JP5648242B2 - 露光システム及びその制御方法 - Google Patents
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Description
(1) 基板ステージと基板との相対位置を所定の位置精度に位置決めするプリアライメント装置と、前記基板にマスクのパターンを露光転写する露光装置と、前記プリアライメント装置及び前記露光装置を制御する制御装置と、前記基板を前記プリアライメント装置から前記露光装置に搬送するワークローダと、を備え、前記露光装置は、前記基板と前記マスクとのギャップを検出可能なギャップセンサを更に備える露光システムであって、
前記制御装置は、前記プリアライメント装置において、前回プリアライメントしたとき検出された前記基板ステージと前記基板とのズレ量に基づいて補正値を算出して前記プリアライメント装置を制御するプリアライメント制御レシピに書き込むと共に、前記露光装置において、前回前記基板と前記マスクとのアライメント調整したとき検出された前記基板と前記マスクとのズレ量に基づいて補正値を算出して前記露光装置を制御する露光制御レシピに書き込むと共に、前回前記基板と前記マスクとのギャップ調整を行ったときのギャップ量から補正値を算出してギャップ制御レシピに書き込み、且つ、前回前記基板を露光した際のショット数をレシピに書き込み、
次回のプリアライメント及び露光に際して、前記プリアライメント制御レシピ、前記露光制御レシピ及び前記ギャップ制御レシピに基づいて前記プリアライメント装置及び前記露光装置を制御し、且つ、
次回の露光に際して、前記ショット数を書き込んだレシピに基づき、ショットごとの所要時間、及び前記ワークローダによる前記プリアライメント装置から前記露光装置までの搬送所要時間を用いて、前記ワークローダの作動開始を制御することを特徴とする露光システム。
(2) 前記プリアライメント装置及び前記露光装置は、それぞれサブ制御部を有し、
前記制御装置は、前記プリアライメント装置の前記サブ制御部に前記プリアライメント制御レシピを、前記露光装置の前記サブ制御部に前記露光制御レシピ及びギャップ制御レシピをそれぞれ送信し、
次回のプリアライメント及び露光に際して、前記各サブ制御部の前記プリアライメント制御レシピ、前記露光制御レシピ及び前記ギャップ制御レシピに基づいて前記プリアライメント装置及び前記露光装置を制御することを特徴とする(1)に記載の露光システム。
(3) 基板ステージと基板との相対位置を所定の位置精度に位置決めするプリアライメント装置と、前記基板にマスクのパターンを露光転写する露光装置と、前記プリアライメント装置及び前記露光装置を制御する制御装置と、前記基板を前記プリアライメント装置から前記露光装置に搬送するワークローダと、を備え、前記露光装置は、前記基板と前記マスクとのギャップを検出可能なギャップセンサを更に備える露光システムの制御方法であって、
前記プリアライメント装置において、前回プリアライメントしたとき検出された前記基板ステージと前記基板とのズレ量に基づいて補正値を算出して前記プリアライメント装置を制御するプリアライメント制御レシピに書き込むと共に、前記露光装置において、前回前記基板と前記マスクとのアライメント調整したとき検出された前記基板と前記マスクとのズレ量に基づいて補正値を算出して前記露光装置を制御する露光制御レシピに書き込むと共に、前回前記基板と前記マスクとのギャップ調整を行ったときのギャップ量から補正値を算出してギャップ制御レシピに書き込み、且つ、前回前記基板を露光した際のショット数をレシピに書き込み、
次回のプリアライメント及び露光に際して、前記プリアライメント制御レシピ、前記露光制御レシピ及び前記ギャップ制御レシピに基づいて前記プリアライメント装置及び前記露光装置を制御し、且つ、
次回の露光に際して、前記ショット数を書き込んだレシピに基づき、ショットごとの所要時間、及び前記ワークローダによる前記プリアライメント装置から前記露光装置までの搬送所要時間を用いて、前記ワークローダの作動開始を制御することを特徴とする露光システムの制御方法。
(4) 前記プリアライメント装置及び前記露光装置は、それぞれサブ制御部を有し、
前記制御装置は、前記プリアライメント装置の前記サブ制御部に前記プリアライメント制御レシピを、前記露光装置の前記サブ制御部に前記露光制御レシピ及びギャップ制御レシピをそれぞれ送信し、
次回のプリアライメント及び露光に際して、前記各サブ制御部の前記プリアライメント制御レシピ、前記露光制御レシピ及び前記ギャップ制御レシピに基づいて前記プリアライメント装置及び前記露光装置を制御することを特徴とする(3)に記載の露光システムの制御方法。
また、露光装置において、前回前記基板を露光した際のショット数をレシピに書き込み、次回の露光に際して、前記ショット数を書き込んだレシピに基づき、ショットごとの所要時間、及び前記ワークローダによる前記プリアライメント装置から前記露光装置までの搬送所要時間を用いて、前記ワークローダの作動開始を制御するようにしたので、前の基板の露光が終了した時点で、次の基板をワークローダによって搬入することができ、待ち時間がなく、且つ最長許容時間以内で搬送することができ、スループットを低下させることなく、精度のよい露光処理を行うことができる。
図1は本発明に係る露光システムの概略構成図、図2は基板ステージとガラス基板、及びガラス基板とマスクとのズレ量を補正する状態を示す概念図である。図1に示すように、本実施形態の露光システム10は、温度調整機構11、プリアライメント装置12、露光装置13、第1ワークローダ14、第2ワークローダ15、及び、各装置11〜13及び第1、第2ワークローダ14、15の各部を制御する制御装置21と、を備えている。
12 プリアライメント装置
13 露光装置
16 基板ステージ
21 制御装置
E1、E2 基板ステージと基板とのズレ量
e1、e2 基板とマスクとのズレ量
M マスク
R1 プリアライメント制御レシピ
R2 露光制御レシピ
W ガラス基板(基板)
Claims (4)
- 基板ステージと基板との相対位置を所定の位置精度に位置決めするプリアライメント装置と、前記基板にマスクのパターンを露光転写する露光装置と、前記プリアライメント装置及び前記露光装置を制御する制御装置と、前記基板を前記プリアライメント装置から前記露光装置に搬送するワークローダと、を備え、前記露光装置は、前記基板と前記マスクとのギャップを検出可能なギャップセンサを更に備える露光システムであって、
前記制御装置は、前記プリアライメント装置において、前回プリアライメントしたとき検出された前記基板ステージと前記基板とのズレ量に基づいて補正値を算出して前記プリアライメント装置を制御するプリアライメント制御レシピに書き込むと共に、前記露光装置において、前回前記基板と前記マスクとのアライメント調整したとき検出された前記基板と前記マスクとのズレ量に基づいて補正値を算出して前記露光装置を制御する露光制御レシピに書き込むと共に、前回前記基板と前記マスクとのギャップ調整を行ったときのギャップ量から補正値を算出してギャップ制御レシピに書き込み、且つ、前回前記基板を露光した際のショット数をレシピに書き込み、
次回のプリアライメント及び露光に際して、前記プリアライメント制御レシピ、前記露光制御レシピ及び前記ギャップ制御レシピに基づいて前記プリアライメント装置及び前記露光装置を制御し、且つ、
次回の露光に際して、前記ショット数を書き込んだレシピに基づき、ショットごとの所要時間、及び前記ワークローダによる前記プリアライメント装置から前記露光装置までの搬送所要時間を用いて、前記ワークローダの作動開始を制御することを特徴とする露光システム。 - 前記プリアライメント装置及び前記露光装置は、それぞれサブ制御部を有し、
前記制御装置は、前記プリアライメント装置の前記サブ制御部に前記プリアライメント制御レシピを、前記露光装置の前記サブ制御部に前記露光制御レシピ及びギャップ制御レシピをそれぞれ送信し、
次回のプリアライメント及び露光に際して、前記各サブ制御部の前記プリアライメント制御レシピ、前記露光制御レシピ及び前記ギャップ制御レシピに基づいて前記プリアライメント装置及び前記露光装置を制御することを特徴とする請求項1に記載の露光システム。 - 基板ステージと基板との相対位置を所定の位置精度に位置決めするプリアライメント装置と、前記基板にマスクのパターンを露光転写する露光装置と、前記プリアライメント装置及び前記露光装置を制御する制御装置と、前記基板を前記プリアライメント装置から前記露光装置に搬送するワークローダと、を備え、前記露光装置は、前記基板と前記マスクとのギャップを検出可能なギャップセンサを更に備える露光システムの制御方法であって、
前記プリアライメント装置において、前回プリアライメントしたとき検出された前記基板ステージと前記基板とのズレ量に基づいて補正値を算出して前記プリアライメント装置を制御するプリアライメント制御レシピに書き込むと共に、前記露光装置において、前回前記基板と前記マスクとのアライメント調整したとき検出された前記基板と前記マスクとのズレ量に基づいて補正値を算出して前記露光装置を制御する露光制御レシピに書き込むと共に、前回前記基板と前記マスクとのギャップ調整を行ったときのギャップ量から補正値を算出してギャップ制御レシピに書き込み、且つ、前回前記基板を露光した際のショット数をレシピに書き込み、
次回のプリアライメント及び露光に際して、前記プリアライメント制御レシピ、前記露光制御レシピ及び前記ギャップ制御レシピに基づいて前記プリアライメント装置及び前記露光装置を制御し、且つ、
次回の露光に際して、前記ショット数を書き込んだレシピに基づき、ショットごとの所要時間、及び前記ワークローダによる前記プリアライメント装置から前記露光装置までの搬送所要時間を用いて、前記ワークローダの作動開始を制御することを特徴とする露光システムの制御方法。 - 前記プリアライメント装置及び前記露光装置は、それぞれサブ制御部を有し、
前記制御装置は、前記プリアライメント装置の前記サブ制御部に前記プリアライメント制御レシピを、前記露光装置の前記サブ制御部に前記露光制御レシピ及びギャップ制御レシピをそれぞれ送信し、
次回のプリアライメント及び露光に際して、前記各サブ制御部の前記プリアライメント制御レシピ、前記露光制御レシピ及び前記ギャップ制御レシピに基づいて前記プリアライメント装置及び前記露光装置を制御することを特徴とする請求項3に記載の露光システムの制御方法。
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