JP2001027813A - 露光方法およびその装置 - Google Patents

露光方法およびその装置

Info

Publication number
JP2001027813A
JP2001027813A JP11200642A JP20064299A JP2001027813A JP 2001027813 A JP2001027813 A JP 2001027813A JP 11200642 A JP11200642 A JP 11200642A JP 20064299 A JP20064299 A JP 20064299A JP 2001027813 A JP2001027813 A JP 2001027813A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
exposure
amount
correcting
limit value
deviation
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP11200642A
Other languages
English (en)
Inventor
Tatsuya Yamazaki
竜也 山崎
Tatsuhiko Asaka
達彦 浅香
Hitoshi Takeda
均 武田
Yuzuru Sasaki
譲 佐々木
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toshiba Corp
Original Assignee
Toshiba Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Toshiba Corp filed Critical Toshiba Corp
Priority to JP11200642A priority Critical patent/JP2001027813A/ja
Priority to TW089106917A priority patent/TW499630B/zh
Priority to KR1020000020253A priority patent/KR100542789B1/ko
Priority to CNB001082620A priority patent/CN1201205C/zh
Publication of JP2001027813A publication Critical patent/JP2001027813A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B66HOISTING; LIFTING; HAULING
    • B66CCRANES; LOAD-ENGAGING ELEMENTS OR DEVICES FOR CRANES, CAPSTANS, WINCHES, OR TACKLES
    • B66C1/00Load-engaging elements or devices attached to lifting or lowering gear of cranes or adapted for connection therewith for transmitting lifting forces to articles or groups of articles
    • B66C1/10Load-engaging elements or devices attached to lifting or lowering gear of cranes or adapted for connection therewith for transmitting lifting forces to articles or groups of articles by mechanical means
    • B66C1/42Gripping members engaging only the external or internal surfaces of the articles
    • B66C1/44Gripping members engaging only the external or internal surfaces of the articles and applying frictional forces
    • B66C1/445Gripping members engaging only the external or internal surfaces of the articles and applying frictional forces motor actuated
    • B66C1/447Gripping members engaging only the external or internal surfaces of the articles and applying frictional forces motor actuated by hydraulic or pneumatic motors
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B66HOISTING; LIFTING; HAULING
    • B66CCRANES; LOAD-ENGAGING ELEMENTS OR DEVICES FOR CRANES, CAPSTANS, WINCHES, OR TACKLES
    • B66C23/00Cranes comprising essentially a beam, boom, or triangular structure acting as a cantilever and mounted for translatory of swinging movements in vertical or horizontal planes or a combination of such movements, e.g. jib-cranes, derricks, tower cranes
    • B66C23/18Cranes comprising essentially a beam, boom, or triangular structure acting as a cantilever and mounted for translatory of swinging movements in vertical or horizontal planes or a combination of such movements, e.g. jib-cranes, derricks, tower cranes specially adapted for use in particular purposes
    • B66C23/36Cranes comprising essentially a beam, boom, or triangular structure acting as a cantilever and mounted for translatory of swinging movements in vertical or horizontal planes or a combination of such movements, e.g. jib-cranes, derricks, tower cranes specially adapted for use in particular purposes mounted on road or rail vehicles; Manually-movable jib-cranes for use in workshops; Floating cranes
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B66HOISTING; LIFTING; HAULING
    • B66CCRANES; LOAD-ENGAGING ELEMENTS OR DEVICES FOR CRANES, CAPSTANS, WINCHES, OR TACKLES
    • B66C2700/00Cranes
    • B66C2700/03Cranes with arms or jibs; Multiple cranes
    • B66C2700/0321Travelling cranes
    • B66C2700/0357Cranes on road or off-road vehicles, on trailers or towed vehicles; Cranes on wheels or crane-trucks

Abstract

(57)【要約】 【課題】 効率を低下させることなく精度を確保した露
光方法およびその装置を提供する。 【解決手段】 ずれ量が露光後切換値以上で中断限度値
より小さい場合には、通常動作で長尺状の鉄板1の一連
のサイクルを終え、その後ガラス乾板6,7の位置ずれ
を修正するため、必要な精度を確保した上で所定時間内
に一連の鉄板1を露光処理できる。ずれ量が露光後切換
値および中断限度値以上の場合には、一旦露光を中断し
てガラス乾板6,7位置ずれ量を補正した後、その後通
常どおり長尺状の鉄板1を処理するため、必要以上の回
数でずれ量を補正しないため所定時間内に一連の鉄板1
を露光処理できる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、露光対象物を2枚
の原板で挟持して露光する露光方法およびその装置に関
する。
【0002】
【従来の技術】従来、露光方法はたとえばカラー受像管
のシャドウマスクの製造で用いられており、このカラー
受像管のシャドウマスクの製造では、図6および図8に
示すように、露光対象物である長尺状の鉄板1を両面か
ら酸でエッチングして、大孔2aおよび小孔2bを両面から
形成して貫通した多数の穴2を精度よく設ける必要があ
る。
【0003】そのため、図7および図9に示すように、
鉄板1の両面に感光剤3を塗布し、この鉄板1に大孔2a
が形成されている露光パターン4および小孔2bが形成さ
れている露光パターン5を内面に描画してある2枚のガ
ラス乾板6,7で挟持して密着させ、ガラス乾板6,7
の両面から水銀ランプによる紫外線を照射して感光剤3
を感光させ、現像して感光剤3の感光していない部分を
除去した後、酸でエッチングしている。
【0004】そして、露光の際に、大孔2aの露光パター
ン4と小孔2bの露光パターン5の相対位置がずれている
と、酸でエッチングしたときに、穴2の形状が所定の形
状からずれたり、甚しい場合には穴2が貫通しないとい
う現象が起こる。
【0005】従来、たとえば特開平3−214536号
公報に記載のように、露光の際の2枚のガラス乾板6,
7の位置関係の調整は、鉄板1のない状態で2枚のガラ
ス乾板6,7の位置をこれら乾板6,7の露光パターン
4,5の重なり具合で調整し、鉄板1を2枚のガラス乾
板6,7の間に通して、鉄板1の上下の余白部にガラス
乾板6,7に位置決め用のアライメントマークを数個つ
けて、各露光処理の前にこれらアライメントマークのず
れを測定するアライメント測定をして、ガラス乾板6,
7の位置ずれを補正している。
【0006】また、シャドウマスクの製造に用いる露光
装置は、図8および図9に示すように、鉄板1の両端を
ドラム8に巻回され、この鉄板1に対して、順次、露光
を繰り返している。
【0007】そして、具体的には、たとえば図10に示
すように、2枚のガラス乾板6,7の位置を合わせ(ス
テップ1)、真空にしてガラス乾板6,7を密着させ
(ステップ2)、ガラス乾板6,7のアライメントマー
クのずれ量を測定する(ステップ3)。
【0008】次に、このアライメントマークのずれ量が
中断限度値より小さいと判断されると(ステップ4)、
露光処理し(ステップ5)、ガラス乾板6,7の密着を
破壊し(ステップ6)、2枚のガラス乾板6,7を解放
し(ステップ7)、鉄板1を一定量送り(ステップ
8)、終了か否かを判断し(ステップ9)、終了の場合
には終了し、終了でない場合にはステップ1に戻る。
【0009】また、ステップ3でアライメントマークの
ずれ量が中断限度値以上であると判断された場合には
(ステップ11)、ガラス乾板6,7の密着を破壊し(ス
テップ12)、2枚のガラス乾板6,7を解放し(ステッ
プ13)、ガラス乾板6,7のずれ量を補正し(ステップ
14)、再試行でずれ量が設定値以下であるかを確認し
(ステップ15)、設定値以下の場合にはステップ1に戻
る。
【0010】
【発明が解決しようとする課題】ところが、ドラム8に
巻かれた鉄板1に対する露光は、700回程度の感光を
1〜2日かけて繰り返すため、途中で何らかの理由でガ
ラス乾板6,7の位置ずれが起っても、鉄板1を装着し
た後はガラス乾板6,7の露光パターン4,5のずれの
観察ができないため、不良品を多量に生産してしまうお
それがある。
【0011】また、ガラス乾板6,7の位置ずれを補正
しても、露光の輻射熱によりたとえばガラス乾板6,7
の温度が上昇すると、たとえば1m角のガラス乾板6,
7は縦横それぞれ160μmづつ膨張するとともに、露
光の際毎に密着しているガラス乾板6,7の間隔を広げ
る動作により、ガラス乾板6,7の露光を高精度に保つ
ためには、露光処理前毎にアライメント測定と、アライ
メント測定でガラス乾板6,7がずれているとされた場
合の位置ずれの補正動作が必要になる。
【0012】一方、ガラス乾板6,7のアライメントマ
ークを露光の前に毎回測定するため、ずれが許容される
規格値を性能限度近くに設定しておくと、その都度補正
動作に移行してしまい露光動作が進まずに効率が低下し
てしまう問題を有している。
【0013】本発明は、上記問題点に鑑みなされたもの
で、効率を低下させることなく精度を確保した露光方法
およびその装置を提供することを目的とする。
【0014】
【課題を解決するための手段】本発明は、両面に感光剤
を塗布した露光対象物を露光パターンを形成した2枚の
原板で挟持し、露光前にこれら2枚の原板のずれ量を検
出し、この検出されたずれ量を、あらかじめ設定されて
いる露光処理を中断して位置ずれ量を修正する中断限度
値、および、この中断限度値より小さくそのまま露光処
理して露光処理後に位置ずれを修正する露光後切換値と
比較し、ずれ量が中断限度値より大きい場合にはずれ修
正した後露光処理し、ずれ量が中断限度値以下の場合に
は露光処理した後ずれ修正するもので、露光後切換値よ
りずれ量が小さい場合には、そのまま露光処理して露光
処理後に位置づれを修正し、露光後切換値よりずれ量が
大きい場合には、露光処理を中断して位置づれを修正し
た後に露光処理することにより、ずれ量が比較的に小さ
い場合にはそのまま露光処理し補正の回数を減らして効
率の低下を抑制し、ずれ量が大きい場合には露光処理を
中断して補正した後露光処理をすることにより、精度の
低下を防止する。
【0015】また、原板は位置決め用のアライメントマ
ークを画像認識してずれ量を検出するもので、簡単にず
れ量を検出する。
【0016】さらに、長尺状の露光対象物を一定量づつ
送り出して露光するもので、長尺状のものを順次全体に
露光する。
【0017】またさらに、中断限度値以下の場合には長
尺状の露光対象物すべて一連に露光した後にずれ修正す
るもので、ずれ量が小さい場合には長尺状の露光対象物
すべてを露光した後にずれ量を修正することにより、効
率を低下させることなく精度を維持する。
【0018】
【発明の実施の形態】以下、本発明の露光装置の一実施
の形態を図面を参照して説明する。なお、図6ないし図
10で示す従来例に対応する部分には同一符号を付して
説明する。
【0019】図2に示すように、矩形状の枠11,12はそ
れぞれ原板としてのガラス乾板6,7を保持しており、
その間を両端が供給手段であるドラム8に巻回された長
尺の鉄板1が移動する。
【0020】そして、これらの枠11,12は図示しない挟
持手段により開閉可能で、離間したり接近したりでき、
閉じることにより、ガラス乾板6,7を鉄板1の両面に
重ね合わせて挟持し、ガラス乾板6,7の中を真空にす
ることによって、ガラス乾板6,7を鉄板1の両面の感
光剤3に密着でき、両面から露光手段としての図示しな
い水銀ランプにより露光して感光剤3を感光させる。
【0021】また、2枚のガラス乾板6,7のそれぞれ
の鉄板1を挾持しない部分の内面の2箇所には、図4に
示す位置決めパターン15,16あるいは図5に示す位置決
めパターン17,18が描画または貼付けにより相対向して
形成され、この2箇所の位置を挟むようにして、図3に
示すように、一方のガラス乾板6の外側に撮像装置とし
てのCCDカメラ20,21が配設されているとともに、他
方のガラス乾板7の外側に照明用の光源22,23が配設さ
れており、CCDカメラ20,21の画像信号は、検出手段
および制御手段としての演算装置24に入力される。
【0022】さらに、一方のガラス乾板6を保持した枠
11の下側の長辺部の外側の2箇所にモータ26,27によっ
て駆動するずれ量修正手段としてのずれ量修正機構28,
29が取付けられているとともに、枠11の一側の短辺部の
外側にモータ30によって駆動するずれ量修正手段として
のずれ量修正機構31が取付けられ、それぞれのずれ量修
正機構28,29,31によって枠11を押したり引いたりでき
るようになっており、これらのずれ量修正機構28,29,
31は演算装置24によって制御される。
【0023】また、各ずれ量修正機構28,29,31に対向
して、枠11の上側の長辺部の外側の2箇所に修正量測定
機構34,35が取り付けられているとともに、枠11の他側
の短辺部の外側に修正量測定機構36が取り付けられ、そ
れぞれの修正量測定機構34,35,36によって対向したず
れ量修正機構28,29,31による実際の枠11の移動量を測
定できるようになっており、これらの修正量測定機構3
4,35,36の測定結果は演算装置24に入力される。
【0024】そうして、このような構成により、CCD
カメラ20,21で図4に示す位置決めパターン15,16ある
いは図5に示す位置決めパターン17,18を撮像して、演
算装置24において、位置決めパターン15,16あるいは位
置決めパターン17,18のずれを検出するとともに、その
ずれ量を計算し、算出したずれ量に基づいて、それぞれ
の修正量測定機構34,35,36によって実際の枠11の移動
量を測定しながら、それぞれのずれ量修正機構28,29,
31によって一方の枠11を押したり引いたりして一方のガ
ラス乾板6を他方のガラス乾板7に対して面方向に移動
することにより、2枚のガラス乾板6,7の露光パター
ン4,5のずれを修正することができる。
【0025】なお、この場合、2枚のガラス乾板6,7
の間には鉄板1の厚みに比例した隙間ができるので、両
方の位置決めパターン15,16あるいは位置決めパターン
17,18を好ましくは同時に撮像するため、CCDカメラ
20,21には、被写界深度が0.25mm以上ある光学系
を設定する必要がある。
【0026】つぎに、演算装置24によるずれの算出方法
を説明する。
【0027】まず、図4に示す位置決めパターン15,16
は、2枚のガラス乾板6,7のそれぞれに大きさとピッ
チを変えて多数配置した黒点である。
【0028】この位置決めパターン15,16を使用した場
合、どちらのガラス乾板6,7につけられた黒点かは、
大きさで判断でき、ピッチが異なるため、1mm以内の
所で、両方の黒点の重なっていない測定しやすい部分41
があるので装置を設定し易い。
【0029】また、図5に示す位置決めパターン17,18
は、一方のガラス乾板6に位置決めパターン17,17とし
て一対の黒点を上下に表示するとともに、他方のガラス
乾板7に位置決めパターン18,18として一対の黒点を左
右に表示した例である。
【0030】前述の図4の位置決めパターン15,16を用
いる方法は、実際の鉄板1の露光上で重要な大きい露光
パターン4や小さい露光パターン5と位置決めパターン
15,16との位置関係を一定に設定できない場合の例であ
ったが、この図5の位置決めパターン17,18は、大きい
露光パターン4や小さい露光パターン5と位置決めパタ
ーン17,18との位置関係を一定に設定できる場合の例で
ある。
【0031】すなわち、この図5に示す例では、2枚の
ガラス乾板6,7上の位置決めパターン17,18を一定の
位置関係に合わせると、自動的に、大きい露光パターン
4と小さい露光パターン5の位置決めができる。
【0032】また、演算装置24には、あらかじめ設定さ
れている露光処理を中断して位置ずれ量を修正するたと
えば2μmの中断限度値、および、この中断限度値より
小さくそのまま露光処理して露光処理後に位置ずれを修
正するたとえば6μmの露光後切換値を設定しておく。
【0033】そして、具体的には、演算装置24では、た
とえば図1に示すように、2枚のガラス乾板6,7の位
置を合わせ(ステップ21)、真空にしてガラス乾板6,
7を密着させ(ステップ22)、ガラス乾板6,7のアラ
イメントマークのずれ量を測定する(ステップ23)。
【0034】次に、このアライメントマークのずれ量が
露光後切換値および中断限度値より小さい、たとえば1
μmであると判断されると(ステップ24)、露光処理し
(ステップ25)、ガラス乾板6,7の密着を破壊し(ス
テップ26)、2枚のガラス乾板6,7を解放し(ステッ
プ27)、鉄板1を一定量送り(ステップ28)、終了か否
かを判断し(ステップ29)、終了の場合には終了し、終
了でない場合にはステップ1に戻る。
【0035】また、ステップ23でアライメントマークの
ずれ量が中断限度値以上露光後切換値より小さい、たと
えば4μmであると判断された場合には(ステップ3
1)、ガラス乾板6,7の密着を破壊し(ステップ3
2)、2枚のガラス乾板6,7を解放し(ステップ3
3)、ガラス乾板6,7のずれ量を補正するとともに鉄
板1を一定量送り(ステップ34)、終了か否かを判断し
(ステップ35)、終了の場合には終了し、終了でない場
合にはステップ1に戻る。
【0036】さらに、ステップ23でアライメントマーク
のずれ量が中断限度値以上で露光後切換値以上、たとえ
ば7μmであると判断された場合には(ステップ41)、
ガラス乾板6,7の密着を破壊し(ステップ42)、2枚
のガラス乾板6,7を解放し(ステップ43)、ガラス乾
板6,7のずれ量を補正し(ステップ44)、再試行でず
れ量が設定値以下であるかを確認し(ステップ45)、設
定値以下の場合にはステップ1に戻る。
【0037】上述のように、ずれ量が露光後切換値およ
び中断限度値より小さい場合には、通常動作で長尺状の
鉄板1の一連のサイクルを終えるため、必要な精度を確
保した上で所定時間内に一連の鉄板1を露光処理でき
る。
【0038】また、ずれ量が露光後切換値以上で中断限
度値より小さい場合には、通常動作で長尺状の鉄板1の
一連のサイクルを終え、その後ガラス乾板6,7の位置
ずれを修正するため、必要な精度を確保した上で所定時
間、たとえば30時間以内に一連の鉄板1を露光処理で
きる。
【0039】さらに、ずれ量が露光後切換値および中断
限度値以上の場合には、一旦露光を中断してガラス乾板
6,7の位置ずれ量を補正した後、その後通常どおり長
尺状の鉄板1を処理するため、必要以上の回数でずれ量
を補正しないため所定時間内に一連の鉄板1を露光処理
できる。
【0040】このように、中断限度値および露光後切換
値の2つの基準値を設け、それぞれ必要に応じて対応す
ることにより、大きく効率を低下させることなく、ま
た、精度も低下させることなく露光できる。
【0041】
【発明の効果】本発明によれば、露光後切換値よりずれ
量が小さい場合には、そのまま露光処理して露光処理後
に位置づれを修正し、露光後切換値よりずれ量が大きい
場合には、露光処理を中断して位置づれを修正した後に
露光処理することにより、ずれ量が比較的に小さい場合
にはそのまま露光処理し補正の回数を減らして効率の低
下を抑制し、ずれ量が大きい場合には露光処理を中断し
て補正した後露光処理をすることにより、精度の低下を
防止できる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の露光装置の一実施の形態を示すフロー
チャートである。
【図2】同上露光装置を示す斜視図である。
【図3】同上光源装置およびCCDカメラの関係を示す
側面図である。
【図4】同上パターンのずれ量の関係を示す説明図であ
る。
【図5】同上他のパターンのずれ量の関係を示す説明図
である。
【図6】従来例のシャドウマスクの断面図である。
【図7】同上露光時の状態の断面図である。
【図8】同上露光装置を示す斜視図である。
【図9】同上他の角度から見た斜視図である。
【図10】同上動作を示すフローチャートである。
【符号の説明】
1 露光対象物である鉄板 6,7 原板としてのガラス乾板 8 供給手段であるドラム 24 検出手段および制御手段としての演算装置 28,29,31 ずれ量修正手段としてのずれ量修正機構
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 武田 均 埼玉県深谷市幡羅町一丁目9番地2号 株 式会社東芝深谷工場内 (72)発明者 佐々木 譲 埼玉県深谷市幡羅町一丁目9番地2号 株 式会社東芝深谷工場内 Fターム(参考) 2H097 BA03 KA13 KA20 LA05 5C027 HH09

Claims (8)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 両面に感光剤を塗布した露光対象物を露
    光パターンを形成した2枚の原板で挟持し、 露光前にこれら2枚の原板のずれ量を検出し、 この検出されたずれ量を、あらかじめ設定されている露
    光処理を中断して位置ずれ量を修正する中断限度値、お
    よび、この中断限度値より小さくそのまま露光処理して
    露光処理後に位置ずれを修正する露光後切換値と比較
    し、 ずれ量が中断限度値より大きい場合にはずれ修正した後
    露光処理し、 ずれ量が中断限度値以下の場合には露光処理した後ずれ
    修正することを特徴とする露光方法。
  2. 【請求項2】 原板は位置決め用のアライメントマーク
    を画像認識してずれ量を検出することを特徴とする請求
    項1記載の露光方法。
  3. 【請求項3】 長尺状の露光対象物を一定量づつ送り出
    して露光することを特徴とする請求項1または2記載の
    露光方法。
  4. 【請求項4】 中断限度値以下の場合には長尺状の露光
    対象物すべて一連に露光した後にずれ修正することを特
    徴とする請求項1ないし3いずれか記載の露光方法。
  5. 【請求項5】 両面に感光剤を塗布した露光対象物を露
    光パターンを形成した2枚の原板で挟持させる挟持手段
    と、 露光対象物を露光させる露光手段と、 露光前にこれら挟持手段で挟持された2枚の原板のずれ
    量を検出する検出手段と、 原板および露光対象物のずれ量を修正するずれ量修正手
    段と、 この検出されたずれ量を、あらかじめ設定されている露
    光処理を中断して位置ずれ量を修正する中断限度値、お
    よび、この中断限度値より小さくそのまま露光処理して
    露光処理後に位置ずれを修正する露光後切換値と比較
    し、ずれ量が中断限度値より大きい場合には前記ずれ量
    修正手段でずれ修正した後前記露光手段で露光処理さ
    せ、ずれ量が中断限度値以下の場合には前記露光手段で
    露光処理した後ずれ量修正手段でずれ修正させる制御手
    段とを具備したことを特徴とする露光装置。
  6. 【請求項6】 原板は位置決め用のアライメントマーク
    を有し、 検出手段は、これらアライメントマークを認識する画像
    認識手段を有することを特徴とする請求項5記載の露光
    装置。
  7. 【請求項7】 露光対象物は長尺で、 長尺状の露光対象物を一定量づつ供給する供給手段を具
    備し、 この供給手段で一定づつ露光対象物を供給して露光手段
    で露光することを特徴とする請求項5または6記載の露
    光装置。
  8. 【請求項8】 露光対象物は長尺で、 制御手段は、中断限度値以下の場合には長尺の露光対象
    物を一連に露光して交換する際にずれ量修正手段でずれ
    修正させることを特徴とする請求項5ないし7いずれか
    記載の露光装置。
JP11200642A 1999-07-14 1999-07-14 露光方法およびその装置 Pending JP2001027813A (ja)

Priority Applications (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP11200642A JP2001027813A (ja) 1999-07-14 1999-07-14 露光方法およびその装置
TW089106917A TW499630B (en) 1999-07-14 2000-04-13 Aligning method and aligner
KR1020000020253A KR100542789B1 (ko) 1999-07-14 2000-04-18 노광 방법 및 그 장치
CNB001082620A CN1201205C (zh) 1999-07-14 2000-04-26 曝光方法及其装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP11200642A JP2001027813A (ja) 1999-07-14 1999-07-14 露光方法およびその装置

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2001027813A true JP2001027813A (ja) 2001-01-30

Family

ID=16427797

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP11200642A Pending JP2001027813A (ja) 1999-07-14 1999-07-14 露光方法およびその装置

Country Status (4)

Country Link
JP (1) JP2001027813A (ja)
KR (1) KR100542789B1 (ja)
CN (1) CN1201205C (ja)
TW (1) TW499630B (ja)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100429635B1 (ko) * 2001-11-01 2004-05-03 엘지전자 주식회사 섀도우 마스크 제작을 위한 글라스 제조장치 및 그 제조방법
CN114185187A (zh) * 2021-09-23 2022-03-15 浙江泰嘉光电科技有限公司 一种基于spc控制液晶屏滤光片曝光偏移量的系统

Families Citing this family (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3652329B2 (ja) * 2002-06-28 2005-05-25 キヤノン株式会社 走査露光装置、走査露光方法、デバイス製造方法およびデバイス
JP4005881B2 (ja) * 2002-08-30 2007-11-14 株式会社東芝 露光装置の検査方法
TW201200948A (en) 2010-06-22 2012-01-01 Au Optronics Corp Pixel structure and method for manufacturing the same
CN101893797A (zh) * 2010-07-01 2010-11-24 友达光电股份有限公司 画素结构及其制作方法

Family Cites Families (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS63116140A (ja) * 1986-11-04 1988-05-20 Toshiba Corp パタ−ン製作装置
JP3034273B2 (ja) * 1989-10-07 2000-04-17 株式会社東芝 露光方法及び露光装置
JP3062390B2 (ja) * 1994-04-22 2000-07-10 大日本スクリーン製造株式会社 シャドウマスク用パターン版製造装置及び製造方法
JPH10214562A (ja) * 1997-01-30 1998-08-11 Toppan Printing Co Ltd シャドウマスクの製造方法
JPH11339653A (ja) * 1998-05-27 1999-12-10 Toppan Printing Co Ltd シャドウマスクの露光状態観測装置

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100429635B1 (ko) * 2001-11-01 2004-05-03 엘지전자 주식회사 섀도우 마스크 제작을 위한 글라스 제조장치 및 그 제조방법
CN114185187A (zh) * 2021-09-23 2022-03-15 浙江泰嘉光电科技有限公司 一种基于spc控制液晶屏滤光片曝光偏移量的系统

Also Published As

Publication number Publication date
CN1281165A (zh) 2001-01-24
TW499630B (en) 2002-08-21
KR20010014751A (ko) 2001-02-26
KR100542789B1 (ko) 2006-01-11
CN1201205C (zh) 2005-05-11

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR101136444B1 (ko) 노광 방법 및 노광 장치
US7563561B2 (en) Pattern forming method and a semiconductor device manufacturing method
JP2001027813A (ja) 露光方法およびその装置
JP3034273B2 (ja) 露光方法及び露光装置
JPH08130180A (ja) 露光方法
US9563118B2 (en) Photomask, method of manufacturing photomask and exposure apparatus
TWI772549B (zh) 兩面曝光裝置及兩面曝光方法
JP2001022098A (ja) 露光装置におけるアライメント装置、被露光基板、及びアライメントマーク
JP2009216861A (ja) 帯状ワークの露光方法および露光装置
JP4390512B2 (ja) 露光方法及びその方法で用いられる基板のアライメント方法
JP4775076B2 (ja) 露光方法及び装置
JP5002871B2 (ja) 露光装置
US5288729A (en) Exposing method and apparatus
JP2005292323A (ja) マスクレス露光装置の露光方法およびマスクレス露光装置
JPH0267713A (ja) 多重露光方法
JPH04299332A (ja) フィルム露光方法
JP2005129786A (ja) 露光装置
JP2021096338A (ja) 露光装置、露光方法、および物品製造方法
JP2020190638A (ja) パターン形成方法
JPH0496213A (ja) X線露光装置
KR20100078254A (ko) 롤과 플레이트의 정렬 시스템
JPS63116140A (ja) パタ−ン製作装置
JPS63184328A (ja) 露光装置
JPS62166518A (ja) 半導体露光方法
JP2007316537A (ja) ステップ式近接露光方法