JP4388563B2 - 基板の処理方法、基板処理装置及びコンピュータ読み取り可能な記憶媒体 - Google Patents
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Description
2 カセットステーション
3 処理ステーション
4 露光処理ユニット
120 制御部
I ウェハ情報
W ウェハ
C カセット
Claims (9)
- 複数枚の基板を収容する基板収容部と、基板に対し各種処理を行う複数の処理ユニットを有する基板処理装置において、基板収容部内の複数の基板を搬送レシピに従って所定の複数の処理ユニットに順次搬送して所定の処理レシピの基板処理を行う、基板の処理方法であって、
トラブルが発生して基板処理装置の動作が停止された際に、そのときの基板処理装置内にある基板の位置と処理状況の基板情報を記憶する工程と、
その後基板処理装置の電源が切られ、その後基板処理装置が再起動された際に、基板処理装置内にある前記基板を基板収容部内に回収する工程と、
その後、前記基板収容部内の基板を、トラブル発生前と同じ搬送レシピに従って前記所定の複数の処理ユニットに順次搬送し、前記基板情報に基づいて既に処理の終了している処理ユニットでは当該基板の処理を行わず、未だ処理の行われていない処理ユニットでは当該基板の処理を行って、前記所定の処理レシピの残りの基板処理を行う工程と、を有し、
前記基板情報に基づいて、トラブル発生時に既に前記所定の処理レシピの処理を終了していた基板と、処理ユニットにおいて処理中であった基板は、前記基板回収後の前記基板収容部から前記所定の複数の処理ユニットへの前記搬送を行わないように設定され、
前記基板収容部から前記所定の複数の処理ユニットへの前記搬送を行わないように設定されている基板の中から、前記搬送を行う基板を選択でき、
トラブル発生時に処理ユニットにおいて処理中であった基板が選択され、前記搬送を行う際には、当該基板が検査ユニットに搬送されて基板の処理状態が検査された後、前記所定の複数の処理ユニットに順次搬送され、
前記検査結果に基づいて、前記搬送を行う際の処理ユニットにおける処理条件を変更することを特徴とする、基板の処理方法。 - 前記基板処理装置は、基板のフォトリソグラフィー処理を行う装置であって、露光処理前に基板上にレジスト液を塗布するレジスト塗布処理ユニットと、露光処理後に基板を現像処理する現像処理ユニットを少なくとも有し、前記基板処理装置に隣接する露光処理ユニットとの間で基板を受け渡し可能であり、
トラブル発生時に露光処理ユニット内にあった基板は、前記基板回収後の前記基板収容部から前記所定の複数の処理ユニットへの前記搬送を行わないように設定されていることを特徴とする、請求項1に記載の基板の処理方法。 - 基板処理装置の表示部に、前記基板情報を表示することを特徴とする、請求項1又は2に記載の基板の処理方法。
- 前記基板処理装置は、基板のフォトリソグラフィー処理を行う装置であって、露光処理前に基板上にレジスト液を塗布するレジスト塗布処理ユニットと、露光処理後に基板を現像処理する現像処理ユニットを少なくとも有し、前記基板処理装置に隣接する露光処理ユニットとの間で基板を受け渡し可能であり、
トラブル発生時に既に露光処理を終了していた基板は、前記基板回収後の前記基板収容部から前記所定の複数の処理ユニットへの前記搬送を行う際に露光処理ユニットを迂回して搬送されることを特徴とする、請求項1〜3のいずれかに記載の基板の処理方法。 - 複数枚の基板を収容する基板収容部と、基板に対し各種処理を行う複数の処理ユニットを有し、基板収容部内の複数の基板を搬送レシピに従って所定の複数の処理ユニットに順次搬送して所定の処理レシピの基板処理を行う基板処理装置であって、
トラブルが発生して基板処理装置の動作が停止された際に、そのときの基板処理装置内にある基板の位置と処理状況の基板情報を記憶し、基板処理装置が再起動された際に、基板処理装置内にある前記基板を基板収容部内に回収し、前記基板収容部内の基板を、トラブル発生前と同じ搬送レシピに従って前記所定の複数の処理ユニットに順次搬送し、前記基板情報に基づいて既に処理の終了している処理ユニットでは当該基板の処理を行わず、未だ処理の行われていない処理ユニットでは当該基板の処理を行って、前記所定の処理レシピの残りの基板処理を行うように制御する制御部を有し、
前記基板情報に基づいて、トラブル発生時に既に前記所定の処理レシピの処理を終了していた基板と、処理ユニットにおいて処理中であった基板は、前記基板回収後の前記基板収容部から前記所定の複数の処理ユニットへの前記搬送を行わないように前記制御部に設定され、
前記基板収容部から前記所定の複数の処理ユニットへの前記搬送を行わないように設定されている基板の中から、前記搬送を行う基板を選択でき、
トラブル発生時に処理ユニットにおいて処理中であった基板が選択され、前記搬送を行う際には、前記制御部により当該基板が検査ユニットに搬送されて基板の処理状態が検査された後、基板が前記所定の複数の処理ユニットに順次搬送され、
前記制御部により、前記検査結果に基づいて、前記搬送を行う際の処理ユニットにおける処理条件が変更されることを特徴とする、基板処理装置。 - 前記基板処理装置は、基板のフォトリソグラフィー処理を行う装置であって、露光処理前に基板上にレジスト液を塗布するレジスト塗布処理ユニットと、露光処理後に基板を現像処理する現像処理ユニットを少なくとも有し、前記基板処理装置に隣接する露光処理ユニットとの間で基板を受け渡し可能であり、
トラブル発生時に露光処理ユニット内にあった基板は、前記基板回収後の前記基板収容部から前記所定の複数の処理ユニットへの前記搬送を行わないように前記制御部に設定されていることを特徴とする、請求項5に記載の基板処理装置。 - 前記基板情報を表示する表示部をさらに有することを特徴とする、請求項5又は6に記載の基板処理装置。
- 前記基板処理装置は、基板のフォトリソグラフィー処理を行う装置であって、露光処理前に基板上にレジスト液を塗布するレジスト塗布処理ユニットと、露光処理後に基板を現像処理する現像処理ユニットを少なくとも有し、前記基板処理装置に隣接する露光処理ユニットとの間で基板を受け渡し可能であり、
前記制御部により、トラブル発生時に既に露光処理を終了していた基板は、前記基板回収後の前記基板収容部から前記所定の複数の処理ユニットへの前記搬送の際に露光処理ユニットを迂回して搬送されることを特徴とする、請求項5〜7のいずれかに記載の基板処理装置。 - 請求項1〜4のいずれかに記載の基板の処理方法を基板処理装置によって実行させるために、当該基板処理装置を制御する制御部のコンピュータ上で動作するプログラムを記憶したコンピュータ読み取り可能な記憶媒体。
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