JPH1048845A - マスクとワークステージの位置合わせ方法および装置 - Google Patents
マスクとワークステージの位置合わせ方法および装置Info
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- JPH1048845A JPH1048845A JP8203577A JP20357796A JPH1048845A JP H1048845 A JPH1048845 A JP H1048845A JP 8203577 A JP8203577 A JP 8203577A JP 20357796 A JP20357796 A JP 20357796A JP H1048845 A JPH1048845 A JP H1048845A
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- work stage
- alignment mark
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- Liquid Crystal (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 レーザ光源等を使用することなく、逐次露光
におけるワーク上の各露光区域間の距離、傾きを所定の
精度内にすること。 【解決手段】 ワークステージ４上に、その移動方向で
ある互いに直交する２方向のいずれか一方と平行な基準
線を印した反射材４ａを設ける。アライメントマーク用
部分照明系ＭＡ１あるいは露光光（非露光光）照射装置
１から露光光（非露光光）をマスクＭのアライメントマ
ークＭＡＭに照射して、反射材４ａ上にアライメントマ
ーク像を結像させ、結像したマスクＭのアライメントマ
ーク像と、反射部材４ａ上の基準線とをアライメントユ
ニット５の画像センサ５ｄで受像する。そして、アライ
メントマーク像が基準線上に重なるようにマスクＭおよ
び／またはワークステージ４を移動させる。また、上記
基準線上に目盛り線を付け、目盛り線によりマスクＭと
ワークステージ４の位置合わせをしてもよい。
におけるワーク上の各露光区域間の距離、傾きを所定の
精度内にすること。 【解決手段】 ワークステージ４上に、その移動方向で
ある互いに直交する２方向のいずれか一方と平行な基準
線を印した反射材４ａを設ける。アライメントマーク用
部分照明系ＭＡ１あるいは露光光（非露光光）照射装置
１から露光光（非露光光）をマスクＭのアライメントマ
ークＭＡＭに照射して、反射材４ａ上にアライメントマ
ーク像を結像させ、結像したマスクＭのアライメントマ
ーク像と、反射部材４ａ上の基準線とをアライメントユ
ニット５の画像センサ５ｄで受像する。そして、アライ
メントマーク像が基準線上に重なるようにマスクＭおよ
び／またはワークステージ４を移動させる。また、上記
基準線上に目盛り線を付け、目盛り線によりマスクＭと
ワークステージ４の位置合わせをしてもよい。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、半導体装置やプリ
ント基板、ＬＣＤ（液晶画面）の生産等に使用される投
影露光装置におけるマスクとワークステージの位置合わ
せ方法および装置に関し、特に、ワークステージを所定
量ずつ移動させてワークの各露光区域を露光する逐次露
光において、ワーク上の各露光区域間の距離、傾きを所
定の精度内にするためのマスクとワークステージの位置
合わせ方法および装置に関するものである。
ント基板、ＬＣＤ（液晶画面）の生産等に使用される投
影露光装置におけるマスクとワークステージの位置合わ
せ方法および装置に関し、特に、ワークステージを所定
量ずつ移動させてワークの各露光区域を露光する逐次露
光において、ワーク上の各露光区域間の距離、傾きを所
定の精度内にするためのマスクとワークステージの位置
合わせ方法および装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】レジストを塗布したワーク上の複数の露
光区域にマスクパターンを投影して各露光区域を露光す
るため、ワークステージを移動させながら、ワークステ
ージ上に載置されたワークの各露光区域を逐次に露光し
ていく逐次露光が行われる。上記逐次露光において、ワ
ークを第１回目に露光する際、すなわち、アライメント
マークもマスクパターンも露光されていないワークを露
光する際、ワーク上の各露光区域間の距離、傾きが所定
の精度内に入っていることが要求される（以下、この精
度を「つなぎ合わせ精度」という）。
光区域にマスクパターンを投影して各露光区域を露光す
るため、ワークステージを移動させながら、ワークステ
ージ上に載置されたワークの各露光区域を逐次に露光し
ていく逐次露光が行われる。上記逐次露光において、ワ
ークを第１回目に露光する際、すなわち、アライメント
マークもマスクパターンも露光されていないワークを露
光する際、ワーク上の各露光区域間の距離、傾きが所定
の精度内に入っていることが要求される（以下、この精
度を「つなぎ合わせ精度」という）。
【０００３】図６は上記した「つなぎ合わせ精度」を説
明する図である。逐次露光によりワーク上の各露光区域
にはパターンＰが露光されるが、同図に示す各パターン
Ｐ間の距離ｘ１，ｘ２，ｙ１等の精度を「つなぎ合わせ
精度」といい、通常、露光パターン間隔約２０ｍｍ〜約
２００ｍｍに対して±０．１μｍから±５〜１０μｍの
精度が要求される。また、図６（ｂ）に示すように、各
パターンＰが傾いていると、各パターンＰのピッチＸ，
Ｙが所定の精度内に入っても、各パターン間の距離ｘ
２，ｙ２の値は小さくなり、上記要求を満足しなくな
る。すなわち、つなぎ合わせ精度を所定の精度にするに
は、各パターンのＸ，Ｙ方向の距離および傾きを所定の
精度にする必要がある。
明する図である。逐次露光によりワーク上の各露光区域
にはパターンＰが露光されるが、同図に示す各パターン
Ｐ間の距離ｘ１，ｘ２，ｙ１等の精度を「つなぎ合わせ
精度」といい、通常、露光パターン間隔約２０ｍｍ〜約
２００ｍｍに対して±０．１μｍから±５〜１０μｍの
精度が要求される。また、図６（ｂ）に示すように、各
パターンＰが傾いていると、各パターンＰのピッチＸ，
Ｙが所定の精度内に入っても、各パターン間の距離ｘ
２，ｙ２の値は小さくなり、上記要求を満足しなくな
る。すなわち、つなぎ合わせ精度を所定の精度にするに
は、各パターンのＸ，Ｙ方向の距離および傾きを所定の
精度にする必要がある。
【０００４】上記ＸＹ方向の距離の精度は、ワークを載
置するワークステージの移動機構の移動精度（互いに直
交するＸＹ方向の移動精度）により定まる。一方、上記
傾きは、ワークステージの移動方向に対するマスクの向
き（上記ＸＹ方向に対するマスクパターンの傾き）によ
り定まる。このため、マスクの向きを調整し、ワークス
テージのＸＹ移動方向とマスクパターンの傾きを一致さ
せることにより、上記傾きを補正することができる（こ
の補正を以下θ補正という）。したがって、逐次露光を
行う場合には、予め、上記のようにマスクの傾きをワー
クステージの移動方向に合わせるθ補正が行われる。上
記「つなぎ合わせ精度」として、±０．１μｍ程度の精
度が要求される場合、従来、次のようなレーザ光源を用
いたマスクとワークステージの位置合わせ方法が用いら
れていた。
置するワークステージの移動機構の移動精度（互いに直
交するＸＹ方向の移動精度）により定まる。一方、上記
傾きは、ワークステージの移動方向に対するマスクの向
き（上記ＸＹ方向に対するマスクパターンの傾き）によ
り定まる。このため、マスクの向きを調整し、ワークス
テージのＸＹ移動方向とマスクパターンの傾きを一致さ
せることにより、上記傾きを補正することができる（こ
の補正を以下θ補正という）。したがって、逐次露光を
行う場合には、予め、上記のようにマスクの傾きをワー
クステージの移動方向に合わせるθ補正が行われる。上
記「つなぎ合わせ精度」として、±０．１μｍ程度の精
度が要求される場合、従来、次のようなレーザ光源を用
いたマスクとワークステージの位置合わせ方法が用いら
れていた。
【０００５】図７は従来のマスクとワークステージの位
置合わせ方法を説明する図である。同図において、２０
はレーザ光源、３は投影レンズ、４はワークステージで
あり、ワークステージ４上には位置合わせのためのアラ
イメントマークＷＳＭが記されている。Ｍはマスクであ
り、マスクＭ上には、例えば図８に示すように、金属膜
（遮光膜）中に窓部が設けられたアライメントマークＡ
Ｍが記されている。図７の５はレンズ系とＣＣＤセンサ
等から構成されるアライメントユニットであり、アライ
メントユニット５よりワークステージ４上のアライメン
トマークＷＳＭとワークステージＷ上に結像するレーザ
ビーム像をモニタする。
置合わせ方法を説明する図である。同図において、２０
はレーザ光源、３は投影レンズ、４はワークステージで
あり、ワークステージ４上には位置合わせのためのアラ
イメントマークＷＳＭが記されている。Ｍはマスクであ
り、マスクＭ上には、例えば図８に示すように、金属膜
（遮光膜）中に窓部が設けられたアライメントマークＡ
Ｍが記されている。図７の５はレンズ系とＣＣＤセンサ
等から構成されるアライメントユニットであり、アライ
メントユニット５よりワークステージ４上のアライメン
トマークＷＳＭとワークステージＷ上に結像するレーザ
ビーム像をモニタする。
【０００６】なお、ワークステージ４上のアライメント
マークＷＳＭ、マスク上のアライメントマークＡＭは少
なくとも２箇所に設けられおり、図７には図示していな
いが、それに対応してレーザ光源２０、アライメントユ
ニット５が少なくとも２組設けられ、下記位置合わせも
２回行なわれる。なお、レーザ光源２０を一つ設け、ミ
ラー等によりレーザビームの光路を切り換えるようにし
てもよい。
マークＷＳＭ、マスク上のアライメントマークＡＭは少
なくとも２箇所に設けられおり、図７には図示していな
いが、それに対応してレーザ光源２０、アライメントユ
ニット５が少なくとも２組設けられ、下記位置合わせも
２回行なわれる。なお、レーザ光源２０を一つ設け、ミ
ラー等によりレーザビームの光路を切り換えるようにし
てもよい。
【０００７】同図において、θ補正は次のように行われ
る。 (1) 同図（ａ）に示すようにマスクＭが無い状態で、レ
ーザ光源２０をオンにして、アライメントユニット５に
より、ワークステージ４上に結像するレーザビーム像
と、ワークステージ４上のアライメントマークＷＳＭを
モニタする。 (2) 上記レーザビーム像とアライメントマークＷＳＭと
が一致するようにワークステージ４を移動させる。 (3) レーザ光源２０をオフにし、同図（ｂ）に示すよう
にマスクＭを所定の位置にセットする。なお、マスクＭ
上のアライメントマークＡＭは上記レーザビームの近傍
に位置している。
る。 (1) 同図（ａ）に示すようにマスクＭが無い状態で、レ
ーザ光源２０をオンにして、アライメントユニット５に
より、ワークステージ４上に結像するレーザビーム像
と、ワークステージ４上のアライメントマークＷＳＭを
モニタする。 (2) 上記レーザビーム像とアライメントマークＷＳＭと
が一致するようにワークステージ４を移動させる。 (3) レーザ光源２０をオフにし、同図（ｂ）に示すよう
にマスクＭを所定の位置にセットする。なお、マスクＭ
上のアライメントマークＡＭは上記レーザビームの近傍
に位置している。
【０００８】(4) レーザ光源２０をオンにし、アライメ
ントユニット５により、ワークステージ４上に結像する
レーザビーム像をモニタし、レーザビームが上記マスク
ＭのアライメントマークＡＭを通過するようにマスクＭ
を移動させる。 上記(4) の操作を少なくとも２か所のマスクＭのアライ
メントマークＡＭとワークステージ４上のアライメント
マークＷＳＭについて行うことにより、マスクＭとワー
クステージ４の位置合わせを行うことができる。
ントユニット５により、ワークステージ４上に結像する
レーザビーム像をモニタし、レーザビームが上記マスク
ＭのアライメントマークＡＭを通過するようにマスクＭ
を移動させる。 上記(4) の操作を少なくとも２か所のマスクＭのアライ
メントマークＡＭとワークステージ４上のアライメント
マークＷＳＭについて行うことにより、マスクＭとワー
クステージ４の位置合わせを行うことができる。
【０００９】
【発明が解決しようとする課題】上記「つなぎ合わせ精
度」は、露光以降のプロセス等により要求される精度が
異なり、前記したように露光パターン間隔約２０ｍｍ〜
約２００ｍｍに対して±０．１μｍから±５〜１０μｍ
の精度が要求される。上記図７に示したレーザ光源を用
いる方法によれば、「つなぎ合わせ精度」として±０．
１μｍ程度の精度を確保することができるが、上記レー
ザ光源を用いる方法は、レーザ光源を２系統設けたり、
あるいは、１系統のレーザ光源とレーザビーム光路切り
換え用ミラー等を設ける必要があり、装置が大がかりと
なるとともに制御も複雑となり全体として高価になる。
度」は、露光以降のプロセス等により要求される精度が
異なり、前記したように露光パターン間隔約２０ｍｍ〜
約２００ｍｍに対して±０．１μｍから±５〜１０μｍ
の精度が要求される。上記図７に示したレーザ光源を用
いる方法によれば、「つなぎ合わせ精度」として±０．
１μｍ程度の精度を確保することができるが、上記レー
ザ光源を用いる方法は、レーザ光源を２系統設けたり、
あるいは、１系統のレーザ光源とレーザビーム光路切り
換え用ミラー等を設ける必要があり、装置が大がかりと
なるとともに制御も複雑となり全体として高価になる。
【００１０】このため、「つなぎ合わせ精度」が±５〜
１０μｍの場合に適用できる、より安価で簡便なマスク
とワークステージの位置合わせ方法が望まれていた。本
発明は上記した事情に鑑みなされたものであって、レー
ザ光源等を使用した大がかりな装置を用いることなく、
要求される「つなぎ合わせ精度」を満たすことができ
る、安価かつ簡便なマスクとワークステージの位置合わ
せ方法および装置を提供することを目的とする。
１０μｍの場合に適用できる、より安価で簡便なマスク
とワークステージの位置合わせ方法が望まれていた。本
発明は上記した事情に鑑みなされたものであって、レー
ザ光源等を使用した大がかりな装置を用いることなく、
要求される「つなぎ合わせ精度」を満たすことができ
る、安価かつ簡便なマスクとワークステージの位置合わ
せ方法および装置を提供することを目的とする。
【００１１】
【課題を解決するための手段】本発明においては、上記
課題を次のようにして解決する。 （１）ワークステージ上に、該ワークステージの移動方
向である互いに直交する２方向のいずれか一方と平行な
基準線を印した反射材を設け、光照射部より露光光もし
くは非露光光をマスクのアライメントマークに照射し
て、上記マスクのアライメントマーク像を、上記反射材
上に結像させ、上記結像したマスクのアライメントマー
ク像と、上記光照射部より照射される露光光もしくは非
露光光により照明される反射部材上の基準線とを受像し
て両者の相対位置を検出し、上記マスクのアライメント
マーク像が上記基準線上に重なるようにマスクおよび／
またはワークステージを移動させる。
課題を次のようにして解決する。 （１）ワークステージ上に、該ワークステージの移動方
向である互いに直交する２方向のいずれか一方と平行な
基準線を印した反射材を設け、光照射部より露光光もし
くは非露光光をマスクのアライメントマークに照射し
て、上記マスクのアライメントマーク像を、上記反射材
上に結像させ、上記結像したマスクのアライメントマー
ク像と、上記光照射部より照射される露光光もしくは非
露光光により照明される反射部材上の基準線とを受像し
て両者の相対位置を検出し、上記マスクのアライメント
マーク像が上記基準線上に重なるようにマスクおよび／
またはワークステージを移動させる。
【００１２】（２）ワークステージ上に、該ワークステ
ージの移動方向である互いに直交する２方向のいずれか
一方と平行で、目盛り線が付された基準線を印した反射
材を設け、光照射部より露光光もしくは非露光光をマス
クのアライメントマークに照射し、上記マスクのアライ
メントマーク像を、上記反射材上に結像させ、上記結像
したマスクのアライメントマーク像と、上記光照射部よ
り照射される露光光もしくは非露光光により照明される
反射部材上の目盛り線が付された基準線とを受像して両
者の相対位置を検出し、上記マスクのアライメントマー
ク像が上記基準線上の所定の目盛りと重なるようにマス
クおよび／またはワークステージを移動させる。
ージの移動方向である互いに直交する２方向のいずれか
一方と平行で、目盛り線が付された基準線を印した反射
材を設け、光照射部より露光光もしくは非露光光をマス
クのアライメントマークに照射し、上記マスクのアライ
メントマーク像を、上記反射材上に結像させ、上記結像
したマスクのアライメントマーク像と、上記光照射部よ
り照射される露光光もしくは非露光光により照明される
反射部材上の目盛り線が付された基準線とを受像して両
者の相対位置を検出し、上記マスクのアライメントマー
ク像が上記基準線上の所定の目盛りと重なるようにマス
クおよび／またはワークステージを移動させる。
【００１３】本発明の請求項１，３の発明は上記（１）
のようにしたので、レーザ光源等の大がかりな装置を用
いることなく、簡単な手順でθ補正を行うことができ
る。本発明の請求項２，４の発明は上記（２）のように
したので、レーザ光源等の大がかりな装置を用いること
なく、簡単な手順でθ補正を行うことができるととも
に、ワークステージ４とマスクＭの相対位置を合わせる
ことができ、ワークＷ上の露光開始位置を予め定められ
た位置に設定することができる。
のようにしたので、レーザ光源等の大がかりな装置を用
いることなく、簡単な手順でθ補正を行うことができ
る。本発明の請求項２，４の発明は上記（２）のように
したので、レーザ光源等の大がかりな装置を用いること
なく、簡単な手順でθ補正を行うことができるととも
に、ワークステージ４とマスクＭの相対位置を合わせる
ことができ、ワークＷ上の露光開始位置を予め定められ
た位置に設定することができる。
【００１４】
【発明の実施の形態】図１は本発明の実施例の投影露光
装置の全体構成を示す図である。同図において、１は露
光光（非露光光）照射装置であり、１ａはランプ、１ｂ
は集光鏡、１ｃはシャッタ、１ｄは光学フィルタ、１ｅ
はコンデンサレンズである。２はマスクステージであ
り、マスクステージ２には、真空チャック等によりマス
クＭが固定され、マスクステージ２は図示しない駆動装
置によりＸ，Ｙ，Ｚ，θ（Ｘ，Ｙ軸：マスク面に平行な
平面上の直交軸、Ｚ軸：同図の上下方向の軸、θ：Ｚ軸
を中心とした回転、この回転を以下θ方向の移動とい
う）方向に駆動される。また、マスクＭ上には、位置合
わせのためのアライメントマークＭＡＭ（以下マスクマ
ークＭＡＭという）が印されている。なお、本実施例の
アライメントマークＭＡＭは前記図８に示した金属膜
（遮光膜）中に窓部を設けたものではなく、マスクとワ
ークのアライメントに使用される例えば十字マーク等が
使用される。
装置の全体構成を示す図である。同図において、１は露
光光（非露光光）照射装置であり、１ａはランプ、１ｂ
は集光鏡、１ｃはシャッタ、１ｄは光学フィルタ、１ｅ
はコンデンサレンズである。２はマスクステージであ
り、マスクステージ２には、真空チャック等によりマス
クＭが固定され、マスクステージ２は図示しない駆動装
置によりＸ，Ｙ，Ｚ，θ（Ｘ，Ｙ軸：マスク面に平行な
平面上の直交軸、Ｚ軸：同図の上下方向の軸、θ：Ｚ軸
を中心とした回転、この回転を以下θ方向の移動とい
う）方向に駆動される。また、マスクＭ上には、位置合
わせのためのアライメントマークＭＡＭ（以下マスクマ
ークＭＡＭという）が印されている。なお、本実施例の
アライメントマークＭＡＭは前記図８に示した金属膜
（遮光膜）中に窓部を設けたものではなく、マスクとワ
ークのアライメントに使用される例えば十字マーク等が
使用される。
【００１５】ＭＡ１は露光光（非露光光）をマスクＭ上
に照射するアライメントマーク用部分照明系であり、７
ａは部分照明光を導入する光ファイバ、７ｂはレンズ、
７ｃはミラーである。３は投影レンズ、４はワークステ
ージであり、ワークステージ４は図示しない駆動装置に
よりＸ，Ｙ，Ｚ，θ方向に駆動される。また、ワークス
テージ４には基準線が記された反射材４ａが埋設されて
いる。
に照射するアライメントマーク用部分照明系であり、７
ａは部分照明光を導入する光ファイバ、７ｂはレンズ、
７ｃはミラーである。３は投影レンズ、４はワークステ
ージであり、ワークステージ４は図示しない駆動装置に
よりＸ，Ｙ，Ｚ，θ方向に駆動される。また、ワークス
テージ４には基準線が記された反射材４ａが埋設されて
いる。
【００１６】図２は上記ワークステージ４の構成の一例
を示す図であり、同図（ａ）に示すようにワークステー
ジ４の略中央には、ガラス等から形成される反射材４ａ
が埋設され、反射材４ａには、ワークステージ４のＸ軸
移動方向と同一方向の基準線（以下ラインという）４１
が印されている。また、該ライン４１には、数字を付し
た目盛り線４２（例えば１０μｍ毎）が印されている。
反射材４ａの表面は、ワークステージ４上にワークＷ
（図１では点線で示されている）を載置したとき反射材
４ａがワークＷと接触しない程度にワークステージ４の
面より若干低く形成されている。
を示す図であり、同図（ａ）に示すようにワークステー
ジ４の略中央には、ガラス等から形成される反射材４ａ
が埋設され、反射材４ａには、ワークステージ４のＸ軸
移動方向と同一方向の基準線（以下ラインという）４１
が印されている。また、該ライン４１には、数字を付し
た目盛り線４２（例えば１０μｍ毎）が印されている。
反射材４ａの表面は、ワークステージ４上にワークＷ
（図１では点線で示されている）を載置したとき反射材
４ａがワークＷと接触しない程度にワークステージ４の
面より若干低く形成されている。
【００１７】なお、上記反射材４ａは必ずしもワークス
テージ４上の中央位置に設ける必要はなくその他の適切
な位置に設けることができる。また、その長さもワーク
ステージ４上の露光範囲以上であればよい。また、ライ
ン４１は図２（ａ）に示すように反射材４ａの全長に渡
って設ける必要はなく、例えば、図２（ｂ）に示すよう
に、反射材４ａ上に２本設けてもよい。なお、θ補正の
みを行う場合には上記目盛り線４２を設ける必要はな
い。
テージ４上の中央位置に設ける必要はなくその他の適切
な位置に設けることができる。また、その長さもワーク
ステージ４上の露光範囲以上であればよい。また、ライ
ン４１は図２（ａ）に示すように反射材４ａの全長に渡
って設ける必要はなく、例えば、図２（ｂ）に示すよう
に、反射材４ａ上に２本設けてもよい。なお、θ補正の
みを行う場合には上記目盛り線４２を設ける必要はな
い。
【００１８】図１に戻り、ＷＡ１は光ファイバ６ａ、レ
ンズ６ｂ、ミラー６ｃから構成されるアライメントマー
ク用部分照明系であり、ワークＷの各露光区域の逐次露
光において、第２回目以降の露光の際、ワークＷとマス
クＭの位置合わせをするために使用され、アライメント
マーク用部分照明系ＷＡ１から非露光光をワークＷに照
射して、ワークＷ上に印されたアライメントマーク（以
下、ワークマークという）の位置をモニタする。なお、
マスクとワークの位置合わせ方法は周知であり、本発明
には直接関係しないのでここではワークとマスクの位置
合わせについての詳細な説明は省略する。また、上記ア
ライメントマーク用部分照明系ＷＡ１を設けず、露光光
（非露光光）照射装置１から光学フィルタ１ｄを介して
非露光光をワークＷ上に照射してもよい。
ンズ６ｂ、ミラー６ｃから構成されるアライメントマー
ク用部分照明系であり、ワークＷの各露光区域の逐次露
光において、第２回目以降の露光の際、ワークＷとマス
クＭの位置合わせをするために使用され、アライメント
マーク用部分照明系ＷＡ１から非露光光をワークＷに照
射して、ワークＷ上に印されたアライメントマーク（以
下、ワークマークという）の位置をモニタする。なお、
マスクとワークの位置合わせ方法は周知であり、本発明
には直接関係しないのでここではワークとマスクの位置
合わせについての詳細な説明は省略する。また、上記ア
ライメントマーク用部分照明系ＷＡ１を設けず、露光光
（非露光光）照射装置１から光学フィルタ１ｄを介して
非露光光をワークＷ上に照射してもよい。
【００１９】５はアライメントユニットであり、アライ
メントユニット５は、レンズ５ａ、対物レンズ５ｂ、ハ
ーフミラー５ｃ，５ｅ，ＣＣＤカメラを備えた画像セン
サ５ｄから構成されており、ワークステージ４に設けら
れた反射材４ａ上に結像するマスクマークＭＡＭを、ハ
ーフミラー５ｃ→対物レンズ５ｂ→ハーフミラー５ｅ→
レンズ５ａを介して画像センサ５ｄで受像する。なお、
上記アライメントユニット５および部分照明系ＭＡ１，
ＷＡ２は、マスクＭＡＭ、ワークマークの数に対応して
設けられ、少なくとも２か所設けられる。
メントユニット５は、レンズ５ａ、対物レンズ５ｂ、ハ
ーフミラー５ｃ，５ｅ，ＣＣＤカメラを備えた画像セン
サ５ｄから構成されており、ワークステージ４に設けら
れた反射材４ａ上に結像するマスクマークＭＡＭを、ハ
ーフミラー５ｃ→対物レンズ５ｂ→ハーフミラー５ｅ→
レンズ５ａを介して画像センサ５ｄで受像する。なお、
上記アライメントユニット５および部分照明系ＭＡ１，
ＷＡ２は、マスクＭＡＭ、ワークマークの数に対応して
設けられ、少なくとも２か所設けられる。
【００２０】図３は本発明の露光装置を制御するシステ
ムの構成を示す図であり、同図において、１１は操作パ
ネル、１２は図１に示した露光装置を制御する演算装
置、１３はステージ制御部であり、ステージ制御部１３
は図１に示したマスクステージ２、ワークステージ４を
Ｘ，Ｙ，Ｚ，θ方向に制御する。１４は画像処理部であ
り、画像処理部１４は、アライメントユニット５の画像
センサ５ｄで受像したマスクマーク、ワークマーク像を
処理し、モニタ１５に表示する。
ムの構成を示す図であり、同図において、１１は操作パ
ネル、１２は図１に示した露光装置を制御する演算装
置、１３はステージ制御部であり、ステージ制御部１３
は図１に示したマスクステージ２、ワークステージ４を
Ｘ，Ｙ，Ｚ，θ方向に制御する。１４は画像処理部であ
り、画像処理部１４は、アライメントユニット５の画像
センサ５ｄで受像したマスクマーク、ワークマーク像を
処理し、モニタ１５に表示する。
【００２１】次に、本実施例におけるマスクとワークス
テージの位置合わせについて、図１〜図３により説明す
る。 （１）マスクマークＭＡＭが印されたマスクＭをマスク
ステージ２に載置し、真空チャック等によりマスクステ
ージ２に固定する。 （２）アライメントマーク用部分照明系ＭＡ１を所定位
置に挿入し、光ファイバ７ａを介してアライメントマー
ク用部分照明系ＭＡ１に露光光（非露光光でもよい）を
導入し、露光光（非露光光）をレンズ７ｂ、ミラー７ｃ
を介してマスクＭのマスクマークＭＡＭに照射する。マ
スクマークＭＡＭ像は投影レンズ３、アライメントユニ
ット５のハーフミラー５ｃを介してワークステージ４の
反射材４ａ上に投影される。なお、このとき、ワークＷ
はワークステージ４上に載置されていない。
テージの位置合わせについて、図１〜図３により説明す
る。 （１）マスクマークＭＡＭが印されたマスクＭをマスク
ステージ２に載置し、真空チャック等によりマスクステ
ージ２に固定する。 （２）アライメントマーク用部分照明系ＭＡ１を所定位
置に挿入し、光ファイバ７ａを介してアライメントマー
ク用部分照明系ＭＡ１に露光光（非露光光でもよい）を
導入し、露光光（非露光光）をレンズ７ｂ、ミラー７ｃ
を介してマスクＭのマスクマークＭＡＭに照射する。マ
スクマークＭＡＭ像は投影レンズ３、アライメントユニ
ット５のハーフミラー５ｃを介してワークステージ４の
反射材４ａ上に投影される。なお、このとき、ワークＷ
はワークステージ４上に載置されていない。
【００２２】（３）ステージ制御部１３によりワークス
テージ４をＺ軸方向に移動させ、マスクマークＭＡＭの
結像位置と反射材４ａの表面位置を一致させる。 （４）アライメントユニット５を所定位置に挿入する
（アライメントユニット５を退避させている場合）。 （５）アライメントユニット５の画像センサ５ｄによ
り、反射材４ａ上に結像したマスクマーク像ＭＡＭと反
射材４ａに印されたライン４１を受像し、図３に示した
画像処理部１４に送り、モニタ１５上に表示する。 （６）ステージ制御部１３によりマスクステージ２を駆
動し、反射材４ａ上に結像したマスクマーク像ＭＡＭと
反射材４ａに印されたライン４１が一致するように、マ
スクＭをＸ，Ｙ，θ方向に移動させる。このとき、マス
クＭに対してワークステージ４の位置を所定の位置にセ
ットする場合には、反射材４ａのライン４１に印された
目盛り線４２をモニタし、マスクマーク像ＭＡＭが上記
目盛り線４２の所定の目盛り位置に一致するようにマス
クＭを移動させる。
テージ４をＺ軸方向に移動させ、マスクマークＭＡＭの
結像位置と反射材４ａの表面位置を一致させる。 （４）アライメントユニット５を所定位置に挿入する
（アライメントユニット５を退避させている場合）。 （５）アライメントユニット５の画像センサ５ｄによ
り、反射材４ａ上に結像したマスクマーク像ＭＡＭと反
射材４ａに印されたライン４１を受像し、図３に示した
画像処理部１４に送り、モニタ１５上に表示する。 （６）ステージ制御部１３によりマスクステージ２を駆
動し、反射材４ａ上に結像したマスクマーク像ＭＡＭと
反射材４ａに印されたライン４１が一致するように、マ
スクＭをＸ，Ｙ，θ方向に移動させる。このとき、マス
クＭに対してワークステージ４の位置を所定の位置にセ
ットする場合には、反射材４ａのライン４１に印された
目盛り線４２をモニタし、マスクマーク像ＭＡＭが上記
目盛り線４２の所定の目盛り位置に一致するようにマス
クＭを移動させる。
【００２３】（７）上記（５）〜（６）の操作をマスク
Ｍ上に印された少なくとも２か所のマスクマークＭＡＭ
について行い、マスクＭとワークステージ４の位置合わ
せを行う。これにより上記θ補正が終了する。 （８）ついで、ワークステージ４にワークＷを載置し、
ワークＷの表面がマスクパターン結像面に一致するよう
に、ワークステージ４をＺ方向に移動させる。 （９）露光光（非露光光）照射装置１から露光光を照射
し、ワークステージ４を予め定められた距離だけＸ，Ｙ
方向に移動させながら、ワークＷ上の各露光区域を逐次
露光する。これにより、前記図６（ａ）に示したよう
に、ワークＷ上の各露光区域が露光される。なお、ワー
クＷ上の各露光区域を逐次露光する方法は周知なのでこ
こでは詳細な説明は省略する。
Ｍ上に印された少なくとも２か所のマスクマークＭＡＭ
について行い、マスクＭとワークステージ４の位置合わ
せを行う。これにより上記θ補正が終了する。 （８）ついで、ワークステージ４にワークＷを載置し、
ワークＷの表面がマスクパターン結像面に一致するよう
に、ワークステージ４をＺ方向に移動させる。 （９）露光光（非露光光）照射装置１から露光光を照射
し、ワークステージ４を予め定められた距離だけＸ，Ｙ
方向に移動させながら、ワークＷ上の各露光区域を逐次
露光する。これにより、前記図６（ａ）に示したよう
に、ワークＷ上の各露光区域が露光される。なお、ワー
クＷ上の各露光区域を逐次露光する方法は周知なのでこ
こでは詳細な説明は省略する。
【００２４】以上のようにしてマスクＭとワークステー
ジ４の位置合わせを行うことにより、レーザ光源等を用
いることなく簡単な手順でθ補正を行うことができる。
また、マスクマークＭＡＭとワークステージ４上のライ
ン４１との位置合わせを行ってθ補正を行っているの
で、使用する光は露光光でも非露光光でもかまわない。
さらに、マスクマークＭＡＭの投影像をライン４１の所
定の目盛り位置に合わせることにより、ワークステージ
４とマスクＭの相対位置を合わせることができる。この
ため、ワークステージ４上の所定位置にワークＷを載置
することにより、ワークＷ上の露光開始位置を予め定め
られた位置に設定することができる。
ジ４の位置合わせを行うことにより、レーザ光源等を用
いることなく簡単な手順でθ補正を行うことができる。
また、マスクマークＭＡＭとワークステージ４上のライ
ン４１との位置合わせを行ってθ補正を行っているの
で、使用する光は露光光でも非露光光でもかまわない。
さらに、マスクマークＭＡＭの投影像をライン４１の所
定の目盛り位置に合わせることにより、ワークステージ
４とマスクＭの相対位置を合わせることができる。この
ため、ワークステージ４上の所定位置にワークＷを載置
することにより、ワークＷ上の露光開始位置を予め定め
られた位置に設定することができる。
【００２５】図４は本発明の他の実施例のワークステー
ジの構成を示す図である。本実施例は、上記したマスク
Ｍとワークステージ４の位置合わせに加えて、各露光区
画を露光する際、ワークステージ４上の反射材４ａを用
いてマスクＭとワークＷのアライメントを行うことがで
きるように構成したものである。図４において、ガラス
等から形成される反射材４ａはワークステージ４のワー
クＷの載置面Ａの外側に設けられており、反射材４ａに
は、ワークステージ４のＸ軸移動方向と同一方向のライ
ン４１と目盛り線４２が印されている。
ジの構成を示す図である。本実施例は、上記したマスク
Ｍとワークステージ４の位置合わせに加えて、各露光区
画を露光する際、ワークステージ４上の反射材４ａを用
いてマスクＭとワークＷのアライメントを行うことがで
きるように構成したものである。図４において、ガラス
等から形成される反射材４ａはワークステージ４のワー
クＷの載置面Ａの外側に設けられており、反射材４ａに
は、ワークステージ４のＸ軸移動方向と同一方向のライ
ン４１と目盛り線４２が印されている。
【００２６】なお、本実施例の反射材４ａの上にはワー
クＷが載置されないので、反射材４ａの表面をワーク載
置面Ａより低くする必要はなく、反射材４ａの表面を例
えばワークステージ４上にワークＷを載置したときのワ
ークＷの表面と略同一の高さになるようにしてもよい。
このように構成すれば、マスクＭとワークステージ４の
位置合わせ後、ワークＷをワークステージ４に載置して
ワークＷの各露光区域を露光するとき、あるいは、ワー
クＷの各露光区域を露光するためマスクＭとワークＷの
アライメントを行うとき、ワークステージＷのＺ方向の
移動量を小さくすることができる。
クＷが載置されないので、反射材４ａの表面をワーク載
置面Ａより低くする必要はなく、反射材４ａの表面を例
えばワークステージ４上にワークＷを載置したときのワ
ークＷの表面と略同一の高さになるようにしてもよい。
このように構成すれば、マスクＭとワークステージ４の
位置合わせ後、ワークＷをワークステージ４に載置して
ワークＷの各露光区域を露光するとき、あるいは、ワー
クＷの各露光区域を露光するためマスクＭとワークＷの
アライメントを行うとき、ワークステージＷのＺ方向の
移動量を小さくすることができる。
【００２７】次に、前記図１を参照しながら本実施例に
おけるマスクとワークステージの位置合わせについて説
明する。 （１）マスクマークＭＡＭが印されたマスクＭをマスク
ステージ２に載置し、真空チャック等によりマスクステ
ージ２に固定する。 （２）マスクマークＭＡＭの投影位置に反射材４ａが位
置するように、ワークステージ４をＹ方向に移動させ
る。例えば、図５の点線位置から実線位置まで、ワーク
ステージ４を所定量Ｙ方向に移動させ、マスクマークＭ
ＡＭの投影位置と反射材４ａの位置を一致させる。以
下、前記した（２）〜（７）と同様、下記の（３）〜
（５）の操作を行う。すなわち、
おけるマスクとワークステージの位置合わせについて説
明する。 （１）マスクマークＭＡＭが印されたマスクＭをマスク
ステージ２に載置し、真空チャック等によりマスクステ
ージ２に固定する。 （２）マスクマークＭＡＭの投影位置に反射材４ａが位
置するように、ワークステージ４をＹ方向に移動させ
る。例えば、図５の点線位置から実線位置まで、ワーク
ステージ４を所定量Ｙ方向に移動させ、マスクマークＭ
ＡＭの投影位置と反射材４ａの位置を一致させる。以
下、前記した（２）〜（７）と同様、下記の（３）〜
（５）の操作を行う。すなわち、
【００２８】（３）アライメントマーク用部分照明系Ｍ
Ａ１から露光光（非露光光）をマスクＭのマスクマーク
ＭＡＭに照射し、マスクマークＭＡＭ像をワークステー
ジ４の反射材４ａ上に結像させる。 （４）アライメントユニット５の画像センサ５ｄによ
り、反射材４ａ上に結像したマスクマーク像ＭＡＭと反
射材４ａに印されたライン４１を受像し、反射材４ａ上
に結像したマスクマーク像ＭＡＭと反射材４ａに印され
たライン４１が一致するように、マスクＭをＸ，Ｙ，θ
方向に移動させる。このとき、ワークステージ４に対し
てマスクＭの位置を所定の位置にセットする場合には、
前記と同様、反射材４ａのライン４１に印された目盛り
線４２をモニタし、マスクマーク像ＭＡＭが上記目盛り
線４２の所定の目盛り位置に一致するようにマスクＭを
移動させる。
Ａ１から露光光（非露光光）をマスクＭのマスクマーク
ＭＡＭに照射し、マスクマークＭＡＭ像をワークステー
ジ４の反射材４ａ上に結像させる。 （４）アライメントユニット５の画像センサ５ｄによ
り、反射材４ａ上に結像したマスクマーク像ＭＡＭと反
射材４ａに印されたライン４１を受像し、反射材４ａ上
に結像したマスクマーク像ＭＡＭと反射材４ａに印され
たライン４１が一致するように、マスクＭをＸ，Ｙ，θ
方向に移動させる。このとき、ワークステージ４に対し
てマスクＭの位置を所定の位置にセットする場合には、
前記と同様、反射材４ａのライン４１に印された目盛り
線４２をモニタし、マスクマーク像ＭＡＭが上記目盛り
線４２の所定の目盛り位置に一致するようにマスクＭを
移動させる。
【００２９】（５）上記（４）の操作をマスクＭ上に印
された少なくとも２か所のマスクマークＭＡＭについて
行い、マスクＭとワークステージ４の位置合わせを行
う。これにより、前記したθ補正が終了する。 （６）ついで、ワークステージ４にワークＷを載置し、
ワークＷの最初の露光区域がマスクＭのマスクパターン
の投影位置になるように、ワークステージ４をＸ，Ｙ方
向に移動させる。例えば、図５の実線位置から点線位置
まで、ワークステージ４を所定量Ｘ，Ｙ方向に移動させ
る。なお、前記した目盛り線４２を利用してマスクに対
するワークステージ４の位置を設定しておけば、ワーク
ステージ４を所定量Ｘ，Ｙ方向に移動させることにより
ワークＷの最初の露光区域にマスクパターンの投影位置
を位置決めすることができる。
された少なくとも２か所のマスクマークＭＡＭについて
行い、マスクＭとワークステージ４の位置合わせを行
う。これにより、前記したθ補正が終了する。 （６）ついで、ワークステージ４にワークＷを載置し、
ワークＷの最初の露光区域がマスクＭのマスクパターン
の投影位置になるように、ワークステージ４をＸ，Ｙ方
向に移動させる。例えば、図５の実線位置から点線位置
まで、ワークステージ４を所定量Ｘ，Ｙ方向に移動させ
る。なお、前記した目盛り線４２を利用してマスクに対
するワークステージ４の位置を設定しておけば、ワーク
ステージ４を所定量Ｘ，Ｙ方向に移動させることにより
ワークＷの最初の露光区域にマスクパターンの投影位置
を位置決めすることができる。
【００３０】（７）露光光（非露光光）照射装置１から
露光光を照射し、ワークステージ４を予め定められた距
離だけＸ，Ｙ方向に移動させながら、ワークＷ上の各露
光区域を逐次露光する。 （８）上記（７）のようにしてワークＷの一回目の逐次
露光が終わると、前記図６に示したように、ワークＷ上
の各露光区域には第１回目の露光による複数のパターン
が形成される。このようにパターンが形成されたワーク
Ｗ上に２回目以降の露光を行う場合には、ワークステー
ジ４上に設けられた上記反射材４ａを利用してマスクＭ
上のアライメントマークとワークＷ上に形成されたアラ
イメントマークとの位置合わせを行う。
露光光を照射し、ワークステージ４を予め定められた距
離だけＸ，Ｙ方向に移動させながら、ワークＷ上の各露
光区域を逐次露光する。 （８）上記（７）のようにしてワークＷの一回目の逐次
露光が終わると、前記図６に示したように、ワークＷ上
の各露光区域には第１回目の露光による複数のパターン
が形成される。このようにパターンが形成されたワーク
Ｗ上に２回目以降の露光を行う場合には、ワークステー
ジ４上に設けられた上記反射材４ａを利用してマスクＭ
上のアライメントマークとワークＷ上に形成されたアラ
イメントマークとの位置合わせを行う。
【００３１】上記位置合わせについては、本出願人が先
に提案した特願平７−２３９７８３号に詳述されている
ので詳細な説明は省略するが、その概要は次の通りであ
る。 （ａ）マスクＭをマスクステージ２に載置・固定する。 （ｂ）マスクＭに設けられてアライメントマークの投影
位置に反射材４ａが位置するように、例えば前記図５の
実線位置までワークステージ４を移動させる。 （ｃ）上記反射材４ａの表面が露光光によるマスクパタ
ーン結像面に一致するようにワークステージ４をＺ方向
に移動させ、アライメントマーク用部分照明系ＭＡ１か
ら露光光を照射して、反射材４ａ上にマスクマークＭＡ
Ｍを結像させる。
に提案した特願平７−２３９７８３号に詳述されている
ので詳細な説明は省略するが、その概要は次の通りであ
る。 （ａ）マスクＭをマスクステージ２に載置・固定する。 （ｂ）マスクＭに設けられてアライメントマークの投影
位置に反射材４ａが位置するように、例えば前記図５の
実線位置までワークステージ４を移動させる。 （ｃ）上記反射材４ａの表面が露光光によるマスクパタ
ーン結像面に一致するようにワークステージ４をＺ方向
に移動させ、アライメントマーク用部分照明系ＭＡ１か
ら露光光を照射して、反射材４ａ上にマスクマークＭＡ
Ｍを結像させる。
【００３２】（ｄ）アライメントユニット５の画像セン
サ５ｄにより、結像したマスクマークＭＡＭ像を受像し
てその座標位置を記憶する。 （ｅ）アライメントマーク用部分照明系ＭＡ１からの露
光光の照射を停止し、ワークＷをワークステージ４上に
載置・固定して、ワークＷの表面がマスクパターン結像
面に一致するように、ワークステージ４をＺ方向に移動
させる。 （ｆ）マスクＭのアライメントマークＭＡＭの結像位置
にワークＷ上の最初の露光区域のアライメントマークが
位置するように、例えば前記図５の点線位置にワークス
テージ４を移動させる。 （ｇ）アライメントマーク用部分照明系ＷＡ１より非露
光光をワークＷ上に照射し、アライメントユニット５の
画像センサ５ｄにより、ワークＷのアライメントマーク
像を受像し、その座標位置を記憶する。
サ５ｄにより、結像したマスクマークＭＡＭ像を受像し
てその座標位置を記憶する。 （ｅ）アライメントマーク用部分照明系ＭＡ１からの露
光光の照射を停止し、ワークＷをワークステージ４上に
載置・固定して、ワークＷの表面がマスクパターン結像
面に一致するように、ワークステージ４をＺ方向に移動
させる。 （ｆ）マスクＭのアライメントマークＭＡＭの結像位置
にワークＷ上の最初の露光区域のアライメントマークが
位置するように、例えば前記図５の点線位置にワークス
テージ４を移動させる。 （ｇ）アライメントマーク用部分照明系ＷＡ１より非露
光光をワークＷ上に照射し、アライメントユニット５の
画像センサ５ｄにより、ワークＷのアライメントマーク
像を受像し、その座標位置を記憶する。
【００３３】（ｈ）前記（ｄ）で記憶したマスクＭのア
ライメントマークの座標位置と上記（ｆ）で記憶したワ
ークＷのアライメントマークの座標位置からマスクＭと
ワークＷの位置ズレ量を求め、上記位置ズレ量に基づき
ワークステージ４を移動させて、マスクＭのアライメン
トマークＭＡＭの位置とワークＷのアライメントマーク
の位置を一致させる。 （ｉ）上記のようにマスクＭとワークＷの位置合わせが
終了すると、露光光（非露光光）照射装置１から露光光
をマスクＭ上に照射し、ワークＷの最初の露光区域にマ
スクパターンを投影し、露光する。 （ｊ）次の露光区域が所定の露光位置にくるように、ワ
ークステージ４を所定量移動させる。 以下、（ｂ）〜（ｊ）の操作を繰り返し、ワークＷ上の
各露光区域を露光する。
ライメントマークの座標位置と上記（ｆ）で記憶したワ
ークＷのアライメントマークの座標位置からマスクＭと
ワークＷの位置ズレ量を求め、上記位置ズレ量に基づき
ワークステージ４を移動させて、マスクＭのアライメン
トマークＭＡＭの位置とワークＷのアライメントマーク
の位置を一致させる。 （ｉ）上記のようにマスクＭとワークＷの位置合わせが
終了すると、露光光（非露光光）照射装置１から露光光
をマスクＭ上に照射し、ワークＷの最初の露光区域にマ
スクパターンを投影し、露光する。 （ｊ）次の露光区域が所定の露光位置にくるように、ワ
ークステージ４を所定量移動させる。 以下、（ｂ）〜（ｊ）の操作を繰り返し、ワークＷ上の
各露光区域を露光する。
【００３４】本実施例においては、上記のようにワーク
ステージ４上に設けられた反射材４ａを利用してマスク
とワークステージの位置合わせを行っているので、前記
した実施例と同様、レーザ光源等を用いることなく、簡
単な手順でθ補正を行うことができる。また、マスクマ
ークＭＡＭの投影像をライン４１の所定の目盛り位置に
合わせることにより、ワークステージ４とマスクＭの相
対位置を合わせることができ、ワークＷ上の露光開始位
置を予め定められた位置に設定することができる。さら
に、上記反射材４ａを用いてマスクとワークのアライメ
ントを行っているので、前記した特願平７−２３９７８
３号で詳述したように、平行平面板を使用したり投影レ
ンズの特性等に依存することなく高精度な位置合わせを
行うことができる等の効果を得ることができる。
ステージ４上に設けられた反射材４ａを利用してマスク
とワークステージの位置合わせを行っているので、前記
した実施例と同様、レーザ光源等を用いることなく、簡
単な手順でθ補正を行うことができる。また、マスクマ
ークＭＡＭの投影像をライン４１の所定の目盛り位置に
合わせることにより、ワークステージ４とマスクＭの相
対位置を合わせることができ、ワークＷ上の露光開始位
置を予め定められた位置に設定することができる。さら
に、上記反射材４ａを用いてマスクとワークのアライメ
ントを行っているので、前記した特願平７−２３９７８
３号で詳述したように、平行平面板を使用したり投影レ
ンズの特性等に依存することなく高精度な位置合わせを
行うことができる等の効果を得ることができる。
【００３５】なお、上記実施例では、アライメントマー
ク用部分照明系ＭＡ１から露光光（非露光光）を照射し
て、マスクマークＭＡＭを反射材４ａ上に投影している
が、上記アライメントマーク用部分照明系ＭＡ１を設け
ず、露光光（非露光光）照射装置１から露光光（非露光
光）を照射して、上記マスクＭとワークステージ４の位
置合わせを行うようにしてもよい。また、上記実施例で
はマスクとワークステージの位置合わせのため、マスク
を移動させるようにしているが、マスクを移動させる代
わりにワークステージのＸＹ移動方向を変えるようにし
たり、マスクを移動させるとともにワークステージのＸ
Ｙ移動方向を変えるようにしてもよい。
ク用部分照明系ＭＡ１から露光光（非露光光）を照射し
て、マスクマークＭＡＭを反射材４ａ上に投影している
が、上記アライメントマーク用部分照明系ＭＡ１を設け
ず、露光光（非露光光）照射装置１から露光光（非露光
光）を照射して、上記マスクＭとワークステージ４の位
置合わせを行うようにしてもよい。また、上記実施例で
はマスクとワークステージの位置合わせのため、マスク
を移動させるようにしているが、マスクを移動させる代
わりにワークステージのＸＹ移動方向を変えるようにし
たり、マスクを移動させるとともにワークステージのＸ
Ｙ移動方向を変えるようにしてもよい。
【００３６】
【発明の効果】以上説明したように、本発明においては
以下の効果を得ることができる。 （１）ワークステージ上に、該ワークステージの移動方
向である互いに直交する２方向のいずれか一方と平行な
基準線を印した反射材を設け、光照射部より露光光もし
くは非露光光をマスクのアライメントマークに照射し
て、上記マスクのアライメントマーク像を、上記反射材
上に結像させ、上記反射材上に結像したマスクのアライ
メントマーク像が、上記基準線上に重なるようにマスク
および／またはワークステージを移動させるようにした
ので、レーザ光源等の大がかりな装置を用いることな
く、簡単な手順でθ補正を行うことができる。また、反
射材上に印された基準線にマスクのアライメントマーク
投影像を重ね合わせるようにしたので、マスク上のアラ
イメントマークの位置にかかわらずθ補正を行うことが
でき、アライメントマーク位置が異なる種々のマスクに
対応することができる。
以下の効果を得ることができる。 （１）ワークステージ上に、該ワークステージの移動方
向である互いに直交する２方向のいずれか一方と平行な
基準線を印した反射材を設け、光照射部より露光光もし
くは非露光光をマスクのアライメントマークに照射し
て、上記マスクのアライメントマーク像を、上記反射材
上に結像させ、上記反射材上に結像したマスクのアライ
メントマーク像が、上記基準線上に重なるようにマスク
および／またはワークステージを移動させるようにした
ので、レーザ光源等の大がかりな装置を用いることな
く、簡単な手順でθ補正を行うことができる。また、反
射材上に印された基準線にマスクのアライメントマーク
投影像を重ね合わせるようにしたので、マスク上のアラ
イメントマークの位置にかかわらずθ補正を行うことが
でき、アライメントマーク位置が異なる種々のマスクに
対応することができる。
【００３７】（２）上記基準線上に目盛り線を設け、マ
スクのアライメントマーク像が上記基準線上の所定の目
盛りと重なるようにマスクおよび／またはワークステー
ジを移動させるようにしたので、マスクマークの投影像
をラインの所定の目盛り位置に合わせることにより、ワ
ークステージとマスクの相対位置を合わせることがで
き、ワーク上の露光開始位置を予め定められた位置に設
定することができる。 （３）マスクマーク投影像とワークステージ上の反射材
に印された基準線とが重なるようにマスクおよび／また
はワークステージを移動させてθ補正を行っているの
で、マスクとワークステージの位置合わせのための光源
として、露光光でも非露光光でも使用することができ
る。 （４）ワークステージのワーク載置面以外の部分に基準
線が印された反射材を設けることにより、マスクとワー
クステージの位置合わせとともに、上記反射材を利用し
て、ワークステージ上に載置されたワークとマスクの位
置合わせを行うことができる。
スクのアライメントマーク像が上記基準線上の所定の目
盛りと重なるようにマスクおよび／またはワークステー
ジを移動させるようにしたので、マスクマークの投影像
をラインの所定の目盛り位置に合わせることにより、ワ
ークステージとマスクの相対位置を合わせることがで
き、ワーク上の露光開始位置を予め定められた位置に設
定することができる。 （３）マスクマーク投影像とワークステージ上の反射材
に印された基準線とが重なるようにマスクおよび／また
はワークステージを移動させてθ補正を行っているの
で、マスクとワークステージの位置合わせのための光源
として、露光光でも非露光光でも使用することができ
る。 （４）ワークステージのワーク載置面以外の部分に基準
線が印された反射材を設けることにより、マスクとワー
クステージの位置合わせとともに、上記反射材を利用し
て、ワークステージ上に載置されたワークとマスクの位
置合わせを行うことができる。
【図１】本発明の実施例の露光装置の全体構成を示す図
である。
である。
【図２】ワークステージの構成の一例を示す図である。
【図３】本発明の実施例の露光装置を制御するシステム
の構成を示す図である。
の構成を示す図である。
【図４】本発明の他の実施例のワークステージの構成を
示す図である。
示す図である。
【図５】マスクとワークステージ位置合わせ時のワーク
ステージの位置を示す図である。
ステージの位置を示す図である。
【図６】つなぎ合わせ精度を説明する図である。
【図７】従来のマスクとワークステージの位置合わせ方
法を説明する図である。
法を説明する図である。
【図８】図７の位置合わせで使用されるアライメントマ
ークの一例を示す図である。
ークの一例を示す図である。
１ 露光光（非露光光）照射装置 １ａ ランプ １ｂ 集光鏡 １ｃ シャッタ １ｄ 光学フィルタ １ｅ コンデンサレンズ ２ マスクステージ ７ａ 光ファイバ ７ｂ レンズ ７ｃ ミラー ３ 投影レンズ ４ ワークステージ ４ａ 反射材 ４１ 基準線（ライン） ４２ 目盛り線 ６ａ 光ファイバ ６ｂ レンズ ６ｃ ミラー ５ アライメントユニット ５ａ レンズ ５ｂ 対物レンズ ５ｃ，５ｅ ハーフミラー ５ｄ 画像センサ １１ 操作パネル １２ 演算装置 １３ ステージ制御部 １４ 画像処理部 １５ モニタ Ｍ マスク Ｗ ワーク ＭＡＭ アライメントマーク ＭＡ１ アライメントマーク用部分照明系 ＷＡ１ アライメントマーク用部分照明系
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｈ０１Ｌ 21/30 ５２５Ｘ ５２５Ｒ
Claims (4)
- 【請求項１】 ワークステージ上に、該ワークステージ
の移動方向である互いに直交する２方向のいずれか一方
と平行な基準線を印した反射材を設け、 光照射部より露光光もしくは非露光光をマスクのアライ
メントマークに照射して、上記マスクのアライメントマ
ーク像を、上記反射材上に結像させ、 上記結像したマスクのアライメントマーク像と、上記光
照射部より照射される露光光もしくは非露光光により照
明される反射部材上の基準線とを受像して両者の相対位
置を検出し、 上記マスクのアライメントマーク像が上記基準線上に重
なるようにマスクおよび／またはワークステージを移動
させることを特徴とするマスクとワークステージの位置
合わせ方法。 - 【請求項２】 ワークステージ上に、該ワークステージ
の移動方向である互いに直交する２方向のいずれか一方
と平行で、目盛り線が付された基準線を印した反射材を
設け、 光照射部より露光光もしくは非露光光をマスクのアライ
メントマークに照射し、 上記マスクのアライメントマーク像を、上記反射材上に
結像させ、 上記結像したマスクのアライメントマーク像と、上記光
照射部より照射される露光光もしくは非露光光により照
明される反射部材上の目盛り線が付された基準線とを受
像して両者の相対位置を検出し、 上記マスクのアライメントマーク像が上記基準線上の所
定の目盛りと重なるようにマスクおよび／またはワーク
ステージを移動させることを特徴とするマスクとワーク
ステージの位置合わせ方法。 - 【請求項３】 アライメントマークが印されたマスクと
上記マスクが載置され、該マスクを移動させるマスクス
テージと、 露光光もしくは非露光光を上記マスクのアライメントマ
ークに照射する光照射部と、 互いに直交する２方向に移動可能なワークステージと、 上記マスクのアライメントマーク像およびマスクパター
ンを上記ワークステージもしくはワークステージに載置
されたワーク上に投影する投影レンズと、 上記ワークステージ上に設けられ、その方向が上記ワー
クステージの移動方向である互いに直交する２方向のい
ずれか一方と平行な基準線が印されており、上記光照射
部から放出される露光光もしくは非露光光によるマスク
のアライメントマーク投影像が結像する反射材と、 上記反射材上に結像する上記マスクのアライメントマー
ク投影像を受像するとともに、上記光照射部より照射さ
れる露光光もしくは非露光光により照明される反射部材
上の基準線とを受像する受像手段と、 上記受像手段により受像した、上記光照射部から放出さ
れる露光光もしくは非露光光により上記反射材上に結像
するマスクのアライメントマーク投影像と、上記反射材
上に印された基準線の相対位置を検出し、マスクのアラ
イメントマーク投影像と上記基準線が重なるようにマス
クおよび／またはワークステージを移動させる制御手段
とを備えたことを特徴とするマスクとワークステージの
位置合わせ装置。 - 【請求項４】 アライメントマークが印されたマスクと
上記マスクが載置され、該マスクを移動させるマスクス
テージと、 露光光もしくは非露光光を上記マスクのアライメントマ
ークに照射する光照射部と、 互いに直交する２方向に移動可能なワークステージと、 上記マスクのアライメントマーク像およびマスクパター
ンを上記ワークステージもしくはワークステージに載置
されたワーク上に投影する投影レンズと、 上記ワークステージ上に設けられ、その方向が上記ワー
クステージの移動方向である互いに直交する２方向のい
ずれか一方と平行で、目盛りが付された基準線が印され
ており、上記光照射部から放出される露光光もしくは非
露光光によるマスクのアライメントマーク投影像が結像
する反射材と、 上記反射材上に結像する上記マスクのアライメントマー
ク投影像を受像するとともに、上記光照射部より照射さ
れる露光光もしくは非露光光により照明される反射部材
上の基準線とを受像する受像手段と、 上記受像手段により受像した、上記光照射部から放出さ
れる露光光もしくは非露光光により上記反射材上に結像
するマスクのアライメントマーク投影像と、上記反射材
上に印された基準線の相対位置を検出し、マスクのアラ
イメントマーク投影像と上記基準線上の所定の目盛りと
が重なるようにマスクおよび／またはワークステージを
移動させる制御手段とを備えたことを特徴とするマスク
とワークステージの位置合わせ装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8203577A JPH1048845A (ja) | 1996-08-01 | 1996-08-01 | マスクとワークステージの位置合わせ方法および装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8203577A JPH1048845A (ja) | 1996-08-01 | 1996-08-01 | マスクとワークステージの位置合わせ方法および装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH1048845A true JPH1048845A (ja) | 1998-02-20 |
Family
ID=16476421
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8203577A Pending JPH1048845A (ja) | 1996-08-01 | 1996-08-01 | マスクとワークステージの位置合わせ方法および装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH1048845A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6716204B1 (en) | 1998-10-28 | 2004-04-06 | The Procter & Gamble Company | Absorbent article with improved feces containment characteristics |
| KR100818402B1 (ko) | 2006-11-03 | 2008-04-01 | 동부일렉트로닉스 주식회사 | 노광장비의 웨이퍼 정렬장치 및 이를 이용한 방법 |
| CN102169294A (zh) * | 2010-02-26 | 2011-08-31 | 上海微电子装备有限公司 | 一种测量扫描光刻机中掩模台扫描倾斜的方法 |
| JP2011253864A (ja) * | 2010-06-01 | 2011-12-15 | Topcon Corp | 露光装置 |
| KR101255108B1 (ko) | 2012-11-08 | 2013-04-19 | 주식회사 프로이천 | 필름 위치 설정용 기준 라인을 갖는 글라스 블록 및 이를 갖는 필름 피치 조절 지그, 이를 갖는 필름 접합 장치, 이를 이용한 필름 피치 조절 방법 |
-
1996
- 1996-08-01 JP JP8203577A patent/JPH1048845A/ja active Pending
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6716204B1 (en) | 1998-10-28 | 2004-04-06 | The Procter & Gamble Company | Absorbent article with improved feces containment characteristics |
| KR100818402B1 (ko) | 2006-11-03 | 2008-04-01 | 동부일렉트로닉스 주식회사 | 노광장비의 웨이퍼 정렬장치 및 이를 이용한 방법 |
| CN102169294A (zh) * | 2010-02-26 | 2011-08-31 | 上海微电子装备有限公司 | 一种测量扫描光刻机中掩模台扫描倾斜的方法 |
| JP2011253864A (ja) * | 2010-06-01 | 2011-12-15 | Topcon Corp | 露光装置 |
| KR101255108B1 (ko) | 2012-11-08 | 2013-04-19 | 주식회사 프로이천 | 필름 위치 설정용 기준 라인을 갖는 글라스 블록 및 이를 갖는 필름 피치 조절 지그, 이를 갖는 필름 접합 장치, 이를 이용한 필름 피치 조절 방법 |
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