 紫外線照射ユニット 3 ロールブラシ洗浄ユニット 4 デハイドベークユニット 5 スピンコータユニット 6 端面洗浄ユニット 7 プリベークユニット 8 エッジ露光ユニット 9 バッファユニット 10 露光機 11 露光後ベークユニット 12 現像ユニット 13 空冷ユニット 14 ポストベークユニット 20 ネットワーク 25 主制御装置 C1〜C14 個別制御部 INT1A,INT1B,INT2,INT3,INT4A,INT4B,INT5,INT6,INT7A,
INT7B,INT8,INT9A,INT9B,INT11,INT12A,INT12B,INT13,I
NT14A,INT14B,INT14C インタフェース部 C 個別制御部 31 CPU 34 通信制御部 35 インタフェース回路 INT インタフェース部 50 操作パネル 51 表示部 52 制御部 53 メモリ 54 操作部 55 接続部

Claims (7)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】基板を処理するための第1の処理ユニット
    および第2の処理ユニットと、 上記第1および第2の処理ユニットにそれぞれ設けら
    れ、ネットワークを介して相互接続された第1の個別制
    御部および第2の個別制御部と、 上記第1および第2の個別制御部との間で、上記第1お
    よび第2の処理ユニットの制御のためのデータ通信を行
    うことができる操作パネルを接続することができ、上記
    操作パネルを上記第1の個別制御部に接続させるインタ
    フェース部とを含むことを特徴とする基板処理装置。
  2. 【請求項2】基板を処理するための複数の処理ユニット
    と、 上記複数の処理ユニットにそれぞれ設けられ、ネットワ
    ークを介して相互接続された複数の個別制御部と、 上記複数の個別制御部のうちの少なくとも1つに接続さ
    れ、処理ユニットを制御するためのデータ通信のために
    要所に配置された複数のインタフェース部とを含み、 上記複数のインタフェース部は、上記複数の個別制御部
    のうちの任意の個別制御部との間で、当該個別制御部に
    対応する処理ユニットの制御のためのデータ通信を行う
    ことができる操作パネルを着脱自在に装着できるもので
    あることを特徴とする基板処理装置。
  3. 【請求項3】上記操作パネルは、操作対象の処理ユニッ
    トを選択するための処理ユニット選択操作部を含むもの
    であることを特徴とする請求項1または2に記載の基板
    処理装置。
  4. 【請求項4】上記個別制御部は、 操作パネルによって選択された操作対象の処理ユニット
    が当該個別制御部に対応した自処理ユニットか否かを判
    断する手段と、 操作パネルによって選択された操作対象の処理ユニット
    が、自処理ユニット以外の他の処理ユニットであるとき
    には、当該他の処理ユニットに対応する個別制御部とに
    ネットワークを介して制御データを送信する手段とを含
    むものであることを特徴とする請求項3記載の基板処理
    装置。
  5. 【請求項5】第1操作面と、この第1操作面とは異なる
    方向に対向する第2操作面とを有する基板処理装置であ
    って、 基板を処理するための処理ユニットと、 この処理ユニットを制御するための制御装置と、 この制御装置に接続されているとともに、上記第1操作
    面に配置され、上記処理ユニットの制御のためのデータ
    通信のための第1のインタフェース部と、 上記制御装置に接続されているとともに、上記第2操作
    面に配置され、処理ユニットの制御のためのデータ通信
    のための第2のインタフェース部とを含み、 上記第1および第2のインタフェース部は、上記制御装
    置との間で上記処理ユニットの制御のためのデータ通信
    を行うことができる操作パネルを着脱自在に装着するこ
    とができるようになっていることを特徴とする基板処理
    装置。
  6. 【請求項6】上記操作パネルは、 処理ユニットの操作に必要な画面データを記憶した画面
    データ記憶手段と、 操作者によって操作される操作部と、 この操作部の操作に対応する画面データを上記画面デー
    タ記憶手段から読み出す画面データ読み出し手段と、 この画面データ読み出し手段によって読み出された画面
    データに相当する画面を表示する表示手段とを含むもの
    であることを特徴とする請求項1ないし5のいずれかに
    記載の基板処理装置。
  7. 【請求項7】上記基板処理装置は、対応する処理ユニッ
    トの操作に必要な画面データを記憶する画面データ記憶
    手段を有し、 上記操作パネルは、 操作者によって操作される操作部と、 この操作部の操作に対応する画面データを上記基板処理
    装置からダウンロードする手段と、 ダウンロードされた画面データに相当する画面を表示す
    る表示手段とを含むものであることを特徴とする請求項
    1ないし5のいずれかに記載の基板処理装置。
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